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제1 주파수 전원 신호를 생성하여 대기압 플라즈마 발생 장치의 전극에 공급하는 제1 전원 공급부; 및 제2 주파수 전원 신호를 생성하여 대기압 플라즈마 발생 장치의 전극에 공급하는 제2 전원 공급부를 포함하며, 제1 주파수가 제2 주파수보다 저주파이며, 상기 제1 전원 공급부에서 출력되는 제1 주파수 전원 신호와 상기 제2 전원 공급부에서 출력하는 제2 주파수 전원 신호를 혼합하는 혼합기를 더 포함하며, 상기 혼합기는 대기압 플라즈마 발생 장치의 어느 하나의 전극에 직접 연결된 이중 주파수 전원 공급기
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청구항 1항에 있어서, 상기 제1 전원 공급부가 제1 주파수 전원 신호를 공급하는 대기압 플라즈마 발생 장치의 전극과, 상기 제2 전원 공급부가 제2 주파수 전원 신호를 공급하는 대기압 플라즈마 발생 장치의 전극은 서로 대향하여 형성되어 있는 이중 주파수 전원 공급기
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청구항 1항에 있어서,상기 제1 전원 공급부는 제1 저주파 전원 신호를 생성하는 제1 전원; 임피던스 매칭을 제공하는 제1 매칭 회로; 및 상기 제1 전원을 제어하여 주파수와 파형을 조절하고, 제1 매칭 회로의 임피던스를 조절하는 제1 조절기를 포함하는 이중 주파수 전원 공급기
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4
청구항 1항에 있어서,상기 제2 전원 공급부는 제2 저주파 전원 신호를 생성하는 제2 전원; 임피던스 매칭을 제공하는 제2 매칭 회로; 및 상기 제2 전원을 제어하여 주파수와 파형을 조절하고, 제2 매칭 회로의 임피던스를 조절하는 제2 조절기를 포함하는 이중 주파수 전원 공급기
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5
청구항 1항에 있어서,상기 제1 주파수 전원 신호의 제1 주파수는 1kHz이상에서 100kHz이하의 범위에 있으며, 상기 제2 주파수 전원 신호의 제2 주파수는 1MHz 이상에서 100MHz 이하의 범위에 있는 이중 주파수 전원 공급기
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6
삭제
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청구항 1항에 있어서,상기 혼합기는 제1 전원 공급부의 출력 단자에 연결된 제1 입력 단자;상기 대기압 플라즈마 발생 장치의 어느 하나의 전극에 연결된 출력 단자;제2 전원 공급부의 출력 단자에 연결된 제2 입력 단자;상기 제1 입력 단자와 출력 단자에 직렬 연결된 통과 코일; 및 상기 제2 입력 단자와 출력 단자에 직렬 연결된 통과 커패시터를 포함하는 이중 주파수 전원 공급기
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8
청구항 7항에 있어서,상기 혼합기의 상기 통과 코일은 제1 입력 단자에서 입력되는 제1 주파수 전원 신호를 통과시키고, 제2 입력 단자에서 입력되는 제2 주파수 전원 신호를 차단하며, 상기 통과 커패시터는 제2 입력 단자에서 입력되는 제2 주파수 전원 신호를 통과시키고, 제1 입력 단자에서 입력되는 제1 주파수 전원 신호를 차단하는 이중 주파수 전원 공급기
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9
청구항 7항에 있어서,상기 통과 코일과 접지 사이에 연결된 패스 커패시터를 더 포함하며,상기 패스 커패시터는 제2 입력 단자에서 입력되는 제2 주파수 전원 신호를 차단하는 이중 주파수 전원 공급기
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10
서로 대향하고 있는 한 쌍의 전극; 및 제1 주파수 전원 신호와 제2 주파수 전원 신호를 생성하여 상기 전극에 공급하는 이중 주파수 전원 공급기를 포함하며, 상기 이중 주파수 전원 공급기는 제1 주파수 전원 신호를 생성하여 대기압 플라즈마 발생 장치의 전극에 공급하는 제1 전원 공급부; 및 제2 주파수 전원 신호를 생성하여 대기압 플라즈마 발생 장치의 전극에 공급하는 제2 전원 공급부를 포함하며, 제1 주파수가 제2 주파수보다 저주파이며, 상기 제1 전원 공급부에서 출력되는 제1 주파수 전원 신호와 상기 제2 전원 공급부에서 출력하는 제2 주파수 전원 신호를 혼합하는 혼합기를 더 포함하며, 상기 혼합기는 어느 하나의 전극에 직접 연결된 대기압 플라즈마 발생 장치
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11
청구항 10항에 있어서, 상기 제1 전원 공급부가 제1 주파수 전원 신호를 공급하는 전극과, 상기 제2 전원 공급부가 제2 주파수 전원 신호를 공급하는 전극은 서로 다른 대기압 플라즈마 발생 장치
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12
청구항 10항에 있어서,상기 제1 전원 공급부는 제1 저주파 전원 신호를 생성하는 제1 전원; 임피던스 매칭을 제공하는 제1 매칭 회로; 및 상기 제1 전원을 제어하여 주파수와 파형을 조절하고, 제1 매칭 회로의 임피던스를 조절하는 제1 조절기를 포함하는 대기압 플라즈마 발생 장치
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13
청구항 10항에 있어서,상기 제2 전원 공급부는 제2 저주파 전원 신호를 생성하는 제2 전원; 임피던스 매칭을 제공하는 제2 매칭 회로; 및 상기 제2 전원을 제어하여 주파수와 파형을 조절하고, 제2 매칭 회로의 임피던스를 조절하는 제2 조절기를 포함하는 대기압 플라즈마 발생 장치
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14
청구항 10항에 있어서,상기 제1 주파수 전원 신호의 제1 주파수는 1kHz이상에서 100kHz이하의 범위에 있으며, 상기 제2 주파수 전원 신호의 제2 주파수는 1MHz 이상에서 100MHz 이하의 범위에 있는 대기압 플라즈마 발생 장치
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15
삭제
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청구항 10항에 있어서,상기 혼합기는 제1 전원 공급부의 출력 단자에 연결된 제1 입력 단자;상기 어느 하나의 전극에 연결된 출력 단자;제2 전원 공급부의 출력 단자에 연결된 제2 입력 단자;상기 제1 입력 단자와 출력 단자에 직렬 연결된 통과 코일; 및 상기 제2 입력 단자와 출력 단자에 직렬 연결된 통과 커패시터를 포함하는 대기압 플라즈마 발생 장치
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청구항 10항에 있어서,상기 한쌍의 전극의 적어도 어느 하나의 전극에 형성되어 있는 유전체층을 더 포함하는 대기압 플라즈마 발생 장치
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(A) 이중 주파수 전원 공급기가 제1 주파수 전원 신호를 생성하여 생성된 신호의 주파수와 파형을 조절하여 임피던스가 매칭된 상태에서 전극에 공급하는 단계; (B) 상기 이중 주파수 전원 공급기가 제2 주파수 전원 신호를 생성하여 생성된 신호의 주파수와 파형을 조절하여 임피던스가 매칭된 상태에서 전극에 공급하는 단계; 및 (C) 상기 이중 주파수 전원 공급기는 제1 주파수 전원 신호와 제2 주파수 전원 신호를 혼합하여 한 쌍의 전극 중에서 어느 하나의 전극에 직접 연결되어 공급하는 단계를 포함하는 대기압 플라즈마 발생 방법
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청구항 18항에 있어서, 상기 이중 주파수 전원 공급기가 제1 주파수 전원 신호를 공급하는 전극과, 상기 이중 주파수 전원 공급기가 제2 주파수 전원 신호를 공급하는 전극은 서로 다른 대기압 플라즈마 발생 방법
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삭제
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청구항 18항 또는 제19항에 있어서,상기 제1 주파수 전원 신호의 제1 주파수는 1kHz이상에서 100kHz이하의 범위에 있으며, 상기 제2 주파수 전원 신호의 제2 주파수는 1MHz 이상에서 100MHz 이하의 범위에 있는 대기압 플라즈마 발생 방법
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