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형광체 필름으로 광원을 조사하여 상기 형광체 필름의 광 특성을 측정하는 광 특성 측정 장치에 있어서,기 설정된 파장 대역의 광원을 조사하는 광원부;상기 형광체 필름으로 조사된 광원을 전반사시키는 적분구;상기 적분구 내측에 배치되고, 상기 형광체 필름을 안치시키는 홀더; 및상기 적분구에 의해 전반사된 광원을 수신하여, 광원의 광 특성 스펙트럼을 검출하는 검출기를 포함하는 것을 특징으로 하는 광 특성 측정 장치
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제1항에 있어서,상기 적분구는,상기 광원부로부터 조사된 광원이 유입되는 제1 관통공을 구비하는 것을 특징으로 하는 광 특성 측정 장치
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제1항에 있어서,상기 적분구는,상기 형광체 필름으로 조사된 광원을 전반사시키고, 전반사된 광원을 상기 검출기로 유출시키는 제2 관통공을 구비하는 것을 특징으로 하는 광 특성 측정 장치
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제1항에 있어서,상기 형광체 필름이 안치된 홀더는,상기 적분구 내 중공으로 삽입되는 것을 특징으로 하는 광 특성 측정 장치
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제1항에 있어서,상기 홀더는,상기 형광체 필름이 통과되는 관통공 및 상기 형광체 필름이 안치되는 지지부를 포함하는 것을 특징으로 하는 광 특성 측정 장치
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형광체 필름을 이용한 광 특성 측정 장치가 상기 형광체 필름의 광 특성을 측정하는 과정에 있어서, 레퍼런스 값을 측정하는 측정과정;홀더에 고정된 형광체 필름으로 광원을 조사하는 조사과정;상기 홀더에 고정된 형광체 필름으로부터 반사된 빛을 전반사시키는 전반사과정;전반사된 빛을 검출기로 전송하는 전송과정; 및상기 형광체 필름의 광 특성을 스펙트럼으로 출력하는 검출과정을 포함하는 것을 특징으로 하는 형광체 필름의 광 특성을 측정하는 과정
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제6항에 있어서,상기 조사과정은,상기 홀더에 고정된 형광체 필름으로 기 설정된 파장 대역의 광원을 조사하는 것을 특징으로 하는 형광체 필름의 광 특성을 측정하는 과정
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제6항에 있어서,상기 형광체 필름의 광 특성을 측정하는 과정은,상기 홀더에 고정된 형광체 필름으로 조사된 광원을 유입시키는 통로와 상기 검출기로 상기 전반사된 빛을 전송하는 통로가 일직선 상에 형성되어 있지 않는 것을 특징으로 하는 형광체 필름의 광 특성을 측정하는 과정
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광 특성 측정 장치의 측정 대상으로서, 실리콘 및 형광체 분말이 각각 기 설정된 비율로 함유되고, 상기 형광체 분말의 혼합 비율에 따라 단위 면적 당 형광체 입자의 수가 달라지며, 상기 단위 면적 당 형광체 입자의 수에 따라 형광체가 광원을 재흡수하는 확률을 조절할 수 있도록 제조된 형광체 필름
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제9항에 있어서,상기 형광체 필름은,형광체의 종류에 따라 혼입되는 형광체 분말의 함유량이 달라지는 것을 특징으로 하는 형광체 필름
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제9항에 있어서,상기 형광체 필름은,상기 광 특성 측정 장치로부터 조사된 광원을 반사시키는 것을 특징으로 하는 형광체 필름
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제9항에 있어서,상기 형광체 필름은,상기 형광체 필름 내 상기 형광체 입자에 의해 반사된 광원을 주변의 다른 입자가 재흡수하여 반사시키는 특성을 갖는 것을 특징으로 하는 형광체 필름
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광 특성 측정 장치 내 홀더에 안치되는 형광체 필름을 제조하는 과정에 있어서,형광체의 종류에 따라 실리콘 및 형광체 분말의 혼합 비율을 설계하는 설계과정;기 설정된 비율의 실리콘 및 형광체 분말을 교반 컵에 투입시키는 투입과정;상기 기 설정된 비율의 실리콘 및 형광체 분말이 투입된 교반 컵을 교반하는 과정;상기 기 설정된 비율의 실리콘 및 형광체 분말이 혼합됨에 따라 형성된 혼합액을 진공 탈포하는 탈포과정;혼합액을 도포하는 도포과정;상기 도포과정에 의해 도포된 혼합액을 박막 형태로 성형하는 성형과정;상기 성형과정에 의해 박막 형태로 성형된 혼합액을 경화시키는 경화과정; 및상기 경화과정에 의해 경화가 완료된 혼합액을 기 설정된 모양으로 가공하는 가공과정을 포함하는 것을 특징으로 하는 형광체 필름 제조과정
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제13항에 있어서,상기 기 설정된 모양은,상기 형광체 필름이 상기 홀더 내에 안치될 수 있는 모양인 것을 특징으로 하는 형광체 필름 제조과정
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