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제1 기재층;상기 제1 기재층과 이격되어 대향하는 제2 기재층;상기 제1 기재층 상에 형성되고 적어도 일부 영역이 서로 이격된 적어도 하나의 광 산란 구조체를 포함하는 광 산란 패턴; 및 상기 광 산란 패턴과 상기 제2 기재층 사이에 게재된 굴절률 조절층을 포함하고, 상기 굴절률 조절층의 높이와 상기 광 산란 구조체의 높이의 비는 0
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제1 항에 있어서, 상기 광 산란 구조체는 상기 제1 기재층의 상면 중 적어도 일부 영역이 돌출되어 형성되고, 상기 제1 기재층으로부터 돌출된 단부의 적어도 일부 영역이 상기 제2 기재층의 하면에 삽입된 광학 필름
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제2 항에 있어서, 상기 굴절률 조절층은 서로 이격된 상기 광 산란 구조체와 상기 제1 기재층 및 상기 제2 기재층이 둘러싸는 영역에 배치된 광학 필름
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제3 항에 있어서, 상기 제1 기재층과 상기 제2 기재층의 굴절률 차이는 상기 제1 기재층과 상기 굴절률 조절층의 굴절률 차이보다 작은 광학 필름
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제4 항에 있어서, 상기 굴절률 조절층의 굴절률은 상기 제1 기재층 및 상기 제2 기재층의 굴절률보다 작은 광학 필름
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제4 항에 있어서, 상기 제1 기재층은 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리디메틸실록산(PDMS), 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA), 폴리이미드(PI), 폴리우레아(PU) 및 에폭시계 수지 중 적어도 어느 하나를 포함하는 광학 필름
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제2 항에 있어서, 상기 굴절률 조절층의 높이와 상기 광 산란 구조체의 높이의 비는 0
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제7 항에 있어서, 상기 광 산란 구조체의 높이는 1㎛ 내지 10㎛의 범위를 갖는 광학 필름
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제8 항에 있어서, 상기 광 산란 구조체의 직경은 500nm 내지 3000nm의 범위를 갖는 광학 필름
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제9 항에 있어서, 상기 광학 필름은 헤이즈(Haze) 값이 80% 이상의 범위를 갖는 광학 필름
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제7 항에 있어서, 상기 광 산란 구조체는 측면이 상기 제1 기재층의 상면과 이루는 예각의 크기는 70° 이상인 광학 필름
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12
제11 항에 있어서, 상기 광 산란 구조체는 상기 제1 기재층의 상면으로부터 수직한 방향으로 돌출된 광학 필름
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13
제11 항에 있어서, 상기 굴절률 조절층은 상기 광 산란 구조체의 외면을 둘러싸도록 배치된 제1 굴절률 조절층을 포함하는 광학 필름
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제13 항에 있어서, 상기 굴절률 조절층은 상기 제1 굴절률 조절층과 상기 제2 기재층의 하면 사이에 게재된 제2 굴절률 조절층을 더 포함하는 광학 필름
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15
제1 기재 필름 상에 적어도 하나의 마스크 로드 및 상기 마스크 로드가 이격되어 형성된 홀을 포함하는 식각 마스크 패턴을 형성하는 단계; 상기 식각 마스크 패턴의 홀을 따라 제1 기재 필름의 일부를 식각하여 광 산란 패턴이 형성된 제1 기재층을 형성하는 단계; 및 상기 제1 기재층과 이격되어 대향하는 제2 기재층 및 상기 제2 기재층과 상기 광 산란 패턴 사이에 게재된 굴절률 조절층을 형성하는 단계를 포함하는 광학 필름의 제조 방법
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제15 항에 있어서, 상기 식각 마스크 패턴을 형성하는 단계는,상기 제1 기재 필름 상에 금속층을 형성하는 단계 및 상기 금속층 상에 제1 플라즈마를 조사하여 서로 이격된 상기 마스크 로드를 형성하는 단계를 포함하는 광학 필름의 제조 방법
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제16 항에 있어서, 상기 금속층은 은(Ag)을 포함하고, 상기 제1 플라즈마는 염소기체를 이용한 플라즈마인 광학 필름의 제조 방법
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제16 항에 있어서, 상기 제1 기재층을 형성하는 단계는,상기 식각 마스크 패턴과 상기 제1 기재 필름 상에 제2 플라즈마를 조사하는 단계; 상기 제1 기재 필름의 상면 중 상기 홀과 중첩하는 영역과 상기 식각 마스크 패턴이 상기 제2 플라즈마에 의해 식각되는 단계 및 상기 제1 기재 필름의 상면 중 적어도 일부 영역이 함몰되어 형성된 광 산란 구조체를 형성하는 단계를 포함하는 광학 필름의 제조 방법
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제18 항에 있어서, 상기 제2 플라즈마는 산소기체를 이용한 플라즈마이고, 상기 제2 플라즈마는 45분 내지 90분 동안 조사되는 광학 필름의 제조 방법
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제19 항에 있어서, 상기 제2 기재층 및 상기 굴절률 조절층을 형성하는 단계는,상기 광 산란 패턴 상에 상기 광 산란 구조체의 돌출된 단부의 적어도 일부 영역이 삽입되도록 제2 기재 필름을 배치하는 단계 및 상기 제2 기재 필름에 열 또는 광을 조사하여 상기 제2 기재 필름을 경화시켜 상기 제2 기재층을 형성하고 상기 제2 기재층과 상기 광 산란 패턴 사이에 상기 굴절률 조절층을 형성하는 단계를 포함하는 광학 필름의 제조 방법
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