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상압하에서, 플라즈마발생장치에 반응가스를 공급하고, 교류전원을 인가시켜 플라즈마를 발생시키고, 플라즈마 발생 영역에 폴리머 기판을 위치시켜 플라즈마 처리를 통하여 폴리머 기판에 작용기(functional group)가 형성되도록 표면 개질 한 후, 상기 폴리머 기판에 투명전도성산화물층을 형성하여 플렉시블한 전자소자를 확보하는 것을 특징으로 하는 상압 플라즈마 표면처리된 폴리머 기판을 이용한 투명전극의 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 폴리머 기판은,PC, PET, PS, PI 및 PE 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 상압 플라즈마 표면처리된 폴리머 기판을 이용한 투명전극의 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 상압 플라즈마 표면처리를 위한 반응가스는, Ar가스에 H2, O2 및 N2 중의 어느 하나 또는 이를 혼합하여 사용하는 것을 특징으로 하는 상압 플라즈마 표면처리된 폴리머 기판을 이용한 투명전극의 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 투명전도성산화물층은,ZnO, 도핑된 ZnO, ITO, In2O3 및 SnO2 중의 어느 하나인 것을 특징으로 하는 상압 플라즈마 표면처리된 폴리머 기판을 이용한 투명전극의 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 투명전도성산화물층은, 박막, 나노라드, 나노닷 및 나노와이어 중의 어느 하나의 형태로 형성되는 것을 특징으로 하는 상압 플라즈마 표면처리된 폴리머 기판을 이용한 투명전극의 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 투명전도성산화물층은,DC/RF sputter, PLD, sol-gel, ALD, thermal evaporation 및 E-beam evaporation 방법 중의 어느 하나의 물리적인 증착방법 또는 spray pyrolysis, electro-deposition, solution 및 CVD 방법 중의 어느 하나의 화학적인 증착방법에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 상압 플라즈마 표면처리된 폴리머 기판을 이용한 투명전극의 제조방법
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