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셀갭 조절이 가능한 파장조절형 에탈론 및 파장조절형 에탈론의 셀갭 조절 방법

  • 기술번호 : KST2020005728
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 에탈론 모듈 및 가압부를 포함하여 구성되며, 에탈론 모듈은 일면에 반사막, 투명전극 및 배향막이 구비된 제1 기판, 일면에 반사막, 투명전극 및 배향막이 구비되며, 제1 기판과 대면되는 제2 기판, 제1 기판과 제2 기판 사이에 주입되는 액정층, 액정층의 유출을 방지할 수 있도록 액정층의 둘레에 구비되는 실 부재를 포함하여 구성되며, 가압부는 레이저 통과영역인 제1 기판 및 제2 기판의 중심부분의 기판간격이 균일해질 수 있도록 레이저 통과영역의 둘레인 가압영역을 가압하도록 구성되는 파장조절형 에탈론 및 파장조절형 에탈론의 셀갭 조절 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 셀갭 조절이 가능한 파장조절형 에탈론 및 파장조절형 에탈론의 셀갭 조절 방법은 가압클립을 이용하여 레이저 통과영역에서의 편평도의 보정이 용이해질 수 있어 제작난이도를 낮출 수 있으며 및 제작비용을 절감할 수 있는 효과가 있다.
Int. CL G02F 1/1333 (2006.01.01) G02F 1/137 (2019.01.01)
CPC G02F 1/1333(2013.01) G02F 1/1333(2013.01)
출원번호/일자 1020180157935 (2018.12.10)
출원인 성균관대학교산학협력단
등록번호/일자 10-2113213-0000 (2020.05.14)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20200520) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2018.12.10)
심사청구항수 15

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 성균관대학교산학협력단 대한민국 경기도 수원시 장안구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 송장근 경기도 과천시 별양로 **-*

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 인비전 특허법인 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 **길**, *층(대치동, 동산빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 성균관대학교산학협력단 경기도 수원시 장안구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2018.12.10 수리 (Accepted) 1-1-2018-1233235-79
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2019.07.15 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2019.09.06 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2019-0133793-36
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2019.12.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0902112-23
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2020.02.12 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2020-0148481-46
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2020.02.12 수리 (Accepted) 1-1-2020-0148479-54
7 등록결정서
Decision to grant
2020.05.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2020-0306023-68
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
에탈론 모듈 및 가압부를 포함하여 구성되며,상기 에탈론 모듈은,일면에 반사막, 투명전극 및 배향막이 구비된 제1 기판;일면에 반사막, 투명전극 및 배향막이 구비되며, 상기 제1 기판과 대면되는 제2 기판;상기 제1 기판과 상기 제2 기판 사이에 주입되는 액정층;상기 액정층의 유출을 방지할 수 있도록 상기 액정층의 둘레에 구비되는 실 부재를 포함하여 구성되며,상기 가압부는,레이저 통과영역인 상기 제1 기판 및 상기 제2 기판의 중심부분의 기판간격이 균일해질 수 있도록 상기 레이저 통과영역의 둘레인 가압영역을 가압하도록 구성되며,상기 레이저가 통과될 수 있도록 중공이 형성되며, 상기 제1 기판 및 상기 제2 기판을 가압할 수 있도록 상기 중공의 둘레를 따라 돌출되어 형성되는 돌출부를 포함하는 것을 특징으로 하는 파장조절형 에탈론
2 2
제1 항에 있어서,상기 가압부는 상기 가압영역내에서 가압위치가 변경될 수 있도록 상기 에탈론 모듈과 평면상의 위치조절이 가능하게 구성된 것을 특징으로 하는 파장조절형 에탈론
3 3
제2 항에 있어서,상기 에탈론 모듈은 상기 가압부의 가압시 상기 레이저 통과영역이 상기 액정에 의해 외측방향으로 볼록하게 변형되는 것을 특징으로 하는 파장조절형 에탈론
4 4
제2 항에 있어서,상기 가압부는 상기 제1 기판 및 상기 제2 기판을 동시에 가압하도록 구성된 것을 특징으로 하는 파장조절형 에탈론
5 5
제4 항에 있어서,상기 가압부는 상기 에탈론 모듈을 사이에 두고 상기 제1 기판 및 상기 제2 기판을 가압하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 파장조절형 에탈론
6 6
제5 항에 있어서,상기 가압부는 상기 제1 기판을 가압하는 제1 가압편; 및상기 제2 기판을 가압하는 제2 가압편을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 파장조절형 에탈론
7 7
제6 항에 있어서,상기 제1 가압편과 상기 제2 가압편은 일측이 서로 연결되며,타측은 서로 탈착가능한 결합부로 구성되는 것을 특징으로 하는 파장조절형 에탈론
8 8
제3 항에 있어서,상기 돌출부는,상기 제1 기판 및 상기 제2 기판의 가압영역에 각각 접촉하여 가압할 수 있도록 상기 에탈론 모듈 측으로 돌출되어 형성되는 것을 특징으로 하는 파장조절형 에탈론
9 9
삭제
10 10
제8 항에 있어서,상기 돌출부는 상기 중공의 둘레를 따라 복수의 이격된 지점에서 돌출되어 형성되는 것을 특징으로 하는 파장조절형 에탈론
11 11
제2 항에 있어서,상기 제1 기판 및 상기 제2 기판은 상기 투명전극으로부터 연장되는 접촉부를 각각 더 포함하며,상기 접촉부와 대면하는 위치에 구비되며, 외부와 전기적으로 연결되도록 구성되는 탄성부를 포함하며, 상기 제1 기판 및 상기 제2 기판이 합착되었을 때 상기 접촉부와 상기 탄성부가 전기적으로 연결되도록 구성되는 것을 특징으로 하는 파장조절형 에탈론
12 12
파장조절이 가능하도록 액정층이 구비된 에탈론 모듈의 기판간격을 조절하는 방법에 있어서,중공 및 돌출부를 포함하는 가압부 사이에 상기 에탈론 모듈을 배치하는 단계;상기 가압부로 상기 에탈론 모듈을 가압하여 레이저 통과영역의 기판 간격을 조절하는 기판간격 조절 단계; 및상기 에탈론 모듈의 기판 간격이 균일하다고 판단되는 경우 상기 가압부를 상기 에탈론과 고정하는 단계를 포함하며,상기 에탈론 모듈의 기판 간격이 불균일한 것으로 판단되는 경우 상기 가압부와 상기 에탈론 모듈의 상대적인 위치를 변경하는 위치 조절단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 파장조절형 에탈론의 기판 간격 조절방법
13 13
제12 항에 있어서,상기 기판간격 조절 단계는 상기 레이저 통과영역을 외측방향으로 볼록하게 변형시키는 것을 특징으로 하는 파장조절형 에탈론의 기판 간격 조절방법
14 14
제12 항에 있어서,상기 기판간격 조절 단계는 상기 가압부를 이용하여 상기 에탈론 모듈의 두께방향으로 가압하는 것을 특징으로 하는 파장조절형 에탈론의 기판 간격 조절방법
15 15
삭제
16 16
제12 항에 있어서,상기 상대적인 위치의 변경은 상기 에탈론 모듈의 기판과 평행한 수평방향으로의 이동인 것을 특징으로 하는 파장조절형 에탈론의 기판 간격 조절방법
17 17
제 12 항에 있어서,상기 에탈론 모듈의 기판 간격이 균일한지 여부의 판단은 상기 레이저 통과영역으로 레이저 빔을 통과시켜 세기를 측정하여 소정값 이상인 경우 상기 기판 간격이 균일한 것으로 판단하는 것을 특징으로 하는 파장조절형 에탈론의 기판 간격 조절방법
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패밀리정보가 없습니다
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1 교육부 성균관대학교(자연과학캠퍼스) 학문후속세대양성사업(리서치펠로우) 3/3 [EZ]5G DWDM 용 초저가 가변파장 레이저 및 액정필터 개발