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이온전도성 막 및 이의 제조방법

  • 기술번호 : KST2021009291
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명에 따른 이온전도성 막은 이온전도성 매트릭스; 및 상기 이온전도성 매트릭스에 분산되고 일정 방향으로 배향된 1차원 분산상;을 포함하며, 상기 1차원 분산상은 1차원 나노구조체의 코어; 및 상기 매트릭스와 동종의 이온을 전도하는 이온전도성 물질을 함유하는 표면층;을 포함한다.
Int. CL C08J 5/22 (2006.01.01) H01M 8/1051 (2016.01.01) H01M 8/1081 (2016.01.01)
CPC C08J 5/2218(2013.01) H01M 8/1048(2013.01) H01M 8/1051(2013.01) H01M 8/1081(2013.01) C08J 2327/12(2013.01)
출원번호/일자 1020200016794 (2020.02.12)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자 10-2272937-0000 (2021.06.29)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20210706) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2020.02.12)
심사청구항수 39

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김희탁 대전광역시 유성구
2 현종현 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 플러스 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2020.02.12 수리 (Accepted) 1-1-2020-0146620-50
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
4 [우선심사신청]심사청구서·우선심사신청서
2020.10.27 수리 (Accepted) 1-1-2020-1137825-25
5 [우선심사신청]선행기술조사의뢰서
[Request for Preferential Examination] Request for Prior Art Search
2020.10.28 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
6 [우선심사신청]선행기술조사보고서
[Request for Preferential Examination] Report of Prior Art Search
2020.11.02 수리 (Accepted) 9-1-2020-0030136-85
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2021.03.04 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2021-0184861-18
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견서·답변서·소명서
2021.04.20 수리 (Accepted) 1-1-2021-0461798-57
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2021.04.20 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2021-0461766-07
10 등록결정서
Decision to grant
2021.06.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2021-0505420-83
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
이온전도성 매트릭스; 및 상기 이온전도성 매트릭스에 분산되고 일정 방향으로 배향된 1차원 분산상;을 포함하며,상기 1차원 분산상은 1차원 나노구조체의 코어; 상기 매트릭스와 동종의 이온을 전도하는 이온전도성 물질을 함유하는 표면층; 및 상기 코어와 상기 표면층 사이에 위치하며 양이온성 고분자를 포함하는 중간층을 포함하는 이온전도성 막
2 2
제 1항에 있어서, 상기 1차원 나노구조체는 비전도성 나노와이어, 비전도성 나노튜브 및 비전도성 나노막대에서 하나 이상 선택되는 이온전도성 막
3 3
제 1항에 있어서, 상기 1차원 나노구조체의 장축 방향과 상기 이온전도성 막의 두께 방향간의 각도는 0 내지 90°인 이온전도성 막
4 4
제 1항에 있어서, 상기 분산상은 막의 두께 방향으로 배향된 이온전도성 막
5 5
제 1항에 있어서, 상기 1차원 분산상의 배향 방향에 수직인 단면을 기준으로, 상기 이온전도성 막의 단위 면적당 1차원 분산상의 수인 분산상 밀도는 5,000 ~ 1,000,000 개/mm2인 이온전도성 막
6 6
제 1항에 있어서,하기 식 1을 만족하는 이온전도성 막
7 7
제 1항에 있어서,상기 표면층은 상기 1차원 나노구조체를 감싸는 연속층인 이온전도성 막
8 8
제 1항에 있어서,상기 표면층의 두께는 1 내지 100nm인 이온전도성 막
9 9
제 1항에 있어서,상기 1차원 나노구조체의 종횡비는 5 내지 500인 이온전도성 막
10 10
제 1항에 있어서,상기 이온전도성 막의 두께인 t를 기준으로, 상기 1차원 나노구조체의 길이는 0
11 11
삭제
12 12
제 1항에 있어서,상기 이온전도성은 양성자 전도성인 이온전도성 막
13 13
제 1항에 있어서,상기 이온전도성 매트릭스는 이온전도성 수지를 포함하는 이온전도성 막
14 14
제 13항에 있어서,상기 이온전도성 수지 또는 상기 이온전도성 물질은 설폰화된 블럭 공중합체, 측쇄 상에 설포네이트기를 갖는 퍼플루오르화된 중합체 또는 설폰화된 방향족 중합체이며, 상기 이온전도성 수지와 상기 이온전도성 물질은 서로 상이한 이온전도성 막
15 15
제 1항에 있어서,상기 중간층의 표면에 결착된 자성 나노입자를 더 포함하는 이온전도성 막
16 16
망상의 3차원 이온 전도 채널; 및 상기 3차원 이온 전도 채널과 접하며, 1차원 나노구조체상의 표면층을 통해 1차원 나노구조체의 양 단을 잇는 2차원 이온 전도 채널;을 포함하며, 상기 2차원 이온 전도 채널은 상기 1차원 나노구조체의 코어, 상기 망상의 3차원 이온 전도 채널과 동종의 이온을 전도하는 이온전도성 물질을 함유하는 상기 표면층 및 상기 코어와 상기 표면층 사이에 위치하며 양이온성 고분자를 포함하는 중간층을 포함하는 1차원 분산상의 상기 표면층에 의해 제공되고, 상기 2차원 이온 전도 채널은 일정 방향으로 배향된 이온전도성 막
17 17
제 16항에 있어서,상기 2차원 이온 전도 채널은 상기 막의 두께 방향으로 배향된 이온전도성 막
18 18
제 16항에 있어서,상기 3차원 이온 전도 채널과 상기 2차원 이온 전도 채널은 서로 상이한 이온 전도성 물질에 의해 제공되는 이온전도성 막
19 19
제 1항 내지 제 10항 및 제 12항 내지 제 18항 중 어느 한 항에 따른 이온 전도성 막을 포함하는 장치
20 20
제 19항에 있어서,상기 장치는 연료전지, 레독스 흐름전지, 전기분해 장치, 투석 장치, 수처리 장치 또는 전기화학 이중층 캐패시터인 장치
21 21
이온전도성 매트릭스; 및 상기 이온전도성 매트릭스에 분산되고 일정 방향으로 배향된 1차원 복합구조체;를 포함하며,상기 1차원 복합구조체는 1차원 나노 형상을 제공하는 1차원 나노구조체, 자성을 제공하는 자성 나노입자; 및 상기 매트릭스와 동종의 이온을 전도하는 이온전도성을 제공하는 이온전도성 물질;을 함유하는 이온전도용 복합체
22 22
제 21항에 있어서,상기 1차원 복합구조체는 상기 자성 나노입자를 상기 1차원 나노구조체에 고정시키는 결착물질을 더 함유하는 이온전도용 복합체
23 23
제 22항에 있어서,상기 1차원 복합구조체는 1차원 나노구조체; 상기 결착물질로, 상기 1차원 나노구조체에 코팅된 양이온성 고분자를 포함하는 중간층; 정전기적 인력에 의해 상기 중간층에 결합된 자성 나노입자; 상기 이온전도성 물질로, 적어도, 상기 자성 나노입자가 미 결합되어 표면으로 노출된 중간층을 덮으며, 상기 매트릭스와 동종의 이온을 전도하는 이온전도성 물질을 함유하는 표면층을 포함하는 이온전도용 복합체
24 24
제 21항에 있어서,상기 자성 나노입자는 상자성(paramagnetic) 나노입자, 준강자성(ferrimagnetic) 나노입자 또는 강자성(ferromagnetic) 나노입자인 이온전도용 복합체
25 25
제 21항에 있어서,상기 복합체는 막 형상인 이온전도용 복합체
26 26
제 25항에 있어서,상기 복합체는 상기 1차원 복합구조체의 배향 방향에 따라, 자화율(χ, magnetic susceptibility)이 달라지는 이온전도용 복합체
27 27
제 25항에 있어서,상기 1차원 복합구조체는 상기 막의 두께 방향으로 배향된 복합체
28 28
제 27항에 있어서,상기 복합체의 자화율은 150이상인 복합체
29 29
제 21항에 있어서,상기 자성 나노입자의 직경(Dnp)은 상기 1차원 나노구조체의 직경(D1d)을 기준으로 0
30 30
이온전도성 수지; 1차원 복합구조체; 및 용매;를 포함하는 조성물을 도포하여 도포막을 제조하는 도포단계; 및도포된 도포막을 건조하는 건조단계;를 포함하고, 상기 1차원 복합구조체는 1차원 나노 형상을 제공하는 1차원 나노구조체, 자성을 제공하는 자성 나노입자, 상기 자성 나노입자를 상기 1차원 나노구조체에 고정시키는 결착물질 및 상기 이온전도성 수지와 동종의 이온을 전도하는 이온전도성을 제공하는 이온전도성 물질을 함유하며,상기 도포막의 건조 전, 건조와 동시 또는 건조 중 상기 도포막에 자기장을 인가하는 이온전도성 막의 제조방법
31 31
제 30항에 있어서,상기 조성물은 상기 이온전도성 수지가 현탁되고 상기 1차원 복합구조체가 분산된 조성물인 이온전도성 막의 제조방법
32 32
제 30항에 있어서,상기 건조 단계에서 상기 자기장의 인가에 의해 자기장의 인가 방향에 평행하게 상기 1차원 복합구조체가 배향되는 이온전도성 막의 제조방법
33 33
제 30항에 있어서,상기 자기장은 상기 도포막의 두께 방향으로 인가되는 이온전도성 막의 제조방법
34 34
제 30항에 있어서,상기 용매는 1atm 기준, 제1비점을 갖는 제1용매 및 제1비점보다 낮은 제2비점을 갖는 제2용매를 포함하는 이온전도성 막의 제조방법
35 35
제 34항에 있어서,상기 제1용매와 제2용매의 혼합 비율에 의해 상기 자기장 인가시점에서의 도포막 내 1차원 복합구조체의 유동성이 제어되는 이온전도성 막의 제조방법
36 36
제 30항에 있어서,상기 용매는 물, 글리콜계 용매, 글리콜 에테르계 용매, 알콜계 용매, 케톤계 용매, 에스테르계 용매, 아미드계 용매, 술폭시드 또는 술폰계 용매, 페놀릭계 용매 또는 이들의 혼합 용매인 이온전도성 막의 제조방법
37 37
제 30항에 있어서,도포단계 전, 1차원 복합구조체 제조단계를 더 포함하며,1차원 복합구조체 제조단계는, 1차원 나노구조체에 양이온성 고분자를 함유하는 중간층을 형성하는 1단계; 액상 매질 하 정전기적 인력에 의해 자성 나노입자를 중간층 표면에 고정하는 2단계; 및 자성입자가 고정되고 중간층이 형성된 1차원 나노구조체에 이온전도성 물질을 함유하는 표면층을 형성하는 3단계;를 포함하는 이온전도성 막의 제조방법
38 38
제 30항에 있어서,상기 건조 단계 후 수득된 건조막을 활성화시키는 활성화단계;를 더 포함하는 이온전도성 막의 제조방법
39 39
제 38항에 있어서,상기 활성화시 자성 나노입자가 제거되는 이온전도성 막의 제조방법
40 40
제 30항 내지 제 39항 중 어느 한 항에 따른 제조방법으로 제조된 이온전도성 막
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.