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신축성 배선 및 그 제조 방법(Stretchable wire and method of fabricating the same)

  • 기술번호 : KST2017010120
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 신축 가능한 고상 전도성 구조체; 상기 고상 전도성 구조체를 둘러싸는 신축 가능한 신축 절연층; 및 상기 고상 전도성 구조체 및 상기 신축 절연층 사이에 배치되고, 상기 고상 전도성 구조체와 접하는 액상 전도성 물질층을 포함하는, 신축성 배선 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
Int. CL H01B 7/06 (2006.01.01) H01B 7/04 (2006.01.01) H01B 7/02 (2006.01.01) H01B 1/02 (2006.01.01) H01B 3/30 (2006.01.01) H01B 13/008 (2006.01.01) H01B 13/00 (2006.01.01)
CPC H01B 7/06(2013.01) H01B 7/06(2013.01) H01B 7/06(2013.01) H01B 7/06(2013.01) H01B 7/06(2013.01) H01B 7/06(2013.01) H01B 7/06(2013.01)
출원번호/일자 1020150176201 (2015.12.10)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자 10-1995222-0000 (2019.06.26)
공개번호/일자 10-2017-0069360 (2017.06.21) 문서열기
공고번호/일자 (20190703) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2017.08.30)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박찬우 대한민국 대전광역시 유성구
2 구재본 대한민국 대전광역시 서구
3 나복순 대한민국 대전광역시 중구
4 박래만 대한민국 대전광역시 유성구
5 오지영 대한민국 대전시 유성구
6 이상석 대한민국 세종시 나리로(
7 정순원 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 고려 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 *길 ** *층(역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2015.12.10 수리 (Accepted) 1-1-2015-1211937-93
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2016.01.04 수리 (Accepted) 1-1-2016-0003350-35
3 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2017.08.30 수리 (Accepted) 1-1-2017-0838816-06
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2018.02.06 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2018.03.12 수리 (Accepted) 9-1-2018-0009345-79
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2018.07.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0488934-01
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2018.09.19 수리 (Accepted) 1-1-2018-0936679-47
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2018.09.19 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2018-0936680-94
9 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2019.01.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0069411-18
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2019.02.28 수리 (Accepted) 1-1-2019-0215879-40
11 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2019.02.28 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2019-0215880-97
12 등록결정서
Decision to Grant Registration
2019.04.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0234187-01
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번호 청구항
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고상 전도성 구조체를 기판의 일면에 형성하는 단계;상기 기판의 상기 일면 상에 포토레지스트층을 형성하여 상기 고상 전도성 구조체를 덮는 단계;상기 포토레지스트층의 일부를 제거하여 상기 고상 전도성 구조체를 노출시키는 개구를 형성하는 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계;신축 가능한 고상 전도성 구조체의 적어도 일면에 액상 전도성 물질을 도포하여 액상 전도성 물질층을 형성하는 단계; 및상기 액상 전도성 물질층 상에 신축 가능한 신축 절연층을 형성하는 단계를 포함하고,상기 액상 전도성 물질층을 형성하는 단계는, 상기 포토레지스트 패턴을 형성한 후, 상기 고상 전도성 구조체 및 상기 포토레지스트 패턴 상에 상기 액상 전도성 물질을 도포하는 것을 포함하며,상기 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계는,포토리소그래피 공정을 수행하여, 상기 고상 전도성 구조체를 기준으로 서로 대향되는 상기 포토레지스트 패턴의 측벽들을 형성하는 것을 포함하고, 상기 포토레지스트 패턴의 측벽들의 이격 거리는 기판으로부터 멀어질수록 감소하여 상기 개구의 상부 너비는 하부 너비보다 작으며,상기 액상 전도성 물질은 갈륨(Ga)을 포함하는 신축성 배선의 제조 방법
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제9항에 있어서,상기 포토레지스트 패턴의 측벽들의 최단 이격 거리는 상기 고상 전도성 구조체의 폭보다 크게 형성되는 신축성 배선의 제조 방법
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제9항에 있어서,상기 포토레지스트 패턴 상에 도포된 상기 액상 전도성 물질층 및 상기 포토레지스트 패턴을 제거하는 단계를 더 포함하고,상기 신축 절연층을 형성하는 단계는: 상기 포토레지스트 패턴 상에 도포된 상기 액상 전도성 물질층 및 상기 포토레지스트 패턴을 제거한 후, 상기 액상 전도성 물질층 상에 제1 신축 절연층을 형성하는 단계;상기 제1 신축 절연층 및 상기 액상 전도성 물질층이 형성된 상기 고상 전도성 구조체를 상기 기판으로부터 분리하는 단계; 및상기 기판으로부터 분리된 상기 제1 신축 절연층 및 상기 고상 전도성 구조체의 하부에 제2 신축 절연층을 형성하는 단계를 포함하는 신축성 배선의 제조 방법
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제9항에 있어서,상기 액상 전도성 물질층은 액상 금속층을 포함하는 신축성 배선의 제조 방법
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2 US9842669 US 미국 DOCDBFAMILY
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 미래창조과학부 한국전자통신연구원 ETRI연구개발지원사업 미래광고 서비스를 위한 에너지절감형 환경적응 I/O 플랫폼 기술 개발