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(A) 탄소나노구조체의 표면에 기계적 결함을 형성하는 단계;(B) 상기 표면에 기계적 결함이 형성된 탄소나노구조체를 플라즈마 처리하여 상기 표면에 기계적 결함이 형성된 탄소나노구조체의 표면에 이종 원소를 도핑하는 단계; 및 (C) 상기 이종 원소가 도핑된 탄소나노구조체에 고분자 수지를 혼합하고 경화시키는 단계를 포함하는, 탄소나노구조체-고분자 복합체의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 탄소나노구조체를 진공하에서 교반시켜 상기 탄소나노구조체의 표면 전체에 걸쳐 기계적 결함을 형성하는 것을 특징으로 하는 탄소나노구조체-고분자 복합체의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 플라즈마 처리는 진공 상태에서 플라즈마화 할 가스를 주입한 후, 전류를 인가하여 플라즈마를 발생시켜 상기 표면에 기계적 결함이 형성된 탄소나노구조체와 반응시키는 것을 특징으로 하는 탄소나노구조체-고분자 복합체의 제조방법
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제3항에 있어서,상기 플라즈마화 할 가스는 아르곤, 네온 및 헬륨 중에서 선택된 비활성 가스; 수소(H2), 질소(N2) 및 산소(O2) 중에서 선택된 활성 가스; CF4, NF3 및 SF6 중에서 선택된 불화가스; 및 메탄(CH4), 에틸렌(C2H4) 및 아세틸렌(C2H2) 중에서 선택된 탄화수소가스; 중에서 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 탄소나노구조체-고분자 복합체의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 이종 원소는 질소, 산소, 불소, 수소 및 아르곤 중에서 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 탄소나노구조체-고분자 복합체의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 탄소나노구조체는 탄소나노튜브(CNT), 탄소나노파이버(CNF) 및 그래핀 중에서 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 탄소나노구조체-고분자 복합체의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 고분자 수지는 에폭시, 폴리우레탄, 페놀, 폴리에스테르, 폴리아미드, 실리콘, 폴리에틸렌, 폴리아세탈, 폴리아크릴, 폴리카보네이트, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리부틸렌 테레프탈레이트, 폴리스티렌, 스티렌-아크릴로니트릴 및 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 중에서 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 탄소나노구조체-고분자 복합체의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 고분자 수지는 기포가 제거된 것을 특징으로 하는 탄소나노구조체-고분자 복합체의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 이종 원소가 도핑된 탄소나노구조체 0
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제1항에 있어서,상기 (C) 단계에서 경화제를 더 혼합하여 경화시키는 것을 특징으로 하는 탄소나노구조체-고분자 복합체의 제조방법
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