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광원으로부터의 광 빔을 확산하는 제1 회절광학 소자, 상기 확산된 광 빔을 전반사 하여 전달하는 광 도파로, 상기 전달된 광 빔에 대한 각도를 변경하며 상기 전달된 광 빔을 추가적으로 확산하는 제2 회절광학 소자, 그리고상기 각도 변경된 광 빔을 변조하는 디지털 마이크로-미러 소자를 포함하며, 상기 제2 회절광학 소자는 상기 디지털 마이크로-미러 소자가 요구하는 입사각도를 만족하도록 상기 각도를 변경하고 상기 전달된 광 빔을 광 변조를 위한 파형으로 변환하며, 상기 확산된 광 빔의 확대 비율은 상기 광 도파로의 길이 및 두께에 따라 변경되는광 변조 시스템
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제1항에 있어서, 상기 제1 회절광학 소자 및 상기 제2 회절광학 소자는 상기 광 도파로 상에 위치하는 광 변조 시스템
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제1항에 있어서, 상기 제1 회절광학 소자는 상기 확산된 광 빔이 상기 광 도파로에서 전반사 되도록 상기 광원으로부터의 상기 광 빔에 대한 경로를 변경하는 광 변조 시스템
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제1항에 있어서, 상기 광원은 다색 파장을 가지며, 상기 제1 회절광학 소자 및 상기 제2 회절광학 소자는 상기 다색 파장에 대한 선택성을 가지는 광변조 시스템
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제1항에 있어서, 상기 제1 회절광학 소자는 반사형 구조이고, 상기 제2 회절광학 소자는 투과형 구조이며, 상기 제1 회절광학 소자 및 상기 제2 회절광학 소자는 상기 광 도파로를 기준으로 상기 광원이 위치하는 곳과 반대 쪽에 위치하는 광 변조 시스템
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제1항에 있어서, 상기 제1 회절광학 소자는 투과형 구조이고, 상기 제2 회절광학 소자는 반사형 구조이며, 상기 제1 회절광학 소자 및 상기 제2 회절광학 소자는 상기 광 도파로를 기준으로 상기 광원이 위치하는 곳과 같은 쪽에 위치하는 광 변조 시스템
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제1항에 있어서, 상기 제1 회절광학 소자는 반사형 구조이고, 상기 제2 회절광학 소자는 투과형 구조이며, 상기 제1 회절광학 소자는 상기 광 도파로를 기준으로 상기 광원이 위치하는 곳과 반대 쪽에 위치하고, 상기 제2 회절광학 소자 및 상기 디지털 마이크로-미러 소자는 상기 광 도파로를 기준으로 상기 광원이 위치하는 곳과 같은 쪽에 위치하는 광 변조 시스템
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제1항에 있어서, 상기 변조된 광빔을 투사하는 투사 광학계를 더 포함하는 광 변조 시스템
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제1항에 있어서, 상기 광원은 가간섭성 광원인 광 변조 시스템
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제1항에 있어서, 상기 광원으로부터의 상기 광 빔을 확대하여 상기 제1 회절광학 소자로 출사하는 빔확대 광학계를 더 포함하는 광 변조 시스템
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광원으로부터의 광 빔을 변경하여 디지털 마이크로-미러 소자로 전달하는 광원 조명 장치로서, 상기 광 빔을 확산하는 제1 회절광학 소자, 상기 확산된 광 빔을 전반사 하여 전달하는 광 도파로, 그리고상기 전달된 광 빔에 대한 각도를 변경하며 상기 전달된 광 빔을 추가적으로 확산하여 상기 디지털 마이크로-미러 소자로 입사시키는 제2 회절광학 소자를 포함하며, 상기 제2 회절광학 소자는 상기 디지털 마이크로-미러 소자가 요구하는 입사각도를 만족하도록 상기 각도를 변경하고 상기 전달된 광 빔을 광 변조를 위한 파형으로 변환하며, 상기 확산된 광 빔의 확대 비율은 상기 광 도파로의 길이 및 두께에 따라 변경되는광원 조명 장치
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제13항에 있어서, 상기 제1 회절광학 소자는 상기 확산된 광 빔이 상기 광 도파로에서 전반사 되도록 상기 광원으로부터의 상기 광 빔에 대한 경로를 변경하는 광원 조명 장치
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제13항에 있어서, 상기 제1 회절광학 소자는 반사형 구조이고, 상기 제2 회절광학 소자는 투과형 구조이며, 상기 제1 회절광학 소자 및 상기 제2 회절광학 소자는 상기 광 도파로를 기준으로 상기 광원이 위치하는 곳과 반대 쪽에 위치하는 광원 조명 장치
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제13항에 있어서, 상기 제1 회절광학 소자는 투과형 구조이고, 상기 제2 회절광학 소자는 반사형 구조이며, 상기 제1 회절광학 소자 및 상기 제2 회절광학 소자는 상기 광 도파로를 기준으로 상기 광원이 위치하는 곳과 같은 쪽에 위치하는 광원 조명 장치
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제13항에 있어서, 상기 광원으로부터의 상기 광 빔을 확대하여 상기 제1 회절광학 소자로 출사하는 빔확대 광학계를 더 포함하는 광원 조명 장치
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