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고분자 섬유 또는 막을 포함하고,상기 고분자 섬유 또는 막은 표면에, 마이크로스케일의 반원통형(""형)의 요철 홈을 포함하는 마이크로 구조; 및 상기 마이크로 구조의 표면에 형성된 나노스케일의 돌출부를 포함하는 나노 패턴;을 포함하는 마이크로-나노 복합 구조를 갖는 것인 고분자 소재
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제1항에 있어서,상기 고분자 섬유 또는 막은 결정질 영역 및 비정질 영역을 포함하고, 상기 요철 홈의 오목한 부분에 상기 요철 홈 사이의 볼록한 부분에 비하여 비정질 영역이 더 많이 존재하는 고분자 소재
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제1항에 있어서,상기 요철 홈은, 상기 고분자 섬유 또는 막의 표면 중 한쪽 방향에 복수개 형성된 것인 고분자 소재
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제1항에 있어서,상기 요철 홈의 폭(d)이 1nm 내지 1000nm이고, 깊이(h)가 1nm 내지 1000nm인 고분자 소재
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제4항에 있어서,상기 요철 홈의 폭(d)과 깊이(h)의 어스펙트비(h/d)가 0
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제1항에 있어서,상기 나노스케일의 돌출부는 나노 돔(nano-dome), 나노 벽(nano-wall), 나노 닷(nano-dot), 나노 범프(nano-bump), 나노 헤어(nano-hair), 나노 섬유(nan-fiber), 나노 필라(nano-pillar), 나노 로드(nano-rod), 나노 와이어(nano-wire), 나노 플레이트(nano-plate) 또는 이들의 조합된 형태를 갖는 고분자 소재
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제1항에 있어서, 상기 돌출부는 직경이 1 내지 1000 nm 범위이고, 길이가 1 내지 10,000nm 범위이며, 종횡비가 1 내지 50 범위인 고분자 소재
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제1항에 있어서,상기 고분자 섬유 또는 막은 천연섬유, 인조섬유 및 이들의 조합 중 적어도 하나를 포함하는 고분자 소재
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제1항에 있어서,상기 고분자 섬유 또는 막은 친수성 고분자를 포함하는 고분자 소재
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제9항에 있어서, 상기 친수성 고분자는 셀룰로오스(Cellulose), 레이온(rayon), 면(cotton), 실크(Silk), 폴리스티렌(PS), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리카보네이트(PC), 폴리프로필렌(PP), 폴리락트산(PLA), 폴리비닐리덴플루오라이드(PVDF), 폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE), 폴리(N-이소프로필아크릴아마이드)(PNIPAm), 폴리(2-히드록시에틸 메타크릴레이트)(PHEMA), 폴리에테르이미드(PEI), 폴리비닐알콜(PVA), 폴리에틸렌(PE), 폴리실세스퀴녹산(PSQ), 폴리우레탄(PU), 폴리(에틸렌 글리콜)(PEG), 폴리(메틸 메타크릴레이트)(PMMA), 폴리카프로락톤(PCL)로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 하나를 포함하는 고분자 소재
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제1항에 있어서,상기 고분자 소재는, 상기 마이크로-나노 복합 구조를 갖는 고분자 섬유 또는 막과 동일한 재질로 이루어지고 외부 표면이 주름 구조(wrinkle structure)인 별도의 고분자 섬유 또는 막을 더 포함하는 고분자 소재
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제11항에 있어서,상기 주름 구조는 마이크로스케일의 주름과 나노스케일의 주름으로 이루어진 계층적 주름 구조인 고분자 소재
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제11항에 있어서,상기 주름 구조의 고분자 섬유 또는 막의 함량은 상기 고분자 소재 총중량 중 0초과, 50 중량% 이내인 고분자 소재
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제1항에 있어서,상기 고분자 소재는 무기 입자를 더 포함하는 고분자 소재
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제1항에 있어서,상기 고분자 소재는 다공성인 고분자 소재
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제1항에 있어서,상기 고분자 소재는 부직포, 직물 또는 망 형태를 갖는 고분자 소재
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제1항에 있어서, 공기중 물에 대한 접촉각이 20° 이하인 고분자 소재
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제1항에 있어서, 수중 기름에 대한 접촉각이 140° 이상인 고분자 소재
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제1항 내지 제18항 중 어느 한 항에 따른 고분자 소재를 포함하는 장치
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20
제19항에 있어서, 상기 장치는 유수분리장치, 공기청정기, 바이오 디바이스, 또는 태양열 장치인 장치
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표면에 길이방향을 따라 요철 구조를 갖는 고분자 섬유 또는 막을 포함하는 고분자 소재의 표면을 마스크 없이 대기압 플라즈마 처리하는 단계;를 포함하는 제1항에 따른 고분자 소재의 제조방법
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제21항에 있어서,상기 플라즈마 처리는 O2, CF4, SF6, Ar, N2, 및 H2 중 선택된 1종 이상의 가스를 이용하여 행해지는 고분자 소재의 제조방법
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제22항에 있어서,상기 플라즈마 처리는 Ar을 매개가스로, O2, CF4, SF6, N2, 및 H2 중 선택된 1종 이상의 가스를 반응가스로 이용하여 행해지는 고분자 소재의 제조방법
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제21항에 있어서,상기 대기압 플라즈마 처리는, 플라즈마 출구와 상기 고분자 소재 간의 거리가 1 내지 10 mm 범위이고, 대기압 플라즈마의 전력은 100 내지 2,000 W 범위로 하고, 상기 고분자 소재를 1 내지 10 mm/s 속도로 이동시키면서 상기 대기압 플라즈마에 10 내지 500 회 노출시킴으로써 수행되는 고분자 소재의 제조방법
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