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티타늄 스크랩을 수소화 처리하여 수소화된 티타늄을 제조하는 단계;상기 수소화된 티타늄을 분쇄하여 수소화된 티타늄 분말을 제조하는 단계;상기 분쇄된 수소화된 티타늄 분말을 플라즈마 처리하는 단계; 및상기 플라즈마 처리된 티타늄 분말을 초음파 처리하는 단계;를 포함하고,상기 플라즈마 처리된 티타늄 분말을 초음파 처리하는 단계;는,히드록시기(-OH)를 갖는 용매 내에서 수행되고, 상기 용매는 메탄올, 에탄올, 또는 이들의 조합인 것이고, 상기 분쇄된 수소화된 티타늄 분말을 플라즈마 처리하는 단계;는,불활성 가스 분위기, 또는 불활성 가스 및 수소(H2) 가스의 혼합분위기에서 수행되는 것이고, 상기 수소화된 티타늄을 분쇄하여 수소화된 티타늄 분말을 제조하는 단계;는,불활성, 또는 환원분위기에서 수행되는 것이고, 상기 수소화된 티타늄을 분쇄하여 수소화된 티타늄 분말을 제조하는 단계;는,아르곤(Ar), 질소(N2), 헬륨(He), 수소(H2) 또는 이들의 조합을 포함하는 분위기에서 수행되는 것이고, 상기 플라즈마 처리된 티타늄 분말을 초음파 처리하는 단계;에서,분말 표면의 불순물이 초음파에 의해 분리되어 분말 내 산소 불순물의 농도가 티타늄 분말 100중량%에 대하여 0
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제 1항에서,상기 플라즈마 처리된 티타늄 분말을 초음파 처리하는 단계;는,5분 이상, 및 120분 이하의 시간동안 수행되는 것인,고순도 구형 티타늄 분말의 제조방법
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제 1항에서,상기 플라즈마 처리된 티타늄 분말을 초음파 처리하는 단계;에서,상기 플라즈마 처리된 티타늄 분말 표면의 위성분말이 제거되어, 티타늄 분말의 구형도가 87이상, 및 95이하로 향상되는 것인,고순도 구형 티타늄 분말의 제조방법
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제 1항에서,상기 티타늄 스크랩을 수소화 처리하여 수소화된 티타늄을 제조하는 단계;는티타늄 스크랩을 로내에 장입하고, 진공분위기로 제어하는 단계;상기 진공분위기로 제어된 로내에 수소(H2) 기체를 주입하는 단계;상기 로내 온도를 500℃ 이상, 및 1000℃ 이하로 제어하여 열처리하는 단계; 및상기 로내를 냉각한 후, 수소화된 티타늄을 로내로부터 분리하는 단계;를 포함하는 것인,고순도 구형 티타늄 분말의 제조방법
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제 8항에서,상기 로내 온도를 500℃ 이상, 및 1000℃ 이하로 제어하여 열처리하는 단계;는10분 이상, 및 120분 이하의 시간 동안 수행되는 것인,고순도 구형 티타늄 분말의 제조방법
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제 8항에서,티타늄 스크랩을 로내에 장입하고, 진공분위기로 제어하는 단계;에서,10-2 atm 이하의 압력으로 제어되는 것인,고순도 구형 티타늄 분말의 제조방법
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제 8항에서,상기 로내를 냉각한 후, 수소화된 티타늄을 로내로부터 분리하는 단계;에서, 상기 로내를 15℃ 이상, 및 30℃ 이하의 온도로 냉각하는 것인,고순도 구형 티타늄 분말의 제조방법
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제 1항에서,상기 수소화된 티타늄을 분쇄하여 수소화된 티타늄 분말을 제조하는 단계;는,30초 이상, 및 60분 이하의 시간동안 수행되는 것인,고순도 구형 티타늄 분말의 제조방법
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제 14항에서,상기 수소화된 티타늄을 분쇄하여 수소화된 티타늄 분말을 제조하는 단계;에서 분쇄된 분말의 입경은 1um 이상, 및 80um 이하인 것인,고순도 구형 티타늄 분말의 제조방법
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제 1항에서,상기 제조된 고순도 구형 티타늄 분말은, 3D 프린팅용인 것인,고순도 구형 티타늄 분말의 제조방법
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