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기판 상에 포토레지스트를 1 내지 300 ㎛의 두께로 코팅한 후, 2 내지 600 ㎛ 직경인 복수개의 원형 패턴으로 노광하는 단계(단계 1);상기 단계 1의 노광이 수행된 포토레지스트 상부에 5 내지 600 ㎛의 두께로 포토레지스트를 코팅한 후, 10 내지 3000 ㎛ 직경인 복수개의 원형 패턴으로 노광하는 단계(단계 2);노광이 수행된 포토레지스트를 제거하는 단계(단계 3);잔류하는 포토레지스트를 리플로우(reflow) 처리하는 단계(단계 4);상기 단계 4에서 리플로우 처리된 기판 상부로 고분자를 코팅한 후 경화시키는 단계(단계 5); 및상기 단계 5에서 경화된 고분자를 박리시키는 단계(단계 6);를 포함하는 이중 마이크로 렌즈의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 단계 3의 포토레지스트는 현상액을 통해 제거하는 것을 특징으로 하는 이중 마이크로 렌즈의 제조방법
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3
제1항에 있어서, 상기 단계 5의 고분자는 광 경화성 고분자 또는 열경화성 고분자인 것을 특징으로 하는 이중 마이크로 렌즈의 제조방법
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4
제1항에 있어서, 상기 단계 5의 고분자는 불소(F)를 포함하지 않는 것을 특징으로 하는 이중 마이크로 렌즈의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 단계 5의 고분자를 코팅하기 전, 불소를 포함하는 고분자를 코팅하여 소수성 박막을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 이중 마이크로 렌즈의 제조방법
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6
제5항에 있어서, 상기 불소를 포함하는 고분자는,퍼플로로데실메타크릴레이트(FDMA: 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorodecyl methacrylate) 또는 하이드로플루오로에테르(hydrofluoroethers)인 것을 특징으로 하는 이중 마이크로 렌즈의 제조방법
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제5항에 있어서, 상기 단계 6의 박리는, 소수성 박막을 메톡시노나플루오로부탄(methoxynonafluorobutane) 또는 하이드로플루오로에테르 용매(hydrofluoroethers solvent)인 용매로 제거하여 수행되는 것을 특징으로 하는 이중 마이크로 렌즈의 제조방법
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