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빔 집속기 및 그를 구비하는 입자 빔 깊이 프로파일 측정 장치(beam concentrator and particle beam depth profile measurement apparatus including the same)

기술번호 : KST2017009889
담당센터 : 대전기술혁신센터
전화번호 : 042-610-2279

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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약	본 발명은 빔 집속기 및 그를 구비하는 입자 빔 깊이 프로파일 측정 장치를 개시한다. 그의 집속기는, 하우징과 셔터를 포함한다. 하우징은 입구로부터 출구까지 제 1 방향으로 뿔 모양을 갖는 제 1 홀과, 상기 입구에 인접하는 상기 제 1 홀로부터 분기하여 상기 제 1 방향과 교차하는 제 2 방향으로 형성된 제 2 홀과, 상기 제 2 홀과 상기 출구 사이에 배치된 제 3 홀을 가질 수 있다. 셔터는 제 3 홀을 개페하고, 제 1 홀의 내벽을 따라 연장할 수 있다.
Int. CL	A61N 5/10 (2016.08.20)
CPC	A61N 5/1077(2013.01) A61N 5/1077(2013.01) A61N 5/1077(2013.01)
출원번호/일자	1020160102585 (2016.08.11)
출원인	한국전자통신연구원
등록번호/일자
공개번호/일자	10-2017-0067640 (2017.06.16) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보	대한민국 \| 1020150174340 \| 2015.12.08
법적상태	공개
심사진행상태	수리
심판사항
구분	신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자	N
심사청구항수	20

출원인

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번호	이름	국적	주소
1	한국전자통신연구원	대한민국	대전광역시 유성구

발명자

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번호	이름	국적	주소
1	신동호	대한민국	대전시 유성구
2	정문연	대한민국	대전 유성구
3	김승환	대한민국	대전시 유성구

대리인

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번호	이름	국적	주소
1	특허법인 고려	대한민국	서울특별시 강남구 테헤란로 길 * *층(역삼동)

최종권리자

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번호	이름	국적	주소
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번호	서류명	접수/발송일자	처리상태	접수/발송번호
1	[특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application	2016.08.11	수리 (Accepted)	1-1-2016-0782808-59

번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호	청구항
1	1 레이저 광을 생성하는 광원;상기 레이저 광에 의해 입자 빔을 생성하는 타깃;상기 입자 빔에 의해 감마선을 생성하는 팬텀;상기 감마선을 검출하는 빔 검출기; 및상기 빔 검출기와 상기 팬텀 사이에 배치되고, 상기 감마선을 상기 팬텀으로부터 상기 빔 검출기로 집속하는 빔 집속기를 포함하는 입자 빔 깊이 프로파일 측정 장치
2	2 제 1 항에 있어서, 상기 빔 집속기는 상기 팬텀의 직경보다 큰 직경의 입구와 상기 입구보다 작은 직경의 출구를 갖고, 상기 입구로부터 상기 출구까지 뿔 모양으로 연결되는 제 1 홀을 갖는 하우징을 포함하는 입자 빔 깊이 프로파일 측정 장치
3	3 제 2 항에 있어서,상기 입구와 상기 출구는 정사각형 모양을 갖되,상기 제 1 홀은 피라미드 모양을 갖는 입자 빔 깊이 프로파일 측정 장치
4	4 제 2 항에 있어서,상기 입구와 상기 출구는 원 모양을 갖되,상기 제 1 홀은 원뿔 모양을 갖는 입자 빔 깊이 프로파일 측정 장치
5	5 제 2 항에 있어서,상기 팬텀은 상기 하우징의 입구 내에 제공되고,상기 하우징은 상기 입자 빔을 통과시키고 상기 제 1 홀의 방향과 다른 방향으로 배치되는 제 2 홀을 갖는 입자 빔 깊이 프로파일 측정 장치
6	6 제 2 항에 있어서,상기 하우징은 상기 입구와 상기 출구 사이의 상기 제 1 홀로부터 분기되고, 상기 제 2 홀과 이격하여 배치되는 제 3 홀을 갖는 입자 빔 깊이 프로파일 측정 장치
7	7 제 6 항에 있어서,상기 제 3 홀을 통해 상기 팬텀으로 제공되는 플라즈마로 상기 팬텀을 식각하는 플라즈마 식각 부를 더 포함하는 입자 빔 깊이 프로파일 측정 장치
8	8 제 6 항에 있어서,상기 빔 집속기는 상기 제 3 홀을 개폐하는 플라즈마 단속 부를 더 포함하는 입자 빔 깊이 프로파일 측정 장치
9	9 제 8 항에 있어서,상기 플라즈마 단속 부는 상기 제 3 홀 내에 제공되고, 상기 제 1 홀의 내벽을 따라 연장하는 사다리꼴 플레이트 또는 라운드진 사다리꼴 플레이트를 포함하는 입자 빔 깊이 프로파일 측정 장치
10	10 제 7 항에 있어서,상기 제 2 홀은 사다리꼴 모양을 갖는 입자 빔 깊이 프로파일 측정 장치
11	11 제 1 챔버;상기 제 1 챔버 내에 배치되는 타깃;상기 제 1 챔버의 일측에 배치되고, 상기 타깃으로 광을 제공하는 광원;상기 광원에 대향하는 상기 제 1 챔버의 타측에 배치되고, 상기 타깃으로부터 생성된 입자 빔을 수신하는 팬텀;상기 팬텀으로부터 생성된 감마선을 검출하는 빔 검출기;상기 빔 검출기와 상기 팬텀 사이에 배치되고, 상기 감마선을 상기 빔 검출기로 집속하는 빔 집속기를 포함하는 입자 빔 깊이 프로파일 측정 장치
12	12 제 11 항에 있어서,상기 빔 집속기는 상기 팬텀으로부터 상기 빔 검출기로 뿔 모양을 갖는 제 1 홀과, 상기 제 1 홀로부터 분기되는 제 2 홀을 갖는 하우징을 포함하되,상기 제 1 챔버는 상기 제 2 홀에 정렬되는 밸브를 포함하는 입자 빔 깊이 프로파일 측정 장치
13	13 제 12 항에 있어서,상기 하우징은 상기 제 1 홀로부터 분기되고, 상기 제 2 홀과 이격하는 제 3 홀을 갖되, 상기 장치는, 상기 제 3 홀 내에 배치되고, 상기 팬텀을 식각하는 플라즈마 식각 부를 더 포함하는 입자 빔 깊이 프로파일 측정 장치
14	14 제 13 항에 있어서,상기 빔 집속기는 상기 제 3 홀을 개폐하는 플라즈마 단속 부를 더 포함하는 입자 빔 깊이 프로파일 측정 장치
15	15 제 13 항에 있어서,상기 장치는 상기 빔 검출기, 상기 빔 집속기, 및 상기 플라즈마 식각 부를 둘러싸는 제 2 챔버를 더 포함하는 입자 빔 깊이 프로파일 측정 장치
16	16 입구로부터 출구까지 제 1 방향으로 뿔 모양을 갖는 제 1 홀과, 상기 입구에 인접하는 상기 제 1 홀로부터 분기하여 상기 제 1 방향과 교차하는 제 2 방향으로 형성된 제 2 홀과, 상기 제 2 홀과 상기 출구 사이에 배치된 제 3 홀을 갖는 하우징; 및상기 제 3 홀을 개폐하고 상기 제 1 홀의 내벽을 따라 연장하는 셔터를 포함하는 빔 집속기
17	17 제 16 항에 있어서, 상기 제 1 홀은 피라미드 모양 또는 원뿔 모양을 갖는 빔 집속기
18	18 제 16 항에 있어서,상기 제 2 홀과 상기 제 3 홀은 동일한 방향을 갖는 빔 집속기
19	19 제 16 항에 있어서,상기 제 3 홀은 사다리꼴 모양을 갖는 빔 집속기
20	20 제 16 항에 있어서,상기 셔터는 사다리꼴 플레이트 또는 라운드진 사다리꼴 플레이트를 포함하는 빔 집속기

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번호	서류명	접수/발송일자	처리상태	접수/발송번호
1	[특허출원]특허출원서	2016.08.11	수리 (Accepted)	1-1-2016-0782808-59

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