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서로 다른 파장을 가지는 복수 개의 기초광(λ1, λ2, λ3, λ4) 및 상기 기초광 중 선택되는 적어도 하나의 이차조화파인 비교광(λSHG)으로 이루어지는 복수 개의 레이저 광이 동일 광경로를 따라 피측정물을 향하여 조사되도록 형성하는 광원부;상기 광원부 및 상기 피측정물 사이의 광경로 상에 배치되어 광의 일부는 반사시키고 나머지 일부는 통과시킴으로써 광을 분할하는 분할부;상기 분할부에서 반사된 광을 참조광이라 하고, 상기 분할부를 통과 - 상기 피측정물에서 반사 - 상기 분할부에서 반사를 순차적으로 거쳐 진행된 광을 측정광이라 할 때,참조광의 광경로 상에 배치되어 광을 파장에 따라 반사 또는 통과시킴으로써 참조-기초광 및 참조-비교광을 분리하는 제1이색거울;측정광의 광경로 상에 배치되어 광을 파장에 따라 반사 또는 통과시킴으로써 측정-기초광 및 측정-비교광을 분리하는 제2이색거울;상기 제1이색거울 및 상기 제2이색거울에서 반사 또는 통과되어 입사되는 참조-기초광, 참조-비교광, 측정-기초광, 측정-비교광을 측정하는 광 측정부;상기 광 측정부에서 측정된 참조-기초광, 참조-비교광, 측정-기초광, 측정-비교광을 비교하여 상기 피측정물까지의 기하학적 절대 길이를 산출하는 계산부;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 다중 두 파장 레이저 간섭계를 이용한 절대 길이 측정 장치
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제 1항에 있어서, 상기 절대 길이 측정 장치는복수 개의 기초광(λ1, λ2, λ3, λ4) 및 비교광(λSHG)들을 이용하되,하기의 식을 사용하여 매질 굴절률이 보상된 기하학적 길이(L)를 산출하는 것을 특징으로 하는 다중 두 파장 레이저 간섭계를 이용한 절대 길이 측정 장치
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제 2항에 있어서, 상기 절대 길이 측정 장치는복수 개의 기초광(λ1, λ2, λ3, λ4)들을 이용하되,미리 결정된 기하학적 절대 길이의 초기 추정치로 해(Lc)의 범위를 한정하는 하기의 식에 따른 합치법을 적용하여 기하학적 절대 길이를 산출하는 것을 특징으로 하는 다중 두 파장 레이저 간섭계를 이용한 절대 길이 측정 장치
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제 1항에 있어서, 상기 절대 길이 측정 장치는복수 개의 기초광(λ1, λ2, λ3, λ4) 및 비교광(λSHG)들을 이용하되,제i기초광에 대하여 하기의 식을 사용하여 매질 굴절률이 보상된 기하학적 길이(Li)를 산출하고,(여기에서,Li : 제i기초광에 의해 측정된 상기 피측정물까지의 기하학적 길이,Di : 제i기초광 파장(λi)에 의하여 측정된 광로길이(제i기초광은 이차조화파인 비교광의 근원인 기초광),DSHG : 비교광 파장(λSHG)에 의하여 측정된 광로길이,A : 증폭률, )제i기초광에 의해 측정된 상기 피측정물까지의 매질 굴절률이 보상된 기하학적 길이(Li)를 사용하되, 미리 결정된 기하학적 절대 길이의 초기 추정치로 해(Lc)의 범위를 한정하는 합치법을 적용하여 제i기초광에 의해 측정된 기하학적 절대 길이를 산출하고,(여기에서,i : 상기 기초광들의 인덱스,N : 상기 기초광들의 전체 개수,mi : 제i기초광 위상 정수부,ei : 제i기초광 위상 소수부,Lc : 합치법으로 구해지는 해,d : 위상허용오차)N개의 제i기초광 각각에 대하여 각각 구해진 매질 굴절률이 보상된 기하학적 절대 길이(Li)를 하기의 식으로 평균하여 매질 굴절률이 보상된 기하학적 절대 길이 L을 산출하는 것을 특징으로 하는 다중 두 파장 레이저 간섭계를 이용한 절대 길이 측정 장치
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제 1항에 있어서, 상기 광원부는주파수 영역에서 일정 간격으로 서로 이격되는 다수 개의 기준주파수들을 가지는 레이저 광을 발생시키는 광 빗(optical comb) 및 외부 레이저를 포함하여 이루어져,상기 광 빗에서 발생된 레이저 광의 주파수를 이용하여 상기 외부 레이저에서 발생된 레이저 광의 주파수가 미리 결정된 주파수로 안정화되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 다중 두 파장 레이저 간섭계를 이용한 절대 길이 측정 장치
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제 5항에 있어서, 상기 광원부는상기 광 빗에 연결되는 원자시계와, 상기 원자시계에 연결되는 위상잠금회로(PLL, Phase Locked Loop)를 더 포함하여 이루어지며, 상기 외부 레이저는 상기 위상잠금회로에 연결되어,상기 광 빗에서 발생되는 레이저 광 및 상기 외부 레이저에서 발생되는 레이저 광이 동기화됨으로써 상기 외부 레이저에서 발생되는 레이저 광의 주파수가 안정화되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 다중 두 파장 레이저 간섭계를 이용한 절대 길이 측정 장치
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제 6항에 있어서, 상기 광원부는상기 외부 레이저에서 발생되는 레이저 광의 주파수가 하기의 식에 따라 안정화되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 다중 두 파장 레이저 간섭계를 이용한 절대 길이 측정 장치
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제 5항에 있어서, 상기 광원부는상기 광 빗에 연결되는 원자시계와, 상기 광 빗에 연결되는 페브리-페로 필터(Fabry-Perot filter) 및 상기 페브리-페로 필터에 연결되는 FBG(Fiber Bragg Grating)로 이루어지는 필터부를 더 포함하여 이루어지며,상기 광 빗에서 발생되는 레이저 광이 상기 필터부를 통과함으로서 일부 모드만이 선택되며, 상기 일부 모드만 선택된 레이저 광이 서큘레이터에 의하여 상기 외부 레이저로 입사됨으로써 상기 외부 레이저에서 발생되는 레이저 광의 주파수가 안정화되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 다중 두 파장 레이저 간섭계를 이용한 절대 길이 측정 장치
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제 8항에 있어서, 상기 광원부는상기 외부 레이저에서 발생되는 레이저 광의 주파수가 하기의 식에 따라 안정화되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 다중 두 파장 레이저 간섭계를 이용한 절대 길이 측정 장치
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제 5항에 있어서, 상기 광원부는레이저 광을 분할하여 진행시키는 광 커플러(OC, Optic Coupler), 입사되는 광의 2차 조화파를 생성함으로써 통과되는 광의 파장을 반으로 접어주는 PPLN(Periodically Poled Lithium Niobate), 파장에 따라 광을 통과 또는 반사시키는 이색거울(DM, Dichroic Mirror)을 더 포함하여 이루어지며,상기 광 커플러에서 분할된 광 중 하나는 상기 이색거울을 향하여 진행되어 상기 이색거울을 통과하여 기초광을 형성하고, 상기 광 커플러에서 분할된 광 중 다른 하나는 상기 PPLN을 통과한 후 상기 이색거울을 향하여 진행되어 상기 이색거울에서 반사되어 상기 기초광의 2차조화파인 비교광을 형성하며, 상기 기초광 및 상기 비교광이 동일 광경로로 진행하도록 이루어져,상기 광원부에서 조사되는 광이 기초광 파장 및 비교광 파장을 가지도록 형성되는 것을 특징으로 하는 다중 두 파장 레이저 간섭계를 이용한 절대 길이 측정 장치
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