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다이아세틸렌 단량체와, 아미노알킬 하이드로젠 설페이트 또는 아미노알킬 하이드로젠 포스페이트를 유기용매에 용해시킨 후, 알칸포스폰산 무수물을 첨가하여 반응시키는 단계를 포함하여 구성되는, 하기 화학식 1-1로 표시되는 수용성 다이아세틸렌 단량체 화합물의 제조방법
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다이아세틸렌 단량체와, 아미노알킬 하이드로젠 설페이트 또는 아미노알킬 하이드로젠 포스페이트를 유기용매에 용해시킨 후, 알칸포스폰산 무수물을 첨가하여 반응시키는 단계(단계 a); 및알칼리 금속 화합물로 염기 처리하는 단계(단계 b)를 포함하여 구성되는, 하기 화학식 1-2로 표시되는 수용성 다이아세틸렌 단량체 화합물의 제조방법
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청구항 3 또는 청구항 4에 있어서,상기 다이아세틸렌 단량체는 PCDA(10,12-pentacosadiynoic acid), TCDA (10,12-tricosadiynoic acid), ECDA(5,7-elcosadiynoic acid), HCDA(8,10-heneicosadiynoic acid) 및 HDDA(4,6-heptadecadiynoic acid)로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 수용성 다이아세틸렌 단량체 화합물의 제조방법
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청구항 3 또는 청구항 4에 있어서,상기 아미노알킬 하이드로젠 설페이트는 2-아미노에틸 하이드로젠 설페이트 인 것을 특징으로 하는 수용성 다이아세틸렌 단량체 화합물의 제조방법
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청구항 3 또는 청구항 4에 있어서,상기 알칸포스폰산 무수물은 프로판포스폰산 무수물인 것을 특징으로 하는 수용성 다이아세틸렌 단량체 화합물의 제조방법
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청구항 3 또는 청구항 4에 있어서,상기 알칸포스폰산 무수물을 첨가하여 반응시키는 단계는 1~35℃에서 12 ~ 24 시간 동안 교반하는 방법으로 수행되는 것을 특징으로 하는 수용성 다이아세틸렌 단량체 화합물의 제조방법
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청구항 4에 있어서,상기 알칼리 금속 화합물은 소듐 바이카보네이트인 것을 특징으로 하는 수용성 다이아세틸렌 단량체 화합물의 제조방법
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PEDOT-PSS (폴리(3,4-에틸렌 디옥시티오펜)-폴리(4-스티렌설포네이트))와 하기 화학식 1로 표시되는 수용성 다이아세틸렌 단량체 화합물을 포함하는 광미세가공용 조성물
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청수항 10에 있어서,상기 화학식 1로 표시되는 화합물은, 하기 화학식 2로 표시되는 것을 특징으로 하는 광미세가공용 조성물
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청구항 10에 있어서, 상기 PEDOT-PSS는 1~5(wt/v)% 수용액 상태인 것을 특징으로 하는 광미세가공용 조성물
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청구항 12에 있어서,PEDOT-PSS 수용액의 용질과 수용성 다이아세틸렌 단량체 화합물은, 100: 0
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하기 화학식 1로 표시되는 수용성 다이아세틸렌 단량체 화합물을 PEDOT-PSS 수용액에 용해시킨 다음, 기재 상에 코팅하여 박막을 형성하는 단계(단계 a); 및상기 박막에 포토마스크를 올린 후 자외선을 노광하여 패턴을 형성하는 단계(단계 b)를 포함하는 마이크로 패턴의 제조방법
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청구항 14에 있어서,상기 기재는 실리콘 웨이퍼, 유리판, 플라스틱 기판, 종이 또는 금속기판인 것을 특징으로 하는 마이크로 패턴의 제조방법
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청구항 14에 있어서,상기 단계 b 이후, 황산, 술폰산, 개미산, 염산, 과염소산, 질산, 아세트산, DMF (dimethylformamide), DMSO(dimethyl sulfoxide) 및 에틸렌글리콜로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상으로 도핑하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로 패턴의 제조방법
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