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회전 플레이트;상기 회전 플레이트의 상면에 설치되는 CMP 패드;상기 회전 플레이트의 상부에 배치되며 웨이퍼를 상기 CMP 패드에 접촉시켜 상기 웨이퍼를 가압하는 회전체 유닛; 및상기 CMP 패드에 슬러리를 공급하는 슬러리 공급부;를 포함하며,상기 CMP 패드는원형의 플레이트 형상을 가지는 패드 본체;상기 패드 본체의 저면에 구비되며 원형의 형상을 가지는 복수개의 원형 그루브; 및상기 복수개의 원형 그루브를 연결하며 직선 형상을 가지는 연결 그루브;를 구비하는 화학적 기계적 연마 장치
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제1항에 있어서,상기 원형 그루브는 상기 패드 본체의 중앙부에 배치되는 제1 원형 그루브와, 상기 제1 원형 그루브보다 직경이 크며 상기 패드 본체의 가장자리에 배치되는 제2 원형 그루브를 구비하며,상기 연결 그루브는 상기 제1 원형 그루브와 상기 제2 원형 그루브를 연결하며 제1 원형 그루브의 접선 방향으로 배치되는 화학적 기계적 연마 장치
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제1항에 있어서,상기 원형 그루브는 상기 패드 본체의 중앙부에 배치되는 제1 원형 그루브와, 상기 제1 원형 그루브보다 큰 직경을 가지는 제2 원형 그루브 및 상기 패드 본체의 가장자리에 배치되는 제3 원형 그루브를 구비하며,상기 연결 그루브는 상기 제1 원형 그루브와 상기 제2 원형 그루브를 연결하는 제1 연결 그루브와, 상기 제1 연결 그루브와 어긋나게 배치되며 상기 제2 원형 그루브와 상기 제3 원형 그루브를 연결하는 화학적 기계적 연마 장치
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제3항에 있어서,상기 제1 연결 그루브는 상기 제1 원형 그루브의 접선 방향으로 배치되며, 상기 제2 연결 그루브는 상기 제2 원형 그루브의 접선 방향에 수직한 법선 방향으로 배치되는 화학적 기계적 연마 장치
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제3항에 있어서,상기 제1 연결 그루브는 상기 제1 원형 그루브의 접선 방향에 수직한 법선 방향으로 배치되며,상기 제2 연결 그루브는 상기 제2 원형 그루브의 접선 방향으로 배치되는 화학적 기계적 연마 장치
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제1항에 있어서,상기 원형 그루브는 상기 패드 본체의 중앙부에 배치되는 제1 원형 그루브, 상기 제1 원형 그루브보다 직경이 큰 제2 원형 그루브, 상기 제2 원형 그루브의 외측에 배치되는 제3 원형 그루브, 상기 제3 원형 그루브보다 직경이 큰 제4 원형 그루브 및 상기 패드 본체의 가장자리에 배치되는 제5 원형 그루브를 구비하며,상기 연결 그루브는 상기 제1,2 원형 그루브를 연결하는 제1 연결 그루브, 상기 제2,3 원형 그루브를 연결하는 제2 연결 그루브, 상기 제3,4 원형 그루브를 연결하는 제3 연결 그루브 및 상기 제4,5 원형 그루브를 연결하는 제4 연결 그루브를 구비하는 화학적 기계적 연마 장치
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제6항에 있어서,상기 제1 내지 4 연결 그루브는 상기 제1 내지 4 원형 그루브의 접선 방향에 수직한 법선 방향으로 배치되거나,상기 제1 내지 4 연결 그루브 중 적어도 하나는 상기 제1 내지 4 원형 그루브 중 적어도 하나의 접선 방향으로 배치되는 화학적 기계적 연마 장치
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원형의 플레이트 형상을 가지는 패드 본체;상기 패드 본체의 저면에 구비되며 원형의 형상을 가지는 복수개의 원형 그루브; 및상기 복수개의 원형 그루브를 연결하며 직선 형상을 가지는 연결 그루브;를 구비하는 CMP 패드
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제8항에 있어서,상기 원형 그루브는 상기 패드 본체의 중앙부에 배치되는 제1 원형 그루브와, 상기 제1 원형 그루브보다 직경이 크며 상기 패드 본체의 가장자리에 배치되는 제2 원형 그루브를 구비하며,상기 연결 그루브는 상기 제1 원형 그루브와 상기 제2 원형 그루브를 연결하며 제1 원형 그루브의 접선 방향으로 배치되는 CMP 패드
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제8항에 있어서,상기 원형 그루브는 상기 패드 본체의 중앙부에 배치되는 제1 원형 그루브와, 상기 제1 원형 그루브보다 큰 직경을 가지는 제2 원형 그루브 및 상기 패드 본체의 가장자리에 배치되는 제3 원형 그루브를 구비하며,상기 연결 그루브는 상기 제1 원형 그루브와 상기 제2 원형 그루브를 연결하는 제1 연결 그루브와, 상기 제1 연결 그루브와 어긋나게 배치되며 상기 제2 원형 그루브와 상기 제3 원형 그루브를 연결하는 CMP 패드
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