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밀착성 고분자 기판을 준비하는 준비 단계; 및상기 밀착성 고분자 기판 위에 복수의 입자를 압력을 가하여 코팅하는 코팅 단계;를 포함하고,상기 코팅 단계는 상기 밀착성 고분자 기판에 상기 복수의 입자에 각기 대응하는 복수의 오목부가 형성되면서 코팅되는 입자 정렬을 이용한 세포 배양기판 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 코팅 단계에서는 상기 복수의 입자를 문질러서 상기 압력을 가하는 입자 정렬을 이용한 세포 배양기판 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 오목부 각각의 형상은 입자의 일부를 감싸도록 입자의 형상에 대응하는, 입자 정렬을 이용한 세포 배양기판 제조방법
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밀착성 고분자 기판;상기 기판에 형성된 복수의 오목부; 및상기 오목부 각각에 위치하여 단층 코팅되어 정렬된 복수의 입자;를 포함하여 이루어지고,상기 오목부 각각의 형상은 입자의 일부를 감싸도록 입자의 형상에 대응하는, 입자 코팅 세포 배양기판
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밀착성 고분자 기판을 준비하는 준비 단계;상기 밀착성 고분자 기판 위에 복수의 입자를 코팅하는 코팅 단계;상기 밀착성 고분자 기판 및 상기 복수의 입자 위에 기재를 형성하는 단계; 및상기 밀착성 고분자 기판을 제거하여 상기 복수의 입자를 부분적으로 노출하는 노출 단계;를 포함하는 입자 부분 노출형 세포 배양기판의 제조방법
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제5항에 있어서, 상기 기재를 형성하는 단계는,상기 밀착성 고분자 기판 및 상기 복수의 입자 위에 기재 조성물을 위치시키는 단계; 및상기 기재 조성물을 경화시켜 기재를 형성하는 경화 단계;를 포함하는 입자 부분 노출형 세포 배양기판의 제조방법
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제5항에 있어서, 상기 코팅 단계는 상기 밀착성 고분자 기판에 상기 복수의 입자에 각기 대응하는 복수의 오목부가 형성되면서 코팅하는 입자 부분 노출형 세포 배양기판의 제조방법
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삭제
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기재; 및상기 기재에 일부분이 함입되어 부분적으로 노출되고, 단층 정렬된 복수의 입자;를 포함하고,상기 부분적으로 노출되는 복수의 입자는,밀착성 고분자 기판을 준비하는 준비 단계; 상기 밀착성 고분자 기판 위에 복수의 입자를 코팅하는 코팅 단계;상기 밀착성 고분자 기판 및 상기 복수의 입자 위에 기재를 형성하는 단계; 및 상기 밀착성 고분자 기판을 제거하여 상기 복수의 입자를 부분적으로 노출하는 노출 단계;를 통해 형성되는, 입자 부분 노출형 세포 배양기판
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제9항에 있어서,기재로부터 노출되지 않는 입자는 개수 기준으로 전체 입자에서 10% 이하인 입자 부분 노출형 세포 배양기판
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제9항에 있어서,입자의 평균입경을 D라 하고, 노출된 입자 사이의 평균간격(입자 중심부 간의 거리)을 P라 할 때, D ≤ P ≤ 1
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제9항에 있어서, 상기 기재는 두께 방향을 기준으로, 입자가 위치하는 상부 영역과 위치하지 않는 하부 영역으로 구분되는 입자 부분 노출형 세포 배양기판
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