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방사능 오염수에 포함된 중수소수 및 삼중수소수를 흡착하며, 상기 오염수에 포함된 물과 수소결합을 이루지 않는, 상기 오염수를 정화시키는 방사성 물질의 흡착제에 있어서, 수소결합을 하는 관능기를 포함하는 고분자; 및상기 고분자가 분산된 용매를 포함하되,상기 관능기는 상기 중수소수 및 삼중수소수와 수소결합을 하고,상기 수소결합에 의해, 중수소수 및 삼중수소수는 상기 고분자에 포획되며,상기 수소결합을 하는 상기 관능기는 -COOH, -NH2이고,상기 관능기는 상기 고분자의 가지(branch) 말단에 위치하는 방사성 물질의 흡착제
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제1 항에 있어서, 상기 고분자는 폴리우레탄(polyurethane), 폴리아크릴레이트(polyacrylate), 폴리아크릴산(polyacrylic acid), 폴리아미드(polyamide), 및 폴리아크릴아미드(polyacrylamide)으로 이루어진 그룹에서 선택된 어느 하나인 방사능 물질의 흡착제
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제1 항에 있어서,상기 용매는 1-메틸-2-피롤리돈(1-methl-2-pyrrolidone; NMP), 아세톤(acetone), 에탄올(ethanol), n-프로판올(n-propanol), n-부탄올(n-buranol), n-헥산(n-hexane), 사이클로헥산올(cyclohexanol), 아세트산(acetic acid), 에틸아세테이트(ethyl acetate), 디에틸에테르(diethyl ether), 디메틸포름아미드(dimethyl formamide; DMF), 디메틸아세트아미드(dimethylacetamide; DMAc), 다이옥산(dioxane), 테트라하이드로퓨란(tetrahydrofuran; THF), 디메틸술폭사이드(dimethyl sulfoxide; DMSO), 시클로헥산(cyclohexane), 벤젠(benzene), 톨루엔(toluene), 크실렌(xylene), 및 물(water)로 이루어진 그룹에서 선택된 적어도 어느 하나인 방사성 물질의 흡착제
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방사능 오염수에 포함된 중수소수 및 삼중수소수를 흡착하며, 상기 오염수에 포함된 물과 수소결합을 이루지 않는, 상기 오염수를 정화시키는 방사성 물질 흡착제의 제조방법에 있어서, 수소결합을 하는 관능기를 포함하는 고분자를 합성하는 단계;상기 고분자를 용매에 용해시켜 고분자용액을 형상하는 단계; 및상기 고분자용액을 가공하는 단계를 포함하되,상기 관능기는 상기 중수소수 및 삼중수소수와 수소결합을 하고,상기 수소결합에 의해, 중수소수 및 삼중수소수는 상기 고분자에 포획되며,상기 수소결합을 하는 상기 관능기는 -COOH, -NH2이고,상기 관능기는 상기 고분자의 가지(branch) 말단에 위치하는 방사성 물질 흡착제의 제조방법
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제7 항에 있어서,상기 고분자는 폴리우레탄(polyurethane), 폴리아크릴레이트(polyacrylate), 폴리아크릴산(polyacrylic acid), 폴리아미드(polyamide), 및 폴리아크릴아미드(polyacrylamide)으로 이루어진 그룹에서 선택된 어느 하나인 방사능 물질의 흡착제의 제조방법
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제7 항에 있어서,상기 용매는 1-메틸-2-피롤리돈(1-methl-2-pyrrolidone; NMP), 아세톤(acetone), 에탄올(ethanol), n-프로판올(n-propanol), n-부탄올(n-buranol), n-헥산(n-hexane), 사이클로헥산올(cyclohexanol), 아세트산(acetic acid), 에틸아세테이트(ethyl acetate), 디에틸에테르(diethyl ether), 디메틸포름아미드(dimethyl formamide; DMF), 디메틸아세트아미드(dimethylacetamide; DMAc), 다이옥산(dioxane), 테트라하이드로퓨란(tetrahydrofuran; THF), 디메틸술폭사이드(dimethyl sulfoxide; DMSO), 시클로헥산(cyclohexane), 벤젠(benzene), 톨루엔(toluene), 크실렌(xylene), 및 물(water)로 이루어진 그룹에서 선택된 적어도 어느 하나인 방사성 물질의 흡착의 제조방법
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제7 항에 있어서,상기 고분자용액을 가공하는 단계는, 상기 고분자용액을 겔화시켜 상기 고분자가 포함된 하이드로겔을 형성하는 단계를 포함하는 방사성 물질 흡착제의 제조방법
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제7 항에 있어서,상기 고분자용액을 가공하는 단계는, 상기 고분자용액을 겔화시켜 상기 고분자가 포함된 비드를 형성하는 단계를 포함하는 방사성 물질 흡착제의 제조방법
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