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초발수용 몰드 제조방법, 초발수용 몰드를 이용한 초발수용 재료 및 그 제조방법(Method of manufacturing mold for superhydrophobic material, superhydrophobic material and method of manufacturing the same)

  • 기술번호 : KST2017006202
  • 담당센터 : 부산기술혁신센터
  • 전화번호 : 051-606-6561
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은, 초발수용 몰드 제조방법, 초발수용 몰드를 이용한 초발수용 재료 및 그 제조방법에 있어서, 몰드용 금속 표면에 포토레지스트를 결합하는 단계와; 리소그래피를 통해 상기 포토레지스트를 감광하여 감광 마이크로 패턴을 형성하는 단계와; 상기 감광 마이크로 패턴에 양극산화를 통해 제1양극산화층을 형성하는 단계와; 상기 제1양극산화층을 식각 제거하여 상기 감광 마이크로 패턴보다 깊게 함몰되며 나노시드를 포함하는 양극산화 마이크로 패턴을 형성하는 단계와; 나노시드를 포함하는 상기 양극산화 마이크로 패턴에 양극산화를 통해 양극산화 나노 패턴을 포함하는 제2양극산화층을 형성하는 단계와; 나노기공으로 이루어진 상기 양극산화 나노 패턴을 식각하여 상기 나노기공의 직경 및 함몰 깊이를 조절하는 단계를 포함하는 것을 기술적 요지로 한다. 이에 의해 양극산화 마이크로 패턴을 얻기 위해 식각 및 양극산화하는 단계 중 식각하는 단계를 거치지 않아 공정이 단순해지며 이를 통해 제조비용 및 제조시간을 줄일 수 있으며, 또한 양극산화를 이용하여 포토레지스트와 금속 간의 결합력이 유지되며, 양극산화 시간을 조절을 통해 마이크로 패턴의 깊이를 증가시킬 수 있는 효과를 얻을 수 있다.
Int. CL B29C 33/38 (2018.01.01) B29C 41/36 (2006.01.01) C25D 11/02 (2006.01.01) C25F 3/00 (2006.01.01) C25F 3/16 (2006.01.01) C25F 3/20 (2006.01.01) C23F 1/10 (2006.01.01) B24B 19/20 (2006.01.01) G03F 7/00 (2006.01.01)
CPC B29C 33/3857(2013.01) B29C 33/3857(2013.01) B29C 33/3857(2013.01) B29C 33/3857(2013.01) B29C 33/3857(2013.01) B29C 33/3857(2013.01) B29C 33/3857(2013.01) B29C 33/3857(2013.01) B29C 33/3857(2013.01)
출원번호/일자 1020150130925 (2015.09.16)
출원인 한국전기연구원
등록번호/일자 10-2130665-0000 (2020.06.30)
공개번호/일자 10-2017-0033073 (2017.03.24) 문서열기
공고번호/일자 (20200706) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2019.11.25)
심사청구항수 15

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전기연구원 대한민국 경상남도 창원시 성산구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정대영 대한민국 경상남도 창원시 성산구
2 발라산카 인도 경상남도 창원시 성산구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인부경 대한민국 부산광역시 연제구 법원남로**번길 **, *층 (거제동, 대한타워)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국전기연구원 경상남도 창원시 성산구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2015.09.16 수리 (Accepted) 1-1-2015-0900245-55
2 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2019.11.25 수리 (Accepted) 1-1-2019-1210633-99
3 [우선심사신청]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Preferential Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2019.11.26 수리 (Accepted) 1-1-2019-1214791-87
4 [우선심사신청]선행기술조사의뢰서
[Request for Preferential Examination] Request for Prior Art Search
2019.11.27 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 [우선심사신청]선행기술조사보고서
[Request for Preferential Examination] Report of Prior Art Search
2019.11.29 수리 (Accepted) 9-1-2019-0053833-59
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2019.12.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0941983-11
7 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2020.03.02 수리 (Accepted) 1-1-2020-0217504-16
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견서·답변서·소명서
2020.03.31 수리 (Accepted) 1-1-2020-0335411-03
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2020.03.31 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2020-0335297-83
10 등록결정서
Decision to grant
2020.06.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2020-0407877-12
11 [명세서등 보정]보정서(심사관 직권보정)
2020.07.02 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2020-5017026-96
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번호 청구항
1 1
초발수용 몰드 제조방법에 있어서,몰드용 금속 표면에 포토레지스트를 결합하는 단계와;리소그래피를 통해 상기 포토레지스트를 감광하여 감광 마이크로 패턴을 형성하는 단계와;상기 감광 마이크로 패턴에 양극산화를 통해 제1양극산화층을 형성하는 단계와;상기 제1양극산화층을 제거한 후, 상기 몰드용 금속에 남아있는 상기 포토레지스트를 제거하여 상기 감광 마이크로 패턴보다 깊게 함몰되며 나노시드를 포함하는 양극산화 마이크로 패턴을 형성하되, 상기 양극산화 마이크로 패턴은 반구 형상으로 형성되고, 0
2 2
제 1항에 있어서,상기 몰드용 금속에 포토레지스트를 결합하는 단계 이전에,상기 몰드용 금속 표면을 세정 및 연마하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 초발수용 몰드 제조방법
3 3
제 2항에 있어서,상기 연마하는 단계는,기계 연마 또는 전해연마를 통해 이루어지며,상기 몰드용 금속 표면은 0
4 4
제 1항에 있어서,상기 리소그래피는 UV 광, 전자빔 중 적어도 어느 하나를 사용하는 것을 특징으로 하는 초발수용 몰드 제조방법
5 5
제 1항에 있어서,상기 몰드용 금속은 Al, W, Ti, Ta, Hf, Nb, Zr 및 이의 혼합으로 이루어진 군으로부터 선택된 것을 특징으로 하는 초발수용 몰드 제조방법
6 6
제 5항에 있어서,상기 몰드용 금속에 Cu, Mn, Si, Mg, Cr, Zn, Li, V, Mo, Ga, Ge, Fe, Co, Ni, C, O 원소 중 적어도 하나를 추가로 혼합하는 것을 특징으로 하는 초발수용 몰드 제조방법
7 7
제 1항에 있어서,상기 몰드용 금속은 평판 또는 롤형으로 이루어진 것을 특징으로 하는 초발수용 몰드 제조방법
8 8
제 1항에 있어서,상기 제1양극산화층은 인산용액을 통해 식각 제거되는 것을 특징으로 하는 초발수용 몰드 제조방법
9 9
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10 10
삭제
11 11
제 1 및 8항 중 어느 한 항에 있어서,상기 양극산화는 전해질로서 0
12 12
제 1항에 있어서,상기 나노기공의 직경 및 함몰 깊이를 조절하는 단계 이후에,초발수용 몰드보다 더 높은 강도를 갖는 몰드를 상기 초발수용 몰드를 이용하여 제조하기 위해, 상기 초발수용 몰드의 기공 및 표면에 고분자, 금속, 합금 또는 세라믹 물질을 증착 또는 코팅한 후, 상기 초발수용 몰드를 제거하여 고분자, 금속, 합금 또는 세라믹 물질의 양각 몰드를 제조한 후, 상기 양각 몰드에 다시 금속, 합금 또는 세라믹 물질의 음각 몰드를 제조하는 것을 특징으로 하는 초발수용 몰드 제조방법
13 13
제 12항에 있어서,상기 금속은 Al, Mn, Ti, W, Cu, Ni, Cr 및 이의 혼합으로 이루어진 군으로부터 선택되며, 상기 고분자는 PDMS(Polydimethylsiloxane), PA(Polyamide), PTFE(Polytetrafluoroethylene) 및 이의 혼합으로 이루어진 군으로부터 선택되며, 상기 세라믹은 SiC, DLC, 다이아몬드 및 이의 혼합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 초발수용 몰드 제조방법
14 14
제 1항에 있어서,상기 나노기공의 직경 및 함몰 깊이를 조절하는 단계 이후에,상기 초발수용 몰드로부터 초발수용 고분자 재료의 탈착성 향상을 위해 상기 몰드용 금속에 이형성 막을 코팅하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 초발수용 몰드 제조방법
15 15
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19 19
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20 20
초발수용 몰드를 이용한 초발수용 재료 제조방법에 있어서,몰드용 금속 표면에 포토레지스트를 결합하는 단계와;리소그래피를 통해 상기 포토레지스트를 감광하여 감광 마이크로 패턴을 형성하는 단계와;상기 감광 마이크로 패턴에 양극산화를 통해 제1양극산화층을 형성하는 단계와;상기 제1양극산화층을 제거한 후, 상기 몰드용 금속에 남아있는 상기 포토레지스트를 제거하여 상기 감광 마이크로 패턴보다 깊게 함몰되며 나노시드를 포함하는 양극산화 마이크로 패턴을 형성하되, 상기 양극산화 마이크로 패턴은 반구 형상으로 형성되고, 0
21 21
삭제
22 22
제 20항에 있어서,상기 코팅은 고분자 용액법, 열 임프린팅법(Thermal imprinting), UV-임프린팅법 또는 화학적 임프린팅법을 통해 이루어지는 것을 특징으로 하는 초발수용 몰드를 이용한 초발수용 재료 제조방법
23 23
제 20항에 있어서,상기 고분자 수지는 polyamide(PA); polystyrene(PS); polycarbonate(PC); polyurethane(PU); polyimide(PI); polymethylmethacrylate (PMMA)를 포함하는 폴리아크릴레이트; polybutylene terephthalate(PBT), polyethylene terephthalate(PET)을 포함하는 폴리에스테르; polyethylene(PE), polypropylene(PP)을 포함하는 폴리알킬렌; polyvinyl chloride(PVC), polyvinylidene fluoride(PVdF)을 포함하는비닐폴리머; polydimethylsiloxane(PDMS) 및 이의 혼합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 초발수용 몰드를 이용한 초발수용 재료 제조방법
24 24
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