1 |
1
소정의 전구체와 용매를 혼합하여 전해질 용액을 제조하는 전해질 용액 제조 단계;상기 전해질 용액과, 작업 전극, 그리고, 상대 전극을 포함하는 전기 화학 전지를 전압 인가 장치 또는 전류 인가 장치에 연결하여 전착 회로를 구성하는 회로 구성 단계;상기 작업 전극 상에 차광 수단을 위치시키는 마스크 장착 단계; 및상기 작업 전극에 환원 전압 또는 전류를 인가하고 광원을 이용하여 상기 차광 수단을 향해 빛을 조사시켜 패턴화 광전착을 수행하되, 상기 차광 수단에 의해 상기 빛이 도달하는 영역과 상기 빛이 도달하지 않는 영역이 구분되어 형성됨에 따라, 상기 빛이 도달하는 영역과 상기 빛이 도달하지 않는 영역의 박막 두께 차이와 조성 차이가 발생하여 표면에 특정 문양이 패터닝된 화합물 박막이 생성되는 박막 생성 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 화합물 박막 제조 방법
|
2 |
2
제1항에 있어서, 상기 박막 생성 단계를 통해 생성된 화합물 박막을 작업 전극으로 사용하고, 광전착법을 이용하여 상기 화합물 박막 상에 색상층을 형성하는 색상층 형성 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 화합물 박막 제조 방법
|
3 |
3
제1항에 있어서,상기 박막 생성 단계를 통해 생성된 화합물 박막을 황 또는 셀레늄을 포함하는 기체 분위기 하에서 열처리하는 열처리 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 화합물 박막 제조 방법
|
4 |
4
제1항에 있어서,상기 빛의 파장은 상기 박막 생성 단계를 통해 생성되는 화합물 박막의 밴드갭에 해당하는 파장보다 짧은 것을 특징으로 하는 화합물 박막 제조 방법
|
5 |
5
제1항에 있어서,상기 차광 수단은 포토마스크로 형성되는 것을 특징으로 하는 화합물 박막 제조 방법
|
6 |
6
제5항에 있어서,상기 차광 수단은,상기 포토마스크 배면에 형성되는 반사방지막을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 화합물 박막 제조 방법
|
7 |
7
제1항에 있어서,상기 전해질 용액은, 지지 전해질 및 착화제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 화합물 박막 제조 방법
|
8 |
8
제1항에 있어서,상기 전구체는, 인듐, 갈륨, 주석, 아연 및 알루미늄 중 어느 하나 또는 둘 이상의 합금으로 이루어진 군으로부터 선택된 금속의 염화물, 황산염, 질산염, 아세트산염 또는 수산화물이거나, SeO2,H2SeO3또는 SeCl4인 것을 특징으로 하는 화합물 박막 제조 방법
|
9 |
9
제1항에 있어서,상기 전해질 용액은 Cu, In 및 Se의 전구체를 포함하며, 상기 Cu, In 및 Se의 원자비는 0
|
10 |
10
제7항에 있어서,상기 착화제는,트리에탄올아민, 시트르산, 타르타르산, 술팜산, 구연산나트륨, 프탈산수소칼륨 및 티오시안화칼륨으로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나 또는 둘 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 화합물 박막 제조 방법
|
11 |
11
제1항 내지 제10항 중 어느 한 항의 방법에 따라 제조된 것을 특징으로 하는 화합물 박막
|
12 |
12
제11항의 화합물 박막을 포함하는 것을 특징으로 하는 태양 전지
|