1 |
1
금속 타겟을 준비하는 단계; 탄소나노튜브를 포함하는 폴리테트라플루오로에틸렌(Polytetrafluoroethylene, PTFE) 타겟을 준비하는 단계; 상기 금속 타겟과 탄소나노튜브를 포함하는 폴리테트라플루오로에틸렌 타겟을 마그네트론 코스퍼터링법을 이용하여 기판 위에 증착시키는 단계를 포함하고;상기 증착시키는 단계는,증착된 탄소나노튜브를 포함하는 폴리테트라플루오로에틸렌 매트리스 내에서 상기 금속 타겟으로부터의 금속 입자가 자체-응집(self-agglomeration)을 이루어 3차원 네트워크 구조를 형성함을 특징으로 하는스트레처블 하이브리드 박막 전극을 제조하는 방법
|
2 |
2
제1항에 있어서,상기 금속 타겟은 은(Ag), 알루미늄(Al), 구리(Cu), 티타늄(Ti)를 포함하는, 스트레처블 하이브리드 박막 전극을 제조하는 방법
|
3 |
3
제1항에 있어서,상기 마그네트론 코스퍼터링법은 DC 파워 및 RF 파워를 이용하고,상기 DC 파워는 금속 타겟에 인가되고,상기 RF 파워는 탄소나노튜브를 포함하는 폴리테트라플루오로에틸렌 타겟에 인가되는스트레처블 하이브리드 박막 전극을 제조하는 방법
|
4 |
4
제3항에 있어서,상기 DC 파워와 RF 파워는 하기 수학식 1로 표현되는 DC 파워와 RF 파워의 전력비(R)를 제어하는 것을 특징으로 하는, 스트레처블 하이브리드 박막 전극을 제조하는 방법
|
5 |
5
제4항에 있어서,상기 DC 파워와 RF 파워의 전력비(R)는 5 내지 15인,스트레처블 하이브리드 박막 전극을 제조하는 방법
|
6 |
6
제5항에 있어서,상기 DC 파워와 RF 파워의 전력비(R)는 5 내지 8인,스트레처블 하이브리드 박막 전극을 제조하는 방법
|
7 |
7
제6항에 있어서,상기 DC 파워와 RF 파워의 전력비(R)는 6 내지 8인,스트레처블 하이브리드 박막 전극을 제조하는 방법
|
8 |
8
제1항에 있어서,상기 기판은 열가소성 폴리우레탄(Thermoplastic Polyurethane) 기판을 포함하는,스트레처블 하이브리드 박막 전극을 제조하는 방법
|
9 |
9
제1항에 있어서,상기 3차원 네트워크 구조는,탄소나노튜브를 포함한 폴리테트라플루오로에틸렌 매트리스에 내장된 금속 덩어리들의 부피가 증가하면서 금속 덩어리 말단 부분이 서로 겹치게 되어 3차원 네트워크 구조를 형성하는 것을 특징으로 하는스트레처블 하이브리드 박막 전극을 제조하는 방법
|
10 |
10
제1항 내지 제9항 중 어느 한 항의 방법에 따라 제조되고,연신율이 30% 향상된,스트레처블 하이브리드 박막 전극
|
11 |
11
제10항에 있어서,상기 스트레처블 하이브리드 박막 전극은 박막 두께가 40nm이상인 스트레처블 하이브리드 박막 전극
|
12 |
12
제1항 내지 제9항 중 어느 한 항의 방법에 따라 제조된 스트레처블 하이브리드 박막 전극을 포함한,웨어러블 전자소자
|
13 |
13
제12항에 있어서,상기 스트레처블 하이브리드 박막 전극은 박막 두께가 40nm이상인 웨어러블 전자소자
|