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제1 방향을 따라 신축 가능하고, 복수의 오목 패턴들이 정의된 베이스층; 및상기 오목 패턴들 각각에 배치되는 복수의 리지드 패턴들을 포함하고,상기 리지드 패턴들은각각이 제1 상면, 상기 제1 상면에 대향하고 상기 제1 상면의 면적보다 작은 면적을 가진 제1 하면, 및 상기 제1 상면 및 상기 제1 하면을 연결하는 제1 연결면을 포함하는 제1 리지드 패턴들; 및각각이 제2 상면, 상기 제2 상면에 대향하고 상기 제2 상면의 면적보다 큰 면적을 가진 제2 하면, 및 상기 제2 상면 및 상기 제2 하면을 연결하는 제2 연결면을 포함하는 제2 리지드 패턴들을 포함하고,상기 제1 리지드 패턴들 및 상기 제2 리지드 패턴들은상기 제1 방향을 따라 교대로(alternately) 배치되는 신축성 기판
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제1항에 있어서,상기 베이스층은상기 제1 방향에 교차하는 제2 방향을 따라 신축되고,상기 제1 리지드 패턴들 및 상기 제2 리지드 패턴들은상기 제1 방향 및 상기 제2 방향에 의해 정의되는 매트릭스(matrix) 형태로 배치되고, 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향을 따라 교대로 배치되는 신축성 기판
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제2항에 있어서,상기 제1 리지드 패턴들 각각은상기 제1 방향 및 상기 베이스층의 두께 방향에 의해 정의되는 단면상에서 제1 사다리꼴 형상을 가지고,상기 제2 리지드 패턴들 각각은상기 제1 방향 및 상기 두께 방향에 의해 정의되는 단면상에서 제2 사다리꼴 형상을 가지고,상기 제1 사다리꼴의 상부변은 하부변보다 길이가 길고,상기 제2 사다리꼴의 상부변은 하부변보다 길이가 짧은 신축성 기판
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제1항에 있어서,상기 제1 리지드 패턴들 중 어느 하나인 제1 리지드 패턴 및 상기 제2 리지드 패턴들 중 상기 제1 리지드 패턴에 인접한 제2 리지드 패턴에 대하여,상기 제1 리지드 패턴의 상기 제1 연결면은 상기 제2 리지드 패턴을 향하여 배치된 제1 경사면을 포함하고,상기 제2 리지드 패턴의 상기 제2 연결면은 상기 제1 경사면을 향하여 배치된 제2 경사면을 포함하고,상기 제1 경사면 및 상기 제2 경사면은 서로 평행한 신축성 기판
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제4항에 있어서,상기 제1 경사면의 상부변 및 상기 제2 경사면의 상부변 사이의 이격 거리는상기 제1 경사면의 하부변 및 상기 제2 경사면의 하부변 사이의 이격 거리와 실질적으로 동일한 신축성 기판
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제1항에 있어서,상기 오목 패턴들은상기 제1 리지드 패턴들이 배치되는 제1 오목 패턴들; 및상기 제2 리지드 패턴들이 배치되는 제2 오목 패턴들을 포함하고,상기 제1 리지드 패턴들의 상기 제1 하면들 및 상기 제1 연결면들은 상기 제1 오목 패턴들에 각각 접촉하고,상기 제2 리지드 패턴들의 상기 제2 하면들 및 상기 제2 연결면들은 상기 제2 오목 패턴들에 각각 접촉하는 신축성 기판
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제6항에 있어서,실질적으로 플랫(flat)한 평면인 상면을 포함하고,상기 상면은 상기 제1 리지드 패턴들 각각의 상기 제1 상면, 상기 제2 리지드 패턴들 각각의 상기 제2 상면 및 상기 베이스층의 상면에 의해 정의되는 신축성 기판
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제6항에 있어서,상기 오목 패턴들과 상기 리지드 패턴들이 접촉하는 면 중 적어도 일부에 양각 패턴이 정의된 신축성 기판
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제1항에 있어서,상기 베이스층은상기 리지드 패턴들에 비해 연성 및 탄성이 큰 신축성 기판
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제9항에 있어서,상기 베이스층은 폴리우레탄(Polyurethane) 또는 폴리디메틸실록산(PDMS: Polydimethylsiloxane)를 포함하는 신축성 기판
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제9항에 있어서,상기 리지드 패턴들은폴리이미드(Polyimide)를 포함하는 신축성 기판
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캐리어 기판 상에 복수의 제1 리지드 패턴들을 형성하는 단계;상기 캐리어 기판 상에 복수의 제2 리지드 패턴들을 형성하는 단계;상기 제1 리지드 패턴들 및 상기 제2 리지드 패턴들을 커버하는 베이스층을 형성하는 단계; 및상기 제1 리지드 패턴들의 상면 및 제2 리지드 패턴들의 상면이 노출되도록 상기 캐리어 기판을 제거하는 단계를 포함하고,상기 제1 리지드 패턴들의 상면은 상기 제1 리지드 패턴들이 상기 베이스층과 접촉하는 면보다 크고, 상기 제2 리지드 패턴들의 상면은 상기 제2 리지드 패턴들이 상기 베이스층과 접촉하는 면보다 작고,상기 제1 리지드 패턴들 및 상기 제2 리지드 패턴들은제1 방향을 따라 교대로 형성되는 신축성 기판의 제조 방법
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제12항에 있어서,상기 제1 리지드 패턴들을 형성하는 단계는고분자물질을 도포하여 고분자막을 형성하는 단계; 및상기 제1 리지드 패턴들이 형성되도록 상기 고분자막을 식각하는 단계를 포함하는 신축성 기판의 제조 방법
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제12항에 있어서,상기 제2 리지드 패턴들을 형성하는 단계는복수의 개구부가 정의된 희생막을 형성하는 단계; 및상기 제2 리지드 패턴들이 형성되도록 상기 개구부 각각에 고분자물질을 충전(fill)하는 단계를 포함하는 신축성 기판의 제조 방법
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제12항에 있어서,상기 제1 리지드 패턴들을 형성하는 단계 및 상기 제2 리지드 패턴들을 형성하는 단계 이후에상기 제1 리지드 패턴들 및 상기 제2 리지드 패턴들의 상면에 양각 패턴을 형성하는 단계를 더 포함하는 신축성 기판의 제조 방법
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제12항에 있어서,상기 베이스층을 형성하는 단계는상기 캐리어 기판 상에 상기 제1 리지드 패턴들 및 상기 제2 리지드 패턴들이 커버되도록 신축성 탄성 중합체 물질을 도포하는 단계; 및상기 베이스층이 형성되도록 상기 신축성 탄성 중합체 물질을 경화시키는 단계를 포함하는 신축성 기판의 제조 방법
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제1 방향을 따라 신축 가능한 베이스층, 및 상기 베이스층에 매립되고 상기 제1 방향을 따라 배열된 복수의 리지드 패턴들을 포함하는 신축성 기판; 및상기 신축성 기판 상에 배치되는 전자 소자를 포함하고,상기 신축성 기판 상면에 상기 리지드 패턴들의 상면이 노출되고,상기 전자 소자는 상기 리지드 패턴들의 노출된 상면 상에 배치되고,상기 리지드 패턴들은각각이 제1 상면, 및 상기 제1 상면에 대향하고 상기 제1 상면의 면적보다 작은 면적을 가진 제1 하면을 포함하는 제1 리지드 패턴들; 및각각이 제2 상면, 및 상기 제2 상면에 대향하고 상기 제2 상면의 면적보다 큰 면적을 가진 제2 하면을 포함하는 제2 리지드 패턴들을 포함하고,상기 제1 리지드 패턴들 및 상기 제2 리지드 패턴들은상기 제1 방향을 따라 교대로(alternately) 배치되는 전자 장치
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제17항에 있어서,상기 신축성 기판은상기 리지드 패턴들의 상면들이 정의하는 복수의 리지드 영역들; 및상기 리지드 영역들에 인접한 신축 영역을 포함하고,상기 전자 소자는 리지드 영역 상에 배치되는 전자 장치
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제18항에 있어서,상기 신축 영역에 중첩하고 상기 전자 소자들을 전기적으로 연결하는 배선을 더 포함하고,상기 배선은 신축 가능한 전자 장치
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