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하기 구조식 A에서 COM A로 표현되는 제1 블록,하기 구조식 A에서 COM B로 표현되는 제2 블록 그리고상기 제1 블록과 상기 제2 블록 사이에 삽입되어 하기 구조식 A에서 RBC로 표현되는 랜덤 블록을 포함하는 블록 공중합체: 구조식 A(여기서, COM A 및 COM B는 각각 폴리스티렌, 폴리메틸메타아크릴레이트, 폴리에틸렌옥사이드, 폴리비닐피리딘, 폴리디메틸실록산, 폴리페로세닐디메틸실란 및 폴리이소프렌을 포함하는 그룹에서 선택되고, RBC는 상기 제1 블록의 일부 및 상기 제2 블록의 일부인 적어도 2개의 단위 블록이 랜덤하게 공중합되어 있는 그룹이다)
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제1항에서,상기 구조식 A에서 COM A는 폴리스티렌을 포함하는 그룹이고, COM B는 폴리메틸메타아크릴레이트를 포함하는 그룹인 블록 공중합체
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제2항에서,상기 블록 공중합체는 하기 화학식 B로 표현되는 블록 공중합체:화학식 B(여기서, 화학식 B의 분자량은 10,000 내지 1,000,000이며, l과 n은 10 내지 10,000이고, m은 5 내지 2,000이며, RBC에서 x가 나타내는 단위 블록과 y가 나타내는 단위 블록은 서로 랜덤하게 공중합되어 있다)
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제1항의 블록 공중합체를 모패턴층이 형성된 기판 위에 도포하여 고분자 박막을 형성하는 단계,상기 고분자 박막에서 상기 제1 블록 및 상기 제2 블록 중 어느 하나의 블록을 선택적으로 제거하는 단계 그리고상기 어느 하나의 블록이 제거된 상기 고분자 박막을 마스크로 상기 모패턴층을 식각하는 단계를 포함하는 패턴 형성 방법
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제4항에서,상기 고분자 박막을 자외선 처리 또는 열처리하는 단계를 더 포함하는 패턴 형성 방법
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