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다공성 지지체 및 상기 지지체 위에 형성되어 있는 고분자 선택층을 포함하는 TFC(thin film composite) 분리막에 있어서,상기 지지체와 고분자 선택층 사이에 상기 지지체의 기공을 폐쇄하는 필름형태의 중간층을 포함하고,상기 선택층은 단일층(monolayer)인 것을 특징으로 하는 분리막
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제1항에 있어서, 상기 다공성 지지체는 정밀여과(MF)막 또는 한외여과(UF)막인 것을 특징으로 하는 분리막
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제1항에 있어서, 상기 중간층은 LBL(layer-by-layer assembly)법으로 제조되는 것을 특징으로 하는 분리막
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제1항에 있어서, 상기 선택층은 계면 중합법(interfacial polymerization)으로 제조된 것을 특징으로 하는 분리막
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제1항에 있어서, 상기 다공성 지지체는 5 nm 내지 10 ㎛의 공극 크기를 갖는 것인 분리막
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제1항에 있어서, 상기 중간층은 1 nm이하의 공극 크기를 갖는 것인 분리막
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제1항에 있어서, 상기 선택층은 그 두께가 50 nm 이내인 것을 특징으로 하는 분리막
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제1항에 있어서, 상기 선택층은 그 외부 표면에 요철이 없는 것을 특징으로 하는 분리막
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제1항에 있어서, 상기 다공성 지지체는 폴리아크릴로니트릴(Polyacrylonitri1e), 폴리술폰(Polysulfone), 폴리카보네이트(Polycarbonate), 셀룰로오스(Cellulose), 셀룰로오스 아세테이트(Cellulose Acetate), 폴리에테르술폰(Polyethersulfone), 폴리비닐피롤리돈(Polyvinylpyrrolidone), 라미네이트 폴리술폰(Laminated Polysulfone), 폴리테트라플루오로에틸렌(Polytetrafluoroethylene), 불화 폴리비닐리덴(Polyvinylidene Fluoride), 폴리프로필렌(Polypropylene), 염화 폴리 비닐(Poly Vinyl Chloride), 폴리에테르이미드, 폴리페닐렌 설파이드 및 폴리에테르에테르케톤으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 이상의 고분자 성분을 함유하는 것을 특징으로 하는 분리막
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제1항에 있어서, 상기 중간층은 폴리에틸렌이민(Polyethylenimine), 폴리아크릴산(Poly acrylic acid), 폴리 아크릴아미드-코-디알릴디메틸암모늄 클로라이드(Poly acrylamide-co-diallyldimethylammonium chloride), 폴리 2-아크릴아미도-2-메틸-1-프로판 설폰산(Poly 2-acrylamido-2-methyl-1-propanesulfonic acid), 폴리(2-아크릴아미도-2-메틸-1-프로판 설폰산-코-아크릴로니트릴)아크릴로니트릴(Poly(2-acrylamido-2-methyl-1-propanesulfonic acid-co-acrylonitrile) acrylonitrile), 폴리 알릴아민(Poly allylamine), 폴리 알릴아민 하이드로클로라이드(Poly allylamine hydrochloride), 폴리 아네톨 술폰산(Polyanetholesulfonic acid), 폴리[비스(2-클로로에틸)에테르-알트-1,3-비스[3-(디에틸아미노)프로필]유레아] 사중중합체(Poly[bis(2-chloroethyl) ether-alt-1,3-bis[3-(dimethylamino)propyl]urea] quaternized), 폴리 디알릴 디메틸 염화암모늄(Poly diallyldimethylammonium chloride), 폴리 디메틸아민-코-에피클로로하이드린-코-에틸렌디아민(Poly dimethylamine-co-epichlorohydrin-co-ethylenediamine), 폴리 2-에틸-2-옥사졸린(Poly 2-ethyl-2-oxazoline), 폴리 소듐 4-스티렌 설포네이트(Poly sodium 4-styrenesulfonate), 폴리 4-스티렌 설폰산(Poly 4-styrenesulfonic acid), 폴리 4-스티렌 설폰산-코-말레산(Poly 4-styrenesulfonic acid-co-maleic acid), 폴리 비닐 설페이트(Poly vinyl sulfate) 및 폴리 비닐 설폰산(Poly vinylsulfonic acid)으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 이상의 고분자 성분을 함유하는 것을 특징으로 하는 분리막
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제1항에 있어서, 상기 선택층은 폴리아미드(Polyamide), 폴리퓨란(Polyfurane), 폴리에테르-폴리퓨란(Polyether-Polyfurane), 술폰화된 폴리술폰(Sulfonated Polysulfone), 폴리아미드-폴리에틸렌이민(Polyamide via polyethylenimine), 폴리아미드-폴리에피아민(Polyamide via polyepiamine), 폴리비닐아민(Polyvinylamine), 폴리피롤리딘(Polypyrrolidine), 폴리피페라진-아미드(Polypiperazine-amide), 전 방향족 폴리아미드(Fully Aromatic Polyamide), 가교결합된 폴리아미드(Cross linked Polyamide), 가교결합된 전 방향족 폴리아미드(Cross linked Fully Aromatic Polyamide), 가교결합된 아랄킬 폴리아미드(Cross linked Aralkyl Polyamide) 및 레소시놀계 고분자(Resorcinol based polymer)로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 이상의 고분자 성분을 함유하는 것을 특징으로 하는 분리막
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다공성(porous) 지지체,상기 지지체 상에 형성되어 기공을 폐쇄하는 필름형태의 중간층, 및상기 중간층 위에 계면 중합법(interfacial polymerization)에 의하여 형성된 고분자 선택층을 포함하는 분리막으로서,상기 선택층의 두께는 50 nm 이내이고, 그 외부에 표면 요철이 없는 것을 특징으로 하는 분리막
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(i) 다공성 지지체를 준비하는 단계;(ii) 상기 다공성 지지체 표면에 필름형태의 중간층을 형성시키어 다공성 지지체의 공극을 폐쇄시키는 단계; 및(iii) 상기 중간층 위에 계면 중합법으로 선택층을 형성시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 분리막 제조방법
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제13항에 있어서, 상기 단계 (iii)은(a) 단계 (ii)에서 중간층이 형성된 다공성 지지체를 계면 중합 단량체를 포함하는 용액에 담지하여 중간층 내 기능기에 상기 단량체를 흡착시키는 단계; (b) 중간층 내 기능기 대 단량체의 당량비가 1:1을 초과하지 않을 정도로 강하게 세척하여 과량의 단량체를 제거하는 단계; 및(c) 상기 흡착된 단량체를 중합시키는 단계를 포함하여 수행되는 것을 특징으로 하는 방법
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제13항에 있어서, 상기 단계 (ii)에서 상기 필름형태의 중간층은 LBL(layer-by-layer assembly)법으로 형성되는 것을 특징으로 하는 방법
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