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배관에서의 가스 누출 감지를 위한 가스 이미지 측정 시스템으로서, 가스가 이동하는 배관의 배경에 배치되며, 등온을 유지하는 히트파이프 기반 등온 평판;상기 배관을 사이에 두고 상기 히트파이프 기반 등온 평판과 대향 배치되며 상기 배관의 소정 지점에서 누출되는 가스가 방사하는 적외선을 감지하는 적외선 방사 감지기; 및상기 적외선 방사 감지기에서 검출된 신호를 처리하여 누출되는 가스에 대한 정량적인 데이터를 획득하는 데이터 처리 장치;를 포함하되,상기 히트파이프 기반 등온 평판은 상기 누출되는 가스의 정확 측정을 위해 배치되는 것으로서, 등온을 유지하는 히트파이프 및 상기 히트파이프와 결합되어 등온을 유지하며 상기 배관 측을 향하는 금속 플레이트를 포함하는 가스 이미지 측정 시스템
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제1항에 있어서, 상기 히트파이프는, 컨테이너, 열이 가해지는 증발부, 상기 열에 의해 기화된 작동 유체가 이동하는 단열부 및 응축부를 갖는 가스 이미지 측정 시스템
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제2항에 있어서, 상기 작동 유체는 헬륨, 암모니아, 아세톤, 물, 나프텔렌, 소듐, Fluorinert Electronic Liquid, 펜탄 중 하나인 가스 이미지 측정 시스템
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[청구항 4은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
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[청구항 5은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
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제1항에 있어서, 상기 정량적인 데이터는 누출되는 가스의 질량 유동률 및 파손된 배관의 구멍 크기를 포함하는 가스 이미지 측정 시스템
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배관에서의 가스 누출 감지 방법으로서, 히트파이프 및 상기 히트파이프와 결합되며 가스가 이동하는 배관 측을 향하는 금속 플레이트를 포함하며, 상기 배관에서 누출되는 가스의 정확 측정을 위한 히트파이프 기반 등온 평판을 상기 배관의 배경에 배치하는 단계;상기 히트파이프에 작동 유체를 공급하여 상기 히트파이프 기반 등온 평판을 미리 설정된 등온으로 유지하는 단계; 적외선 방사 감지기를 이용하여 상기 배관에서 누출되는 가스가 방사하는 적외선 신호를 검출하는 단계; 및상기 검출된 적외선 신호를 처리하여 누출되는 가스에 대한 정량적인 데이터를 획득하는 단계를 포함하는 가스 이미지 측정 방법
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제7항에 있어서, 상기 히트파이프는, 컨테이너, 열이 가해지는 증발부, 상기 열에 의해 기화된 작동 유체가 이동하는 단열부 및 응축부를 갖는 가스 이미지 측정 방법
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[청구항 9은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
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[청구항 10은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
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가스가 이동하는 배관의 배경에 배치되는 히트파이프 기반 등온 평판을 이용하여 상기 배관에서의 가스 누출 감지를 위한 가스 이미지 측정 장치로서 - 상기 히트파이프 기반 등온 평판은 상기 배관에서의 가스 누출을 정확하게 측정하기 위해 배치된 것으로서, 등온을 유지하는 히트파이프 및 상기 히트파이프와 결합되어 등온을 유지하며 상기 배관 측을 향하는 금속 플레이트를 포함함 - , 프로세서; 및 상기 프로세서에 연결된 메모리를 포함하며, 상기 메모리는, 적외선 방사 감지기에서 검출된 적외선 신호를 전처리하고 - 상기 적외선 방사 감지기는 상기 배관을 사이에 두고 상기 히트파이프 기반 등온 평판과 대향 배치됨-,상기 전처리된 신호를 차원 축소 처리하고, 상기 차원 축소된 정보를 이용하여 누출되는 가스에 대한 정량적인 데이터를 획득하도록,상기 프로세서에 의해 실행 가능한 프로그램 명령어들을 저장하는 가스 이미지 측정 장치
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