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3차원 그물 구조를 갖는 고분자 박막의 제조방법

  • 기술번호 : KST2019026877
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 3차원 그물 구조를 갖는 고분자 박막을 간단하고 경제적인 방법으로 제조하는 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 A) 기판 상에 PMMA(poly(methyl methacrylate)), PBMA(poly(n-butyl methacrylate)) 및 polycarbonate로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 고분자 박막을 형성하는 단계; B) 상기 고분자 박막이 형성된 기판을 THF, 아세톤 및 아세토니트릴로부터 선택된 하나 이상의 용매와 C1~C3인 알콜로부터 선택된 하나 이상의 알콜인 비용매의 혼합용액으로 처리하고 건조시키는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 3차원 그물 구조를 갖는 고분자 박막의 제조방법에 관한 것이다.
Int. CL C08J 7/14 (2006.01.01) C08J 5/22 (2006.01.01) C08J 9/00 (2006.01.01) C08J 5/18 (2006.01.01) B05D 1/00 (2006.01.01)
CPC C08J 7/14(2013.01) C08J 7/14(2013.01) C08J 7/14(2013.01) C08J 7/14(2013.01) C08J 7/14(2013.01)
출원번호/일자 1020160073932 (2016.06.14)
출원인 충남대학교산학협력단
등록번호/일자 10-1791220-0000 (2017.10.23)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20171027) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2016.06.14)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 충남대학교산학협력단 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 최호석 대한민국 대전광역시 유성구
2 부반티엔 베트남 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김원준 대한민국 대전광역시 서구 둔산대로***번길 **, 골드벤처타워***호 타임국제특허법률사무소 (만년동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 충남대학교산학협력단 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2016.06.14 수리 (Accepted) 1-1-2016-0570927-12
2 보정요구서
Request for Amendment
2016.06.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2016-0095949-45
3 [출원서등 보정]보정서(납부자번호)
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment(Payer number)
2016.06.30 수리 (Accepted) 1-1-2016-0606405-80
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2016.10.10 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 [우선심사신청]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Preferential Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2016.11.09 수리 (Accepted) 1-1-2016-1095461-18
6 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2016.12.09 수리 (Accepted) 9-1-2016-0049989-19
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2016.12.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0909768-57
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2017.02.13 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2017-0144946-99
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2017.02.13 수리 (Accepted) 1-1-2017-0144911-02
10 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2017.04.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0279032-52
11 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2017.06.15 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2017-0574500-69
12 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2017.06.15 수리 (Accepted) 1-1-2017-0574471-22
13 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2017.08.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0605017-81
14 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2017.09.20 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2017-0916181-19
15 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2017.09.20 수리 (Accepted) 1-1-2017-0916165-99
16 등록결정서
Decision to Grant Registration
2017.10.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0729757-12
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번호 청구항
1 1
A) 기판 상에 PMMA(poly(methyl methacrylate)), PBMA(poly(n-butyl methacrylate)) 및 polycarbonate로 이루어진 군으로부터 선택된 단일 고분자 박막을 형성하는 단계; B) 상기 고분자 박막이 형성된 기판을 THF, 아세톤 및 아세토니트릴로부터 선택된 하나 이상의 용매와 C1~C3인 알콜로부터 선택된 하나 이상의 알콜인 비용매의 혼합용액으로 처리하고 건조시키는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 3차원 그물 구조를 갖는 고분자 박막을 기판 상에 제조하는 방법
2 2
제 1 항에 있어서,용매와 비용매의 혼합용액 중 비용매의 함량은 5~70 부피%인 것을 특징으로 하는 3차원 그물 구조를 갖는 고분자 박막을 기판 상에 제조하는 방법
3 3
제 2 항에 있어서,상기 3차원 그물 구조를 갖는 고분자 박막의 공극율은 20~80 부피%인 것을 특징으로 하는 3차원 그물 구조를 갖는 고분자 박막을 기판 상에 제조하는 방법
4 4
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 3차원 그물 구조를 갖는 고분자 박막은 기판과의 접면에 피막이 형성되어 한쪽 면이 막힌 구조인 것을 특징으로 하는 3차원 그물 구조를 갖는 고분자 박막을 기판 상에 제조하는 방법
5 5
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,기판과의 접면 및 상부 표면 모두에 피막이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 3차원 그물 구조를 갖는 고분자 박막을 기판 상에 제조하는 방법
6 6
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 A) 단계에서 기판에는 수용성 고분자 박막이 형성되어 있어, PMMA, PBMA(poly(n-butyl methacrylate)) 및 polycarbonate로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 고분자 박막이 수용성 고분자 박막 위에 형성되고,상기 B) 단계 이후에, C) 상기 건조된 기판을 물에 침지하여 수용성 고분자 박막을 용해시키는 것에 의해 기판으로부터 상기 3차원 그물 구조의 고분자 박막을 분리하는 단계;를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 3차원 그물 구조를 갖는 고분자 박막을 기판 상에 제조하는 방법
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제 6 항에 있어서,상기 수용성 고분자는 폴리설폰산(Polysulfonic acid, PSS), 폴리락틱산(polylactic acid, PLA), 폴리아크릴산(Polyacrylic acid, PAA), 폴리카본산(Polycarbonic acid, PCA) 및 폴리비닐알콜(Polyvinyl alcohol, PVA)로 이루어진 군으로부터 선택된 하나인 것을 특징으로 하는 3차원 그물 구조를 갖는 고분자 박막을 기판 상에 제조하는 방법
8 8
제 6 항에 있어서,상기 3차원 그물 구조를 갖는 고분자 박막은 스루포어(through-pore) 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 3차원 그물 구조를 갖는 고분자 박막을 기판 상에 제조하는 방법
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패밀리정보가 없습니다
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