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하기 화학식 1로 표시되는 화합물 또는 이의 약제학적으로 허용 가능한 염이 활성성분으로 포함되어 있으며, 하기 (1), (2), (3) 및 (4)의 약물로 이루어진 군으로부터 선택된 약물의 독성감소용 약학적 조성물 :[화학식 1](상기 화학식 1에서, Y는 -CH2-, -C(O)- 또는 -SO2-이고; X는 할로겐 원자이고; R1은 수소원자 및 할로겐원자 중에서 선택되고; n은 치환기 R1의 개수로서 1 내지 3의 정수이다)(1) 씨프로프록사신 (ciprofloxacin), 플루오로키놀론 (fluoroquinolones), 플루복사민 (fluvoxamine), 베라파밀 (verapamil), 씨메티딘 (cimetidine), 카페인, 아미오다론 (amiodarone), 미베프라딜 (mibefradil)로 이루어진 군으로부터 선택된 CYP1A2의 활성 저하로 독성을 유발하는 약물;(2) 플루옥세틴 (fluoxetine), 파록세틴 (paroxetine), 부프로피온 (bupropion), 퀴니딘 (quinidine), 씨나칼셋 (cinacalcet), 리토나비르 (ritonavir), 세르트라린 (sertraline), 듀록세틴 (duloxetine), 테르비나핀 (terbinafine), 부프레노르핀 (buprenorphine), 아미오다론 (amiodarone), 씨메티딘 (cimetidine)로 이루어진 군으로부터 선택된 CYP2D6의 활성 저하로 독성을 유발하는 약물;(3) 플루코나졸 (fluconazole), 아미오다론 (amiodarone), 페노피프레이트 (fenofibrate), 플루바스타틴 (fluvastatin), 플루복사민 (fluvoxamine), 이소니아지드 (isoniazid), 로바스타틴 (lovastatin), 페닐부타존 (phenylbutazone), 프로페니시드 (probenicid), 세르트라린 (sertraline), 설파메톡사졸 (sulfamethoxazole), 설파페나졸 (sulfaphenazole), 테니포시드 (teniposide), 보리코나졸 (voriconazole), 자피르루카스트 (zafirlukast)로 이루어진 군으로부터 선택된 CYP2C9의 활성 저하로 독성을 유발하는 약물; (4) 란소프라졸 (lansoprazole), 오페프라졸 (omeprazole), 판토프라졸 (pantoprazole), 라베프라졸 (rabeprazole), 크로라페니콜 (chloramphenicol), 씨메티딘 (cimetidine), 펠바메이트 (felbamate), 플루옥세틴 (fluoxetine), 플루복사민 (fluvoxamine), 인도메타신 (indomethacin), 케토코나졸 (ketoconazole), 모다피닐 (modafinil), 옥스카바제핀 (oxcarbazepine), 프로페니시드 (probenicid), 티클로피딘 (ticlopidine), 토피라메이트 (topiramate)로 이루어진 군으로부터 선택된 CYP2C19의 활성 저하로 독성을 유발하는 약물
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제 1 항에 있어서,상기 화학식 1에서 Y는 -CH2-이고; X는 F 이고; R1은 F 및 Cl 중에서 선택되고; n은 1 또는 2의 정수인 것을 특징으로 하는 약물의 독성감소용 약학적 조성물
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제 1 항에 있어서,상기 화학식 1에서 Y는 -C(O)-이고; X는 F 또는 Cl이고; R1은 F 및 Cl 중에서 선택되고; n은 1 또는 2의 정수인 것을 특징으로 하는 약물의 독성감소용 약학적 조성물
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제 1 항에 있어서,상기 화학식 1에서 Y는 -SO2-이고; X는 F 이고; R1은 F 및 Cl 중에서 선택되고; n은 1 또는 2의 정수인 것을 특징으로 하는 약물의 독성감소용 약학적 조성물
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제 1 항에 있어서,4-(2-(3,4-디클로로벤질옥시)-5-플루오로페닐)-1-(1-(4-플루오로벤질)피롤리딘-3-일)-1H-1,2,3-트리아졸;(3-(4-(2-(3,4-디클로로벤질옥시)-5-플루오로페닐)-1H-1,2,3-트리아졸-1-일)피롤리딘-1-일)(4-플루오로페닐)메타논;(4-클로로페닐)(3-(4-(2-(3,4-디클로로벤질옥시)-5-플루오로페닐)-1H-1,2,3-트리아졸-1-일)피롤리딘-1-일)메타논;4-(2-(3,4-디클로로벤질옥시)-5-플루오로페닐)-1-(1-((4-플루오로페닐)설포닐)피롤리딘-3-일)-1H-1,2,3-트리아졸;4-(5-클로로-2-(3,4-디클로로벤질옥시)페닐)-1-(1-(4-플루오로벤질)피롤리딘-3-일)-1H-1,2,3-트리아졸;(3-(4-(5-클로로-2-(3,4-디클로로벤질옥시)페닐)-1H-1,2,3-트리아졸-1-일)피롤리딘-1-일)(4-플루오로페닐)메타논; 및4-(5-클로로-2-(3,4-디클로로벤질옥시)페닐)-1-(1-((4-플루오로페닐)설포닐)피롤리딘-3-일)-1H-1,2,3-트리아졸; 중에서 선택된 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 약물의 독성감소용 약학적 조성물
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제 1 항 내지 제 5 항 중에서 선택된 어느 한 항에 있어서,알츠하이머병, 파킨슨병, 헌팅톤병, 허혈성 뇌질환, 당뇨병, 정신분열증 치료 및 예방제로 유용한 것을 특징으로 하는 약물의 독성감소용 약학적 조성물
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하기 ⅰ), ⅱ) 및 ⅲ)과정을 포함하는 4-(2-벤질옥시페닐)-1-(피롤리딘-3-일)-1,2,3-트리아졸 화합물의 제조방법 :ⅰ) 하기 화학식 7로 표시되는 피롤리디닐 아자이드 화합물과 하기 화학식 8로 표시되는 에티닐트리플루오로보레이트 화합물을 1,3-고리화 반응시켜, 하기 화학식 2로 표시되는 화합물을 제조하는 과정;(상기 반응식에서, A는 알칼리금속원자이고, Boc는 tert-부톡시카보닐기이다)ⅱ) 하기 화학식 2로 표시되는 화합물과 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물을 반응시켜, 하기 화학식 4로 표시되는 화합물을 제조하는 과정; 및(상기 반응식에서, A는 알칼리금속원자이고, Boc는 tert-부톡시카보닐기이고, X는 할로겐 원자이다)ⅲ) 하기 화학식 4로 표시되는 화합물은 아민 보호기인 Boc를 제거한 후에, 하기 화학식 5로 표시되는 화합물과 반응시켜, 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 제조하는 과정;(상기 반응식에서, Boc는 tert-부톡시카보닐기이고, X 및 Z는 서로 같거나 다른 할로겐원자이고, Y는 -CH2-, -C(O)- 또는 -SO2-이고, R1은 할로겐원자 중에서 선택되고, n은 치환기 R1의 개수로서 1 내지 3의 정수이다)
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