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나노와이어 코팅층을 형성하는 단계;상기 나노와이어 코팅층 상에 그래핀층을 형성하는 단계;상기 그래핀층 상에 그래핀층의 일부를 노출시키는 개구를 갖는 포토 패턴을 형성하는 단계; 및상기 포토 패턴을 식각 방지막으로 상기 그래핀층 및 상기 나노와이어 코팅층을 건식 식각하여, 그래핀 전극 패턴과, 상기 그래핀 전극 패턴 하부에 배치된 도전성 영역 및 금속 나노와이어의 절단 부분이 배치된 절연 영역을 갖는 투명 전극 패턴으로 패터닝하는 단계를 포함하는,하이브리드 투명 전극의 패터닝 방법
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제1항에 있어서,상기 패터닝하는 단계는 산소가스를 이용한 반응성 이온 식각 공정으로 수행하는 것을 특징으로 하는,하이브리드 투명 전극의 패터닝 방법
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제1항에 있어서,상기 패터닝하는 단계에서 건식 식각의 식각 가스에 의해서,상기 포토 패턴에 의해 노출된 그래핀층은 제거되고,제거된 그래핀층에 의해 노출된 나노와이어 코팅층의 금속 나노와이어가 절단되는 것을 특징으로 하는,하이브리드 투명 전극의 패터닝 방법
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제1항에 있어서,상기 도전성 영역과 상기 절연 영역 모두에 금속 나노와이어들이 배치되되, 상기 절연 영역에 금속 나노와이어의 절단 부분이 배치된 것을 특징으로 하는,하이브리드 투명 전극의 패터닝 방법
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제1항에 있어서,상기 나노와이어 코팅층을 형성하는 단계는 금속 나노와이어 용액을 코팅하여 수행하고,상기 그래핀층을 형성하는 단계는 상기 나노와이어 코팅층 상에 그래핀을 전사시켜 형성하는 것을 특징으로 하는,하이브리드 투명 전극의 패터닝 방법
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