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열 또는 자외선을 이용한 경화수단과, 하측면에 패턴이 형성된 평판형 스탬프와, 상기 스탬프가 장착되는 스탬프 고정장치로 이루어진 헤드 유닛;상기 헤드 유닛을 x, y축으로 이송시키는 x, y축 이송용 스테이지와, 패턴전사를 위해 z축으로 압력을 가하는 z축 가압장치를 포함하는 패터닝 유닛;스테이션 상부에 제1기판 및 제2기판을 고정시키는 제1기판 고정장치 및 제2기판 고정장치를 포함하며, 상기 헤드 유닛 하부에 배치된 평판 유닛; 및상기 헤드 유닛, 상기 패터닝 유닛 및 평판 유닛의 동작 및 위치를 제어하는 제어 유닛; 을 포함하며, 상기 헤드 유닛은 상기 스탬프 및 경화수단이 탈부착 가능하여 스템프가 제1기판과 접촉하는 영역에만 에너지를 발생시키는 순간가열방식 임프린트 및 용액전사방식 임프린트 중 하나를 수행가능한 형태로 선택가능하고, 상기 경화수단은 상기 스탬프에 열 또는 자외선을 공급하여 상기 스탬프와 접촉된 제1기판에만 패터닝이 이루어지고 상기 제1기판의 나머지 영역에 변형이 발생되지 않는 것을 특징으로 하는 임프린트 장치
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제 1항에 있어서,상기 헤드 유닛은상기 스탬프에 전극이 형성되고,상기 경화수단이 펄스기반 순간가열방식으로 열을 공급하는 수단인 것을 특징으로 하는 임프린트 장치
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제 1항에 있어서,상기 헤드 유닛은상기 스탬프 및 스탬프 고정장치가 자외선을 통과시킬 수 있는 재질로 형성되고,상기 경화수단이 자외선 조사 수단인 것을 특징으로 하는 임프린트 장치
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제 1항에 있어서,상기 헤드 유닛은플렉셔 힌지와 같은 탄성 기반의 힌지가 적용된 스탬프 각도보상장치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 임프린트 장치
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제 1항에 있어서,상기 임프린트 장치는패터닝 공정 시, 상기 스탬프의 위치를 정렬하는데 필요한 데이터를 측정하는 측정 유닛을 더 포함하며,상기 측정 유닛에서 측정된 데이터에 따라 상기 제어 유닛에 의해 상기 스탬프의 위치가 제어되는 것을 특징으로 하는 임프린트 장치
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제 6항에 있어서,상기 측정 유닛은연속적인 패터닝 공정에서, 상기 제1기판 상에 이미 패터닝된 패턴의 위치를 측정하는 패턴 위치 측정장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 임프린트 장치
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제 6항에 있어서,상기 측정 유닛은상기 스탬프의 측면과 이격된 일정 지점에 고정되어 설치되며, 상기 스탬프와의 절대 위치를 측정하는 스탬프 위치 측정장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 임프린트 장치
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제 1항, 제3항 내지 제 8항 중 어느 한 항에 의한 임프린트 장치에서, 상기 헤드 유닛에 펄스기반 순간가열방식으로 열을 공급하는 경화수단이 장착되어 패턴을 전사하는 순간가열방식 임프린트 방법에 있어서,a) 상기 x, y축 이송용 스테이지를 이용하여 상기 헤드 유닛을 상기 제1기판 상측의 일정 위치에 정렬하는 패터닝 정렬 단계;b) 상기 제1기판과, 상기 스탬프가 z축 가압장치에 의해 면접촉하며 일정 압력으로 가압되고, 상기 경화수단에서 발생된 펄스에너지에 의해 스탬프가 가열되어 상기 제1기판 상에 패터닝이 이루어지는 패터닝 단계; 및c) 상기 z축 가압장치에 의해, 상기 헤드 유닛이 z축 초기 위치로 복귀하는 스탬프 분리 단계; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 순간가열방식 임프린트 방법
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제 9항에 있어서,상기 임프린트 방법은상기 제1기판이 상기 스탬프보다 크게 형성되어 연속적인 패터닝이 이루어지는 경우,상기 a)~c)단계가 순차적으로 반복되어 수행되는 것을 특징으로 하는 순간가열방식 임프린트 방법
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제 10항에 있어서,상기 패터닝 정렬 단계는측정 유닛에서, 이전에 패터닝된 패턴의 위치 또는 스탬프의 절대 위치를 측정하여 상기 제어 유닛으로 데이터를 전송하고, 상기 제어 유닛이 상기 x, y축 이송용 스테이지의 위치를 제어하여, 상기 헤드 유닛이 상기 제1기판 상, 다음 패터닝 위치로 이송되도록 수행되는 것을 특징으로 하는 순간가열방식 임프린트 방법
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제 1항, 제3항 내지 제 8항 중 어느 한 항에 의한 임프린트 장치에서, 상기 헤드 유닛에 자외선을 이용한 경화수단이 장착되어 패턴을 전사하는 용액전사방식 임프린트 방법에 있어서,a) 상기 x, y축 이송용 스테이지를 이용하여 상기 헤드 유닛을 상기 제2기판 상측의 일정 위치에 정렬하는 기증 정렬 단계;b) 자외선 경화성 레지스트가 도포된 상기 제2기판과 상기 스탬프가 z축 가압장치에 의해 면접촉하며 일정 압력으로 가압되고, 상기 z축 가압장치에 의해 상기 헤드 유닛이 z축 초기 위치로 복귀하면서 레지스트 일부가 상기 스탬프 하측 표면에 뭍어 옮겨지는 기증 단계;c) 상기 x, y축 이송용 스테이지에 의해 상기 헤드 유닛이 제1기판의 패터닝 위치로 이동하는 패터닝 정렬 단계;d) 상기 z축 가압장치에 의해 상기 제1기판 및 상기 스탬프가 면접촉하며 일정 압력으로 가압되고, 상기 경화수단에 의해 자외선이 조사되는 패터닝 단계; 및e) 상기 z축 가압장치에 의해, 상기 헤드 유닛이 z축 초기 위치로 복귀하는 스탬프 분리 단계; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 용액전사방식 임프린트 방법
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제 12항에 있어서,상기 임프린트 방법은상기 제1기판이 상기 스탬프보다 크게 형성되어 연속적인 패터닝이 이루어지는 경우,상기 a)~e)단계가 순차적으로 반복되어 수행되는 것을 특징으로 하는 용액전사방식 임프린트 방법
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제 13항에 있어서,상기 패터닝 정렬 단계는상기 측정 유닛에서, 이전에 상기 제1기판 상 패터닝된 패턴의 위치 또는 스탬프의 절대 위치를 측정하여 상기 제어 유닛으로 데이터를 전송하고, 상기 제어 유닛이 상기 x, y축 이송용 스테이지의 위치를 제어하여, 상기 헤드 유닛이 상기 제1기판 상, 다음 패터닝 위치로 이송되도록 수행되는 것을 특징으로 하는 용액전사방식 임프린트 방법
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전극 및 하측면에 패턴이 형성된 평판형 스탬프와, 상기 스탬프가 장착되는 스탬프 고정장치와, 경화수단으로 이루어진 헤드 유닛;상기 헤드 유닛을 x, y축으로 이송시키는 x, y축 이송용 스테이지와, 패턴전사를 위해 z축으로 압력을 가하는 z축 가압장치를 포함하는 패터닝 유닛;스테이션 상부에 상기 스탬프에 비해 대면적인 패턴전사용 기판 및, 상기 패턴전사용 기판을 고정시키는 기판 고정장치를 포함하며, 상기 헤드 유닛 하부에 배치된 평판 유닛; 연속적인 패터닝 공정에서, 상기 패턴전사용 기판 상에 이미 패터닝된 패턴의 위치를 측정하는 패턴 위치 측정장치를 포함하여 상기 스탬프의 위치를 정렬하는데 필요한 데이터를 측정하는 측정 유닛; 및 상기 측정 유닛에서 측정된 데이터에 따라 상기 헤드 유닛, 패터닝 유닛, 및 평판 유닛의 동작 및 위치를 제어하는 제어 유닛; 을 포함하며, 상기 경화수단은 스템프가 기판과 접촉하는 영역에만 에너지를 발생시키는 펄스기반 순간가열방식으로 상기 스탬프에 열을 공급하여, 상기 스탬프와 접촉된 패턴전사용 기판에만 패터닝이 이루어지고 상기 패턴전사용 기판의 나머지 영역에 열전달이 되지 않아 열변형이 발생되지 않는 것을 특징으로 하는 임프린트 장치
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제 15항에 있어서,상기 헤드 유닛은플렉셔 힌지와 같은 탄성 기반의 힌지가 적용된 스탬프 각도보상장치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 임프린트 장치
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제 15항에 있어서,상기 측정 유닛은상기 스탬프의 측면과 이격된 일정 지점에 고정되어 설치되며, 상기 스탬프와의 절대 위치를 측정하는 스탬프 위치 측정장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 임프린트 장치
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