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하기 화학식 1로 나타내는, 화합물;[화학식 1]상기 화학식 1에서, X1, X2, X3 및 X4는 각각 독립적으로 수소(H), 아릴(aryl), 디아릴아민(diarylamine), 또는 tert-부틸(tert-butyl)을 나타낸다
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제1항에 있어서,화학식 1은 하기 화학식 2 내지 화학식 5로 중 어느 하나로 나타내는 것을 특징으로 하는, 화합물;[화학식 2][화학식 3][화학식 4][화학식 5]
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제1항에 있어서,상기 화합물은 150℃ 내지 200℃의 온도에서 열경화 가능한 것을 특징으로 하는, 화합물
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하기 화학식 1로 나타내는 화합물을 포함하는, 박막;[화학식 1]상기 화학식 1에서, X1, X2, X3 및 X4는 각각 독립적으로 수소, 아릴, 디아릴아민, 또는 tert-부틸을 나타낸다
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제4항에 있어서,화학식 1은 하기 화학식 2 내지 화학식 5 중 어느 하나로 나타내는 것을 특징으로 하는, 박막;[화학식 2][화학식 3][화학식 4][화학식 5]
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제4항에 있어서,상기 박막은 발광소자의 정공수송층인 것을 특징으로 하는, 박막
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하기 화학식 1로 나타내는 화합물이 유기 용매에 용해된 코팅 용액을 기판 상에 코팅하는 단계; 및열처리하여 경화시키는 단계를 포함하는, 박막의 제조 방법;[화학식 1]상기 화학식 1에서, X1, X2, X3 및 X4는 각각 독립적으로 수소, 아릴, 디아릴아민, 또는 tert-부틸을 나타낸다
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제7항에 있어서,상기 유기 용매는 톨루엔, 디클로로메탄, 클로로포름, 아세톤, 및 아세토니트릴 중 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는, 박막의 제조방법
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제7항에 있어서,상기 열처리는 150℃ 내지 200℃의 온도에서 수행하는 것을 특징으로 하는, 박막의 제조방법
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제7항에 있어서,화학식 1은 하기 화학식 2 내지 화학식 5 중 어느 하나로 나타내는 것을 특징으로 하는, 박막의 제조방법;[화학식 2][화학식 3][화학식 4][화학식 5]
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기판;상기 기판 상에 배치된 양극;상기 양극 상에 배치된 정공주입층;상기 정공주입층 상에 배치되고, 하기 화학식 1로 나타내는 화합물을 포함하는, 정공수송층;상기 정공수송층 상에 배치된 발광층;상기 발광층 상에 배치된 전자수송층;상기 전자수송층 상에 배치된 전자주입층; 및상기 전자주입층 상에 배치된 음극을 포함하는, 유기발광소자;[화학식 1]상기 화학식 1에서, X1, X2, X3 및 X4는 각각 독립적으로 수소, 아릴, 디아릴아민, 또는 tert-부틸을 나타낸다
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제11항에 있어서,화학식 1은 하기 화학식 2 내지 화학식 5 중 어느 하나로 나타내는 것을 특징으로 하는, 유기발광소자;[화학식 2][화학식 3][화학식 4][화학식 5]
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