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A) 기판 상에 수용성 고분자의 박막을 형성하는 단계;B) 상기 수용성 고분자 박막 상에 소수성 고분자 박막을 형성하는 단계;C) 상기 고분자 박막이 형성된 기판을 용매와 C1~C3인 알콜의 혼합용액으로 처리하고 건조시키는 단계;D) 상기 건조된 기판을 물에 침지하여 수용성 고분자 박막을 용해시키는 것에 의해 상기 소수성 고분자 박막을 기판으로부터 박리하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 스루포어(through-pore) 구조의 마이크로 기공을 갖는 프리스탠딩 고분자 필름의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 수용성 고분자는 물에 대한 용해도가 5 중량% 이상인 것을 특징으로 하는 스루포어(through-pore) 구조의 마이크로 기공을 갖는 프리스탠딩 고분자 필름의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 수용성 고분자는 폴리설폰산(Polysulfonic acid, PSS), 폴리락틱산(polylactic acid, PLA), 폴리아크릴산(Polyacrylic acid, PAA), 폴리카본산(Polycarbonic acid, PCA) 및 폴리비닐알콜(Polyvinyl alcohol, PVA)로 이루어진 군으로부터 선택된 하나인 것을 특징으로 하는 스루포어(through-pore) 구조의 마이크로 기공을 갖는 프리스탠딩 고분자 필름의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 소수성 고분자는 폴리스티렌(polystyrene, PS), 폴리프로필렌 (polypropylene PP), 폴리에틸렌(polyethylene, PE), 폴리메틸 메타아크릴레이트(polymethyl methacrylate, PMMA), 폴리에틸렌 테레프탈레이트(polyethylene terephthalate, PET), 폴리비닐 클로라이드(polyvinyl chloride, PVC), 폴리카보네이트(polycarbonate, PC) 및 폴리비닐리딘 플로리드(polyvinylidene fluoride, PVDF)로 이루어진 군으로부터 선택된 하나인 것을 특징으로 하는 스루포어(through-pore) 구조의 마이크로 기공을 갖는 프리스탠딩 고분자 필름의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 용매는 메틸렌클로라이드, 클로로폼, 클로로 에탄, 펜탄, 헥산, 헵탄, 메틸 아세테이트, 에틸 아세테이트, 테트라하이드로퓨란, 에틸에테르 및 톨루엔으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 또는 둘 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 스루포어(through-pore) 구조의 마이크로 기공을 갖는 프리스탠딩 고분자 필름의 제조방법
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제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,용매와 C1~C3 알콜의 혼합물 중 C1~C3 알콜의 함량은 5~20 부피%인 것을 특징으로 하는 스루포어(through-pore) 구조의 마이크로 기공을 갖는 프리스탠딩 고분자 필름의 제조방법
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삭제
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제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 소수성 고분자 박막의 두께의 조절에 의해 생성되는 프리스탠딩 표면의 기공구조를 제어하는 것을 특징으로 하는 스루포어(through-pore) 구조의 마이크로 기공을 갖는 프리스탠딩 고분자 필름의 제조방법
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제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 C) 단계의 건조 시 상대 습도는 20~90%로, 습도의 조절에 의해 생성되는 프리스탠딩 필름 표면의 기공구조를 제어하는 것을 특징으로 하는 스루포어(through-pore) 구조의 마이크로 기공을 갖는 프리스탠딩 고분자 필름의 제조방법
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제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 C) 단계의 건조 시 온도는 0~50℃, 온도의 조절에 의해 생성되는 프리스탠딩 필름 표면의 기공구조를 제어하는 것을 특징으로 하는 스루포어(through-pore) 구조의 마이크로 기공을 갖는 프리스탠딩 고분자 필름의 제조방법
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