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a) 외주면에 고분자기판이 형성된 롤러를 회전시키는 단계; 및 b) 상기 고분자기판을 지지체 상부에 위치한 나노구조체와 접촉시키는 단계로 이루어지는 나노구조체의 이동방법으로, 상기 나노구조체는 나노와이어, 나노막대 및 나노튜브 중에서 선택되는 하나 또는 둘 이상인 것이고, 상기 a) 단계에서, 상기 롤러의 회전시 상기 고분자기판을 직물 및 부직포 중에서 선택되는 하나 이상인 지지체 상에 마찰시켜, 상기 고분자기판은 음전하로 대전되고, 상기 지지체는 양전하로 대전되며, 상기 b) 단계에서, 음전하로 대전된 상기 고분자기판과 양전하로 대전된 상기 나노구조체 간의 정전기력으로, 얽히거나 꼬여있는 상기 나노구조체를 상기 지지체 상부에서 상기 고분자기판의 일면으로 이동시켜, 상기 고분자기판의 일면에 대해 수직한 방향으로 적층된 나노구조체로 형성시키는 것을 특징으로 하는 나노구조체의 이동방법
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제 1항에 있어서,상기 고분자기판은 폴리에틸렌, 저밀도 폴리에틸렌, 선형저밀도 폴리에틸렌, 초고분자량 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리부틸렌 테레프탈레이트, 폴리에스테르, 폴리아세탈, 폴리아미드, 폴리카보네이트, 폴리이미드, 폴리에테르에테르케톤, 폴리에테르설폰, 폴리페닐렌옥사이드, 폴리페닐렌설파이드 및 폴리에틸렌나프탈레이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상의 혼합물로 형성된 것을 특징으로 하는 나노구조체의 이동방법
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제 1항에 있어서,상기 고분자기판은상기 롤러의 외측 방향으로 돌출된 나노구조체 접촉부를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노구조체의 이동방법
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제 5항에 있어서,상기 나노구조체 접촉부는 규칙적인 메쉬 형상, 랜덤한 매쉬 형상, 닷형(dot) 형상, 또는 선형(line) 형상 중 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상인 것을 특징으로 하는 나노구조체의 이동방법
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제 1항에 있어서,상기 고분자기판과 상기 롤러 사이에 대전방지층이 형성되는 것을 특징으로 하는 나노구조체의 이동방법
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제 1항에 있어서,상기 b) 단계에서,상기 나노구조체를 안착시키는 기판을 더 포함하며, 상기 기판은 상기 나노구조체와 상기 지지체 사이에 위치하는 것을 특징으로 하는 나노구조체의 이동방법
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a) 외주면에 고분자기판이 형성된 롤러를 회전시키는 단계;b) 상기 고분자기판을 지지체 상부에 위치한 나노구조체와 접촉시키는 단계; 및c) 상기 롤러로부터 상기 고분자기판을 분리하는 단계를 포함하는 나노구조체 복합층의 제조방법으로, 상기 나노구조체는 나노와이어, 나노막대 및 나노튜브 중에서 선택되는 하나 또는 둘 이상인 것이고, 상기 a) 단계에서, 상기 롤러의 회전시 상기 고분자기판을 직물 및 부직포 중에서 선택되는 하나 이상인 지지체 상에 마찰시켜, 상기 고분자기판은 음전하로 대전되고, 상기 지지체는 양전하로 대전되며,상기 b) 단계에서, 음전하로 대전된 상기 고분자기판과 양전하로 대전된 상기 나노구조체 간의 정전기력으로, 얽히거나 꼬여있는 상기 나노구조체를 상기 지지체 상부에서 상기 고분자기판의 일면으로 이동시켜, 상기 고분자기판의 일면에 대해 수직한 방향으로 적층된 나노구조체로 형성시키는 것을 특징으로 하는 나노구조체 복합층의 제조방법
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제 10항에 있어서,상기 c) 단계 이후에,d) 상기 나노구조체의 표면을 금속 소스를 이용하여 코팅하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 나노구조체 복합층의 제조방법
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제 10항에 있어서,상기 고분자기판은 고밀도 폴리에틸렌, 저밀도 폴리에틸렌, 선형저밀도 폴리에틸렌, 초고분자량 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리부틸렌 테레프탈레이트, 폴리에스테르, 폴리아세탈, 폴리아미드, 폴리카보네이트, 폴리이미드, 폴리에테르에테르케톤, 폴리에테르설폰, 폴리페닐렌옥사이드, 폴리페닐렌설파이드 및 폴리에틸렌나프탈레이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상의 혼합물로 형성된 것을 특징으로 하는 나노구조체 복합층의 제조방법
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제 10항에 있어서,상기 고분자기판은상기 롤러의 외측 방향으로 돌출된 나노구조체 접촉부를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노구조체 복합층의 제조방법
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제 15항에 있어서,상기 나노구조체 접촉부는 규칙적인 메쉬 형상, 랜덤한 매쉬 형상, 닷형(dot) 형상, 또는 선형(line) 형상 중 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상인 것을 특징으로 하는 나노구조체 복합층의 제조방법
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제 10항에 있어서,상기 고분자기판과 상기 롤러 사이에 대전방지층이 형성되는 것을 특징으로 하는 나노구조체 복합층의 제조방법
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제 10항에 있어서,상기 나노구조체 복합층은 규칙적인 메쉬 형상, 랜덤한 매쉬 형상, 닷형(dot) 형상, 또는 선형(line) 형상 중 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상인 것을 특징으로 하는 나노구조체 복합층의 제조방법
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제 19항에 있어서,상기 랜덤한 메쉬 형상은 상기 나노구조체가 불규칙적으로 얽힌 그물망 구조를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노구조체 복합층의 제조방법
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제 10항에 있어서,상기 b) 단계에서,상기 나노구조체를 안착시키는 기판을 더 포함하며, 상기 기판은 상기 나노구조체와 상기 지지체 사이에 위치하는 것을 특징으로 하는 나노구조체 복합층의 제조방법
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