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하기 화학식 1 또는 화학식 2로 표시되는 블록공중합체
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제 1항에 있어서, 상기 A1 또는 A2는 주쇄에 지방족 에스테르기를 포함하는 블록공중합체
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제 1항에 있어서, 상기 A1 또는 A2는 폴리바에롤락톤, 폴리-ε-데카락톤, 폴리락틱산, 폴리글리콜릭산, 폴리락티드, 폴리글리콜라이드, 폴릭락티드와 폴리글리콜라이드의 공중합체, 폴리-ε-카프로락톤, 폴리글리콜릭산 트리메릴렌 카보네이트, 폴리카프로락톤-글리콜라이드 및 폴리트리메틸렌 카보네이트의 군에서 선택되는 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 블록공중합체
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4
제 1항에 있어서, 상기 화학식 2로 표시되는 화합물이 하기 화학식 3 내지 화학식 5 중 어느 하나로 표시되는 것을 특징으로 하는 블록공중합체
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5
제 1항에 있어서, 상기 블록공중합체는 미세 상분리된 후 A1 및 A2가 제거되어 한외여과막으로 사용되는 것을 특징으로 하는 블록공중합체
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6
제 1항에 있어서, 상기 화학식 1에서, A1과 나머지 잔여부분의 부피비는 0
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7
친핵성 치환반응으로 폴리(에테르 술폰)을 제조한 후 플루오르기를 말단에 부착하는 단계 ;상기 폴리(에테르 술폰) 말단이 히드록시기를 가지도록 개질하는 단계 ; 및A1 또는 A2 단량체와 개환 중합 촉매를 첨가하여 상기 폴리(에테르 술폰) 말단에 개환중합을 통해 A1 또는 A2를 합성하는 단계를 포함하는, 하기 화학식 1 또는 화학식 2로 표시되는 블록공중합체의 제조방법
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8
제 7항에 있어서, 상기 A1 또는 A2는 폴리바에롤락톤, 폴리-ε-데카락톤, 폴리락틱산, 폴리글리콜릭산, 폴리락티드, 폴리글리콜라이드, 폴릭락티드와 폴리글리콜라이드의 공중합체, 폴리-ε-카프로락톤, 폴리글리콜릭산 트리메릴렌 카보네이트, 폴리카프로락톤-글리콜라이드 및 폴리트리메틸렌 카보네이트의 군에서 선택되는 하나 이상인, 하기 화학식 1 또는 화학식 2로 표시되는 블록공중합체의 제조방법
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9
제 7항에 있어서, 상기 A1 또는 A2가 폴리락티드인 경우 상기 A1 또는 A2 합성 단계는 락티드 단량체와 개환 중합 촉매를 첨가하여 상기 폴리(에테르 술폰) 말단에서 개환중합을 통해 폴리락티드를 합성하는 단계를 포함하는, 하기 화학식 3으로 표시되는 블록공중합체의 제조방법
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10
제 7항에 있어서, 상기 폴리(에테르 술폰) 제조 단계는 비스(4-플루오로페닐)술폰과 4,4-술포닐디페놀의 AA + BB type의 친핵성 치환반응인 것을 특징으로 하는 블록공중합체의 제조방법
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11
제 7항에 있어서, 상기 방법은 A1 또는 A2 투입량, 또는 개환 중합 시간을 제어하여 A1과 A2의 분자량을 조절하는 것을 특징으로 하는 블록공중합체의 제조방법
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12
제 7항에 있어서, 상기 폴리(에테르 술폰) 제조 단계는 단량체의 비율 또는 중합 시간을 제어하여 폴리(에테르 술폰)의 분자량을 조절하는 것을 특징으로 하는 블록공중합체의 제조방법
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13
제 1항 내지 제 6항 중 어느 한 항의 블록공중합체를 건조시켜 필름을 형성하는 단계 ; 및에칭액으로 A1과 A2를 제거하여 세공(기공)을 형성하는 단계를 포함하는 나노다공성 폴리(에테르 술폰) 분리막의 제조방법
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14
제 13항에 있어서, 상기 필름형성 단계는 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, 디메틸설폭사이드 및 N-메틸-2-피롤리디논 중 어느 하나의 용매에 상기 블록 공중합체를 녹인 용액을 캐스팅하여 필름을 제조하는 것을 특징으로 하는 나노다공성 폴리(에테르 술폰) 분리막의 제조방법
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15
제 13항에 있어서, 상기 필름형성 단계는 폴리(에테르 술폰)과 A1 또는 A2가 미세 상분리(microphase separation)되어 A1과 A2의 미세도메인(microdomains)을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노다공성 폴리(에테르 술폰) 분리막의 제조방법
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16
제 13항에 있어서, 상기 방법은 A1 또는 A2의 분자량을 조절하여 나노사이즈의 세공(기공) 사이즈를 제어하는 것을 특징으로 하는 나노다공성 폴리(에테르 술폰) 분리막의 제조방법
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제 13항에 있어서, 상기 에칭액은 염기성 용액을 포함한 용액인 것을 특징으로 하는 나노다공성 폴리(에테르 술폰) 분리막의 제조방법
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18
제 13항에 있어서, 상기 필름 형성 단계는 상기 블록공중합체를 A1 또는 A2를 포함하는 고분자 용액과 혼합한 후 이를 건조시켜 필름을 형성하는 단계인 것을 특징으로 하는 나노다공성 폴리(에테르 술폰) 분리막의 제조방법
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19
제 13항에 의해 제조된 폴리(에테르 술폰) 분리막으로서, 상기 분리막은 10~60nm 범위의 세공(기공)을 포함하는 나노다공성 폴리(에테르 술폰) 분리막
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