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유전체 튜브; 상기 튜브의 일부 또는 전체에 충진된 매크로다공성 실리카; 상기 유전체 튜브의 매크로다공성 실리카가 충진된 부분의 전체 또는 일부를 둘러싸는 접지전극(ground electrode) 및 상기 유전체 튜브의 내벽과 소정의 간격으로 이격되어 이와 평행하게, 이에 충진된 매크로다공성 실리카 층의 일부에 또는 전체를 관통하도록 삽입되거나 전원전극(powered electrode)을 구비한, 메탄으로부터 C2+ 탄화수소 제조용 유전체 배리어 방전(dielectric barrier discharge; DBD) 플라즈마 반응기
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제1항에 있어서,상기 유전체 튜브는 알루미나로 된 것인, DBD 플라즈마 반응기
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제1항에 있어서,매크로다공성 실리카가 충진된 부분을 기준으로, 상기 유전체 튜브의 일측에는 메탄을 주입하는 가스 주입구가, 이의 타측에는 가스 배출구가 연결된 것인, 알루미나로 된 것인, DBD 플라즈마 반응기
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제3항에 있어서,반응물인 메탄은 불활성 기체와 1:9 내지 7:3의 비율로 혼합하여 주입되는 것인, DBD 플라즈마 반응기
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제1항에 있어서,상온, 상압에서 메탄의 비-산화 커플링 반응을 수행하는 것인, DBD 플라즈마 반응기
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제1항에 있어서,상기 매크로다공성 실리카는 평균 1 내지 10 μm 크기의 기공을 갖는 것인, DBD 플라즈마 반응기
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7
제1항에 있어서,C2+ 탄화수소 생성물 중 파라핀의 함량이 증가된 것인, DBD 플라즈마 반응기
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제1항에 있어서,상기 매크로다공성 실리카는 펠렛화되지 않은, 평균직경 100 내지 1000 μm 크기의 입자 형태인 것인, DBD 플라즈마 반응기
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제1항에 있어서,상기 매크로다공성 실리카로서 펠렛화되지 않은 입자를 충진하여도 반응 진행시 차압이 발생하지 않으며, 펠렛화된 유전체를 충진한 반응기에서와 메탄 전환율, 생성물 선택도 또는 생성된 탄화수소 중의 파라핀 함량에서 유사한 패턴을 나타내는 것인, DBD 플라즈마 반응기
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제1항에 있어서,30 내지 60 W의 전력을 인가하여 방전시키는 것인, DBD 플라즈마 반응기
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제1항에 있어서,상기 전원전극은 교류(alternating current; AC) 전원장치에 연결된 것인, DBD 플라즈마 반응기
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제1항에 있어서,상기 매크로다공성 실리카의 기공 내에 광촉매 나노입자를 추가로 포함하는 것인, DBD 플라즈마 반응기
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제12항에 있어서,상기 광촉매 나노입자는 전체 충진물의 중량을 기준으로 0
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제12항에 있어서,동일한 반응 조건에서 광촉매 나노입자를 불포함하는 반응기에 비해 코크 형성이 감소되거나, 생성되는 C5+ 탄화수소 양이 증가된 것인, DBD 플라즈마 반응기
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제12항에 있어서,동일한 반응 조건에서 광촉매 나노입자를 불포함하는 반응기에 비해 형성된 코크를 제거하기 위해 요구되는 최대 온도가 감소된 것인, DBD 플라즈마 반응기
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