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시료에 제 1 에너지 빔을 제공하는 제 1 빔 소스;상기 제 1 에너지 빔과 다른 제 2 에너지 빔을 상기 시료에 제공하는 제 2 빔 소스;상기 제 2 빔 소스와 상기 시료 사이에 배치되어 상기 시료의 일측에서 반사되는 상기 제 2 에너지 빔의 반사 빔을 감지하는 반사 빔 센서; 및상기 시료의 타측에 인접하여 배치되어 상기 제 2 에너지 빔의 투과 빔을 검출하는 투과 빔 센서를 포함하는 시료 분석 장치
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제 1 항에 있어서,상기 제 2 빔 소스는 다중 에너지 빔 생성기인 시료 분석 장치
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제 2 항에 있어서,상기 제 2 빔 소스는:레이저 빔을 생성하는 광원; 및상기 광원과 상기 시료 사이에 배치되고, 상기 레이저 빔을 수신하여 상기 제2 에너지 빔을 생성하는 타깃을 포함하는 시료 분석 장치
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제 3 항에 있어서,상기 제 2 에너지 빔은 자외선, 이온 입자, 양성자, 전자 및 방사선을 포함하는 다중 에너지 빔인 시료 분석 장치
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제 3 항에 있어서,상기 레이저 빔은 상기 제 1 에너지 빔과 시간 차이를 갖고 상기 타깃에 제공되고,상기 시간 차이는 상기 방사선의 비행시간이상인 시료 분석 장치
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제 1 항에 있어서,상기 투과 빔 센서는 방사선 센서를 포함하는 시료 분석 장치
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제 6 항에 있어서,상기 투과 빔 센서는 상기 시료와 상기 방사선 센서 사이에 배치되는 전자 센서를 더 포함하는 시료 분석 장치
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8
제 7 항에 있어서,상기 투과 빔 센서는 상기 시료와 상기 전자 센서 사이에 배치되는 양성자 센서를 더 포함하는 시료 분석 장치
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제 8 항에 있어서,상기 투과 빔 센서는 상기 시료와 상기 양성자 센서 사이에 배치되는 이온 센서를 더 포함하는 시료 분석 장치
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제 1 항에 있어서,상기 반사 빔 센서는 자외선 센서인 시료 분석 장치
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시료에 제 1 에너지 빔을 제공하는 단계;상기 시료의 상기 제 1 에너지 빔의 노출 면에 제 2 에너지 빔을 제공하는 단계;상기 1 에너지 빔의 노출 면에서 반사되는 제 2 에너지 빔의 반사 빔을 검출하는 단계; 및상기 제 1 에너지 빔의 노출 면에 투과되는 상기 제 2 에너지 빔의 투과 빔을 검출하는 단계를 포함하는 시료 분석 방법
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제 11 항에 있어서,상기 제 2 에너지 빔을 제공하는 단계는 상기 제 1 에너지 빔과 동일한 레이저 빔을 상기 제 1 에너지 빔보다 선행하여 타깃에 제공하는 단계를 포함하는 시료 분석 방법
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제 11 항에 있어서,상기 제 2 에너지 빔의 투과 빔을 검출하는 단계는:이온 입자 빔을 검출하는 단계;상기 이온 센서에 투과되는 양성자 빔을 검출하는 단계;전자 빔을 검출하는 단계; 및방사선 빔을 검출하는 단계를 포함하는 시료 분석 방법
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제 11 항에 있어서,상기 제 2 에너지 빔의 반사 빔을 검출하는 단계는 자외선 빔을 검출하는 단계를 포함하는 시료 분석 방법
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