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불연속 나노구조물 제조방법

  • 기술번호 : KST2018012059
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 불연속 나노구조물 제조방법에 관한 것으로, 일측 표면에 나노구조를 갖는 고분자 탄성중합체 스탬프 및 전사하고자 하는 기판을 준비하는 단계; 나노구조를 갖는 고분자 탄성중합체 스탬프 및 기판의 상부 표면을 활성화시키는 단계; 표면이 활성화된 나노구조를 갖는 고분자 탄성중합체 스탬프를 기판 상부 면에 낮은 압력으로 가압하여 두 표면을 접합하는 단계; 접합된 나노구조를 갖는 고분자 탄성중합체 스탬프와 기판을 높은 침투 특성을 갖는 유기용매에 침지하는 단계; 인장응력을 가해줌과 동시에 접합된 구조의 결합을 분리하는 단계;를 포함하는 불연속 나노구조물 제조방법을 제공한다.
Int. CL G03F 7/00 (2006.01.01) B82B 3/00 (2017.01.01) G03F 7/20 (2006.01.01)
CPC G03F 7/0002(2013.01) G03F 7/0002(2013.01) G03F 7/0002(2013.01)
출원번호/일자 1020170025609 (2017.02.27)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2018-0099972 (2018.09.06) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2017.02.27)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박재홍 대한민국 대전광역시 유성구
2 장현익 대한민국 서울시 성동구
3 윤해수 대한민국 충청북도 청원군

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인오암 대한민국 대전광역시 서구 문예로 **, *층 ***호(둔산동, 오성빌딩)
2 이성렬 대한민국 대전광역시 서구 문예로 **, *층 ***호(둔산동, 오성빌딩)(특허법인오암)
3 이성준 대한민국 대전광역시 서구 문예로 **, *층 ***호(둔산동, 오성빌딩)(특허법인오암)
4 이한욱 대한민국 대전광역시 서구 문예로 **, *층 ***호(둔산동, 오성빌딩)(특허법인오암)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2017.02.27 수리 (Accepted) 1-1-2017-0199440-76
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2017.09.11 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2017.11.10 수리 (Accepted) 9-1-2017-0037890-07
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2018.03.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0160084-04
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2018.03.29 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2018-0315599-49
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2018.03.29 수리 (Accepted) 1-1-2018-0315598-04
7 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)		 2018.03.29 수리 (Accepted) 1-1-2018-0315144-90
8 등록결정서
Decision to grant		 2018.06.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0431138-50
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
(1단계) 일측 표면에 나노구조를 갖는 고분자 탄성중합체 스탬프 및 전사하고자 하는 기판을 준비하는 단계;(2단계) 나노구조를 갖는 고분자 탄성중합체 스탬프 및 기판의 상부 표면을 활성화시키는 단계;(3단계) 표면이 활성화된 나노구조를 갖는 고분자 탄성중합체 스탬프를 기판 상부 면에 가압하여 두 표면을 접합하는 단계;(4단계) 접합된 나노구조를 갖는 탄소중합체 고분자 스탬프와 기판을 침투 특성을 갖는 유기용매에 침지하는 단계;(5단계) 인장응력을 가해줌과 동시에 접합된 구조의 결합을 분리하는 단계;를 포함하는 불연속 나노구조물 제조방법
2 2
제 1항에 있어서,상기 나노구조는 원기둥 형태 또는 양각의 구조인 것을 특징으로 하는 불연속 나노구조물 제조방법
3 3
제 1항에 있어서,상기 1단계에서 고분자 탄성중합체는 유기용매가 침투될 수 있는 실리콘 계 고무로서, 디메틸실리콘고무(MQ), 메틸비닐실리콘고무(VMQ), 메틸페닐실리콘고무(PVMQ), 불소실리콘고무(FVMQ) 및 폴리디메틸실록산(PDMS)로 이루어진 군 중에서 선택되는 1종인 것을 특징으로 하는 불연속 나노구조물 제조방법
4 4
제 1항에 있어서, 상기 1단계에서 기판은 실리콘(Si), 실리카(SiO2), 실리콘 나이트라이드(Si3N4), 유리 및 인듐 주석 산화물(Indium Tin Oxide, ITO)로 이루어진 군 중에서 선택되는 1종인 것을 특징으로 하는 불연속 나노구조물 제조방법
5 5
제 1항에 있어서,상기 2단계에서 나노구조를 갖는 고분자 탄성중합체 스탬프 및 기판의 상부 표면은 UV-ozone 처리, 자외선 조사 또는 산소 플라즈마를 이용하여 활성화될 수 있는 것을 특징으로 하는 불연속 나노구조물 제조방법
6 6
제 1항에 있어서,상기 4단계에서 유기용매는 테트라하이드로퓨란(THF), 헥세인, 벤젠, 톨루엔, 트라이클로로에틸렌, 1,2-다이클로로벤젠으로 이루어진 군 중에서 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 불연속 나노구조물 제조방법
7 7
제 1항에 있어서,상기 4단계에서 유기용매 내 접합된 나노구조를 갖는 고분자 탄성중합체 스탬프와 기판의 침지 시간에 따라 나노구조의 높이를 조절할 수 있는 것을 특징으로 하는 불연속 나노구조물 제조방법
8 8
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패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
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