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증착용 챔버;플라즈마를 형성시키고 상기 증착용 챔버로 플라즈마를 공급하는 플라즈마 형성부; 및상기 증착용 챔버와 상기 플라즈마 형성부 사이를 개폐하는 개폐부;를 포함하는 원자층 증착용 플라즈마 공급 장치
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제1항에 있어서,상기 플라즈마 형성부는,플라즈마를 형성하기 위한 기체를 공급하는 가스배관;전원 인가 시, 플라즈마 형성을 위한 에너지를 공급하는 코일; 및상기 가스배관과 연결되고, 외주면에 상기 코일이 권선되는 석영관;을 포함하는 원자층 증착용 플라즈마 공급 장치
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제1항에 있어서,상기 개폐부는,상기 증착용 챔버 및 상기 플라즈마 형성부와 결합되는 밸브 본체;상기 밸브 본체에 형성되고, 상기 증착용 챔버와 상기 플라즈마 형성부를 연통시키는 플라즈마 공급 유로; 및상기 밸브 본체 내부에서 직선 왕복 운동 가능하게 구비되고, 상기 플라즈마 공급 유로를 개폐하는 차단판;을 포함하는 원자층 증착용 플라즈마 공급 장치
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제3항에 있어서,상기 개폐부는,공압에 의하여 상기 차단판을 직선 왕복 운동시키는 공압 배관;을 더 포함하는 원자층 증착용 플라즈마 공급 장치
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제4항에 있어서,상기 공압 배관은,공압 인가 시, 상기 플라즈마 공급 유로를 닫는 방향으로 상기 차단판을 이동시키는 폐쇄용 공압 배관; 및 공압 인가 시, 상기 플라즈마 공급 유로를 여는 방향으로 상기 차단판을 이동시키는 개방용 공압 배관;을 포함하는 원자층 증착용 플라즈마 공급 장치
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증착용 챔버;플라즈마를 형성시키고 상기 증착용 챔버로 플라즈마를 공급하는 플라즈마 형성부;상기 증착용 챔버와 상기 플라즈마 형성부 사이를 개폐하는 개폐부; 및상기 플라즈마 형성부와 상기 개폐부를 제어하는 제어부;를 포함하는 원자층 증착용 플라즈마 공급 시스템
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제6항에 있어서,상기 플라즈마 형성부는,플라즈마를 형성하기 위한 기체를 공급하는 가스배관;전원 인가 시, 플라즈마 형성을 위한 에너지를 공급하는 코일; 및상기 가스배관과 연결되고, 외주면에 상기 코일이 권선되는 석영관;을 포함하고,상기 제어부는,상기 증착용 챔버와 상기 플라즈마 형성부 사이가 개방되는 경우, 상기 가스배관을 개방하여 플라즈마를 형성하기 위한 기체를 상기 석영관으로 공급하는 것을 특징으로 하는 원자층 증착용 플라즈마 공급 시스템
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제7항에 있어서,상기 개폐부는,상기 증착용 챔버 및 상기 플라즈마 형성부와 결합되는 밸브 본체;상기 밸브 본체에 형성되고, 상기 증착용 챔버와 상기 플라즈마 형성부를 연통시키는 플라즈마 공급 유로; 상기 밸브 본체 내부에서 직선 왕복 운동 가능하게 구비되고, 상기 플라즈마 공급 유로를 개폐하는 차단판; 및공압에 의하여 상기 차단판을 직선 왕복 운동시키는 공압 배관;을 포함하고, 상기 제어부는,상기 공압 가스 배관을 제어하여 상기 차단판을 직선 왕복 운동시키는 것을 특징으로 하는 원자층 증착용 플라즈마 공급 시스템
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제8항에 있어서,상기 공압 배관은,공압 인가 시, 상기 플라즈마 공급 유로를 닫는 방향으로 상기 차단판을 이동시키는 폐쇄용 공압 배관; 및공압 인가 시, 상기 플라즈마 공급 유로를 여는 방향으로 상기 차단판을 이동시키는 개방용 공압 배관;을 포함하는 원자층 증착용 플라즈마 공급 시스템
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제9항에 있어서,상기 제어부는,상기 개방용 공압 배관에 공압을 인가시킬 경우, 상기 가스배관을 개방하여 플라즈마를 형성하기 위한 기체를 상기 석영관으로 공급하는 것을 특징으로 하는 원자층 증착용 플라즈마 공급 시스템
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제9항에 있어서,상기 제어부는,상기 폐쇄용 공압 배관에 공압을 인가시킬 경우, 상기 가스배관을 폐쇄하여 플라즈마를 형성하기 위한 기체가 상기 석영관으로 공급되는 것을 차단하는 것을 특징으로 하는 원자층 증착용 플라즈마 공급 시스템
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증착용 챔버;상기 증착용 챔버에 전구체를 공급하는 전구체 공급 장치;상기 증착용 챔버에 플라즈마를 공급하는 플라즈마 공급 장치; 및상기 전구체 공급 장치와 상기 플라즈마 공급 장치를 제어하는 제어부;를 포함하고,상기 플라즈마 공급 장치는,플라즈마를 형성시키고 상기 증착용 챔버로 플라즈마를 공급하는 플라즈마 형성부; 및상기 증착용 챔버와 상기 플라즈마 형성부 사이를 개폐하는 개폐부;를 포함하는 원자층 증착장치
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제12항에 있어서,상기 플라즈마 형성부는,플라즈마를 형성하기 위한 기체를 공급하는 가스배관;전원 인가 시, 플라즈마 형성을 위한 에너지를 공급하는 코일; 및상기 가스배관과 연결되고, 외주면에 상기 코일이 권선되는 석영관;을 포함하고,상기 제어부는,상기 전구체 공급 장치에서 상기 증착용 챔버로 전구체를 공급할 경우, 상기 개폐부를 닫아 상기 증착용 챔버로 플라즈마를 공급하는 것을 차단하고, 상기 가스배관을 닫아 상기 석영관에 플라즈마 형성을 위한 기체를 공급하는 것을 차단하는 것을 특징으로 하는 원자층 증착장치
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전구체 공급 장치에서 증착용 챔버로 전구체를 공급하는 단계; 및플라즈마 공급 장치에서 상기 증착용 챔버로 플라즈마를 공급하는 단계;를 포함하고,상기 전구체를 공급하는 단계에서는,상기 플라즈마 공급 장치에서 상기 증착용 챔버로 플라즈마를 공급하는 것을 차단하는 것을 차단하는 것을 특징으로 하는 원자층 증착장치의 제어방법
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제14항에 있어서,상기 전구체를 공급하는 단계에서는,상기 플라즈마 공급장치로 플라즈마 형성을 위한 기체를 공급하는 것을 차단하는 것을 특징으로 하는 원자층 증착장치의 제어방법
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제14항에 있어서,상기 플라즈마를 공급하는 단계에서는,상기 플라즈마 공급 장치에서 상기 증착용 챔버로 플라즈마를 공급하는 유량에 대응하여 상기 플라즈마 공급장치로 플라즈마 형성을 위한 기체를 공급하는 것을 특징으로 하는 원자층 증착장치의 제어방법
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