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동형 암호 기반 암호문 처리 방법에 있어서,암호문(ciphertext)의 부트스트래핑을 위한 모듈러스 리덕션에 대응하는 근사 다항식을 상기 모듈러스 리덕션에서 추출된 복수의 샘플들에 기반하여 결정하는 단계; 및상기 근사 다항식에 기반하여, 상기 암호문에 부트스트래핑을 수행하는 단계를 포함하는암호문 처리 방법
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제1항에 있어서,상기 근사 다항식을 결정하는 단계는상기 복수의 샘플들과 상기 근사 다항식의 값들 간의 차이가 미리 정해진 임계치보다 작도록 상기 근사 다항식의 계수를 결정하는,암호문 처리 방법
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제2항에 있어서,상기 근사 다항식을 결정하는 단계는상기 복수의 샘플들과 상기 근사 다항식의 값들 간의 차이가 미리 정해진 임계치보다 작은지 여부를 판단하고,상기 차이가 미리 정해진 임계치보다 같거나 큰 경우, 상기 차이와 이전 스텝에서 결정된 차이 간 비교에 기초하여 상기 복수의 샘플들의 개수 또는 상기 근사 다항식의 차수를 증가시키는,암호문 처리 방법
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제3항에 있어서,상기 근사 다항식을 결정하는 단계는상기 차이와 이전 스텝에서 결정된 차이 간 유사도가 미리 정해진 임계 유사도보다 작으면 상기 복수의 샘플들의 개수를 증가시키고,상기 유사도가 미리 정해진 임계 유사도보다 같거나 크면 상기 근사 다항식의 차수를 증가시키는,암호문 처리 방법
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제2항에 있어서,상기 복수의 샘플들과 상기 근사 다항식의 값들 간 차이는 상기 복수의 샘플들과 상기 근사 다항식의 값들 간 L2-norm에 기초하여 결정되는,암호문 처리 방법
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제1항에 있어서,상기 근사 다항식을 결정하는 단계는홀수 차수항들로 구성된 상기 근사 다항식을 결정하는,암호문 처리 방법
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제1항에 있어서,상기 근사 다항식을 결정하는 단계는체비셰프(Chebyshev) 다항식을 기저로 한 상기 근사 다항식을 결정하는,암호문 처리 방법
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제1항에 있어서,상기 복수의 샘플들은상기 모듈러스 리덕션에 대응하는 함수 중 기준점을 중심으로 대칭 형태를 가진 조각 연속 구간에서 추출되는,암호문 처리 방법
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제8항에 있어서,상기 복수의 샘플들은상기 조각 연속 구간에서 상기 기준점에 의해 나누어진 일부분에서 추출되는,암호문 처리 방법
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제1항에 있어서,상기 암호문에 부트스트래핑을 수행하는 단계는상기 근사 다항식을 이용하여 상기 모듈러스 리덕션을 동형적으로 평가함으로써 상기 암호문에 상기 부트스트래핑을 수행하는,암호문 처리 방법
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제1항 내지 제10항 중에서 어느 하나의 항의 방법을 실행시키기 위한 프로그램이 기록된 컴퓨터 판독 가능한 저장 매체
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동형 암호 기반 암호문 처리 장치에 있어서,하나 이상의 프로세서를 포함하고,상기 하나 이상의 프로세서는암호문의 부트스트래핑을 위한 모듈러스 리덕션에 대응하는 근사 다항식을 상기 모듈러스 리덕션에서 추출된 복수의 샘플들에 기반하여 결정하고,상기 근사 다항식에 기반하여, 상기 암호문에 부트스트래핑을 수행하는암호문 처리 장치
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제12항에 있어서,상기 하나 이상의 프로세서는상기 복수의 샘플들과 상기 근사 다항식의 값들 간의 차이가 미리 정해진 임계치보다 작도록 상기 근사 다항식의 계수를 결정하는,암호문 처리 장치
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제13항에 있어서,상기 하나 이상의 프로세서는상기 복수의 샘플들과 상기 근사 다항식의 값들 간의 차이가 미리 정해진 임계치보다 작은지 여부를 판단하고,상기 차이가 미리 정해진 임계치보다 같거나 큰 경우, 상기 차이와 이전 스텝에서 결정된 차이 간 비교에 기초하여 상기 복수의 샘플들의 개수 또는 상기 근사 다항식의 차수를 증가시키는,암호문 처리 장치
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제14항에 있어서,상기 하나 이상의 프로세서는상기 차이와 이전 스텝에서 결정된 차이 간 유사도가 미리 정해진 임계 유사도보다 작으면 상기 복수의 샘플들의 개수를 증가시키고,상기 유사도가 미리 정해진 임계 유사도보다 같거나 크면 상기 근사 다항식의 차수를 증가시키는,암호문 처리 장치
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제13항에 있어서,상기 복수의 샘플들과 상기 근사 다항식의 값들 간 차이는 상기 복수의 샘플들과 상기 근사 다항식의 값들 간 L2-norm에 기초하여 결정되는,암호문 처리 장치
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제12항에 있어서,상기 하나 이상의 프로세서는홀수 차수항들로 구성된 상기 근사 다항식을 결정하는,암호문 처리 장치
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제12항에 있어서,상기 하나 이상의 프로세서는체비셰프 다항식을 기저로 한 상기 근사 다항식을 결정하는,암호문 처리 장치
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제12항에 있어서,상기 복수의 샘플들은상기 모듈러스 리덕션에 대응하는 함수 중 기준점을 중심으로 대칭 형태를 가진 조각 연속 구간에서 추출되는,암호문 처리 장치
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제19항에 있어서,상기 복수의 샘플들은상기 조각 연속 구간에서 상기 기준점에 의해 나누어진 일부분에서 추출되는,암호문 처리 장치
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