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용매를 사용하지 않고 점탄성 특성 조절이 가능한 공중합체 점착제의 형성 방법 및 그로 인해 형성된 공중합체 점착제

  • 기술번호 : KST2020006660
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 개시제를 사용하는 화학 기상 증착 방법(initiated Chemical Vapor Deposition; iCVD), 광개시 화학 기상 증착 방법(Photo-initiated Chemical Vapor Deposition; PiCVD) 및 UV를 이용하여 광개시 반응 및 열 개시 반응을 동시에 사용하는 화학 기상 증착 방법(Thermal and Photo-initiated Chemical Vapor Deposition; TPiCVD)을 이용하여 기판 상에 중합되는 공중합체에 의해 공중합체 점착제를 형성하는 방법에 관한 것이다.
Int. CL C09J 133/10 (2006.01.01) C08F 2/48 (2006.01.01) B05D 1/00 (2006.01.01)
CPC C09J 133/10(2013.01) C09J 133/10(2013.01) C09J 133/10(2013.01) C09J 133/10(2013.01)
출원번호/일자 1020180154870 (2018.12.05)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2020-0068188 (2020.06.15) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2018.12.05)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 임성갑 대전광역시 유성구
2 문희연 대전광역시 유성구
3 정기훈 대전광역시 유성구
4 곽무진 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 양성보 대한민국 서울특별시 강남구 선릉로***길 ** (논현동) 삼성빌딩 *층(피앤티특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2018.12.05 수리 (Accepted) 1-1-2018-1216242-45
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2019.01.08 수리 (Accepted) 1-1-2019-0024074-89
3 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2019.01.08 수리 (Accepted) 1-1-2019-0021686-96
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2019.04.15 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
6 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2019.06.12 수리 (Accepted) 9-1-2019-0026498-23
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
8 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2020.05.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2020-0354070-63
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
10 [지정기간연장]기간 연장신청서·기간 단축신청서·기간 경과 구제신청서·절차 계속신청서
2020.07.22 수리 (Accepted) 1-1-2020-0765915-10
11 [지정기간연장]기간 연장신청서·기간 단축신청서·기간 경과 구제신청서·절차 계속신청서
2020.08.24 수리 (Accepted) 1-1-2020-0885579-53
12 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견서·답변서·소명서
2020.09.22 수리 (Accepted) 1-1-2020-1005822-82
13 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2020.09.22 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2020-1005823-27
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기판 상에 개시제를 사용하는 화학 기상 증착 방법(initiated Chemical Vapor Deposition; iCVD), 광개시 화학 기상 증착 방법(Photo-initiated Chemical Vapor Deposition; PiCVD) 및 UV를 이용하여 광개시 반응 및 열 개시 반응을 동시에 사용하는 화학 기상 증착 방법(Thermal and Photo-initiated Chemical Vapor Deposition; TPiCVD)의 분율 조절에 따른 가교 밀도를 조절하여 점탄성 특성의 공중합체를 중합하는 단계; 및 상기 기판 상에 증착된 상기 중합된 공중합체의 접착을 형성하는 단계를 포함하는 공중합체 점착제의 형성 방법
2 2
제1항에 있어서,상기 공중합체를 중합하는 단계는상기 개시제를 사용하는 화학 기상 증착 방법과 자외선(UV)를 이용한 상기 광개시 화학 기상 증착 방법 및 상기 UV를 이용하여 광개시 반응 및 열 개시 반응을 동시에 사용하는 화학 기상 증착 방법을 이용하여 pHEA(poly(2-hydroxyethyl acrylate)) 및 pEHA(poly(ethylhexyl acrylate))를 공중합체로 중합하는 것을 특징으로 하는, 공중합체 점착제의 형성 방법
3 3
제2항에 있어서,상기 공중합체를 중합하는 단계는상기 광개시 화학 기상 증착 방법 및 상기 UV를 이용하여 광개시 반응 및 열 개시 반응을 동시에 사용하는 화학 기상 증착 방법을 이용하여 자외선(UV)을 챔버 내부로 조사하고, 상기 UV를 이용하여 광개시 반응 및 열 개시 반응을 동시에 사용하는 화학 기상 증착 방법을 이용하여 자외선(UV) 조사와 열 개시제를 동시에 사용하는, 공중합체 점착제의 형성 방법
4 4
제2항에 있어서,상기 공중합체를 중합하는 단계는열개시제인 TBPO(tert-butyl peroxide)를 이용하는 상기 개시제를 사용하는 화학 기상 증착 방법, UV에 의하여 스스로 개시제 역할을 수행하는 HEA의 특성을 이용하는 상기 광개시 화학 기상 증착 방법, 및 상기 개시제를 사용하는 화학 기상 증착 방법과 상기 광개시 화학 기상 증착 방법을 동시에 사용하는 상기 UV를 이용하여 광개시 반응 및 열 개시 반응을 동시에 사용하는 화학 기상 증착 방법을 이용하여 가교 밀도를 조절하여 공중합체의 점탄성 특성을 조절하는, 공중합체 점착제의 형성 방법
5 5
제4항에 있어서,상기 개시제를 사용하는 화학 기상 증착 방법, 상기 광개시 화학 기상 증착 방법 및 상기 UV를 이용하여 광개시 반응 및 열 개시 반응을 동시에 사용하는 화학 기상 증착 방법은 공중합체의 분율 제어가 가능한 것을 특징으로 하는, 공중합체 점착제의 형성 방법
6 6
제1항에 있어서,상기 공중합체를 중합하는 단계는상기 개시제를 사용하는 화학 기상 증착 방법(initiated Chemical Vapor Deposition; iCVD), 상기 광개시 화학 기상 증착 방법(Photo-initiated Chemical Vapor Deposition; PiCVD) 및 상기 UV를 이용하여 광개시 반응 및 열 개시 반응을 동시에 사용하는 화학 기상 증착 방법(Thermal and Photo-initiated Chemical Vapor Deposition; TPiCVD)의 공정 시간에 따라 상기 기판 상에 증착되는 상기 공중합체 점착제의 두께를 조절하는 것을 특징으로 하는, 공중합체 점착제의 형성 방법
7 7
제1항에 있어서,상기 공중합체의 접착을 형성하는 단계는상기 기판 상에 상기 중합된 공중합체가 증착된 후, 상온에서 가해지는 일정 압력으로 공중합체의 접착을 형성하는, 공중합체 점착제의 형성 방법
8 8
개시제를 사용하는 화학 기상 증착 방법(initiated Chemical Vapor Deposition; iCVD), 광개시 화학 기상 증착 방법(Photo-initiated Chemical Vapor Deposition; PiCVD) 및 UV를 이용하여 광개시 반응 및 열 개시 반응을 동시에 사용하는 화학 기상 증착 방법(Thermal and Photo-initiated Chemical Vapor Deposition; TPiCVD)의 분율 조절에 따라 조절되는 가교 밀도에 의해 기판 상에 증착되는 공중합체에 의해 형성되는 공중합체 점착제
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 과학기술정보통신부 한국과학기술원 선도연구센터지원사업 웨어러블 플랫폼소재 기술센터
2 과학기술정보통신부 한국과학기술원 글로벌프론티어사업 기상증착 고분자 기반 고성능 절연소재 개발