| 1 |
1
진공 챔버; 상기 진공 챔버 내에 배치되는 적어도 하나의 선형 도선;상기 선형 도선에 직류 전류를 제공하는 직류 전원; 및상기 선형 도선을 감싸도록 배치되어 상기 선형 도선의 전류의 방향에 반대 방향으로 전자를 방출하는 적어도 하나의 코어 필라멘트를 포함하는 플라즈마 장치
|
| 2 |
2
제1 항에 있어서,상기 선형 도선은 서로 나란히 연장되는 제1 선형 도선 및 제2 선형 도선을 포함하고,상기 코어 필라멘트는 상기 제1 선형 도선에 배치되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 장치
|
| 3 |
3
제1 항에 있어서,상기 진공 챔버는 원통 형상이고,복수의 선형 영구 자석은 상기 진공 챔버의 외주면에서 방위각 방향으로 일정한 간격으로 쌍극자를 형성하도록 배치되고,상기 선형 자석 각각은 상기 진공 챔버의 길이 방향으로 연장되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 장치
|
| 4 |
4
제3 항에 있어서,상기 진공 챔버는 상기 진공 챔버의 양단에서 상기 진공 챔버를 밀봉하는 한 쌍의 엔드 플레이트를 포함하고,상기 엔드 플레이트 각각은 상기 엔드 플레이트의 제1 방향과 제2 방향을 포함하는 배치평면에서 제1 방향으로 연장되는 복수의 영구 자석을 포함하고,상기 복수의 영구 자석은 상기 제2 방향으로 일정한 간격을 가지고 나란히 배열된 것을 특징으로 하는 플라즈마 장치
|
| 5 |
5
제2 항에 있어서,상기 제1 선형 도선에 흐르는 제1 전류의 방향과 상기 제2 선형 도선에 흐르는 제2 전류의 방향은 동일하고, 상기 제1 전류 및 상기 제2 전류는 X- 포인트를 가진 8 자 형상의 자기장을 형성하고,상기 자기장은 상기 제1 선형 도선을 감싸는 자기력선을 가지는 코어 영역, 상기 제1 선형 도선 및 상기 제2 선형 도선을 감싸는 자기력선을 가지는 가장자리 영역, 및 상기 제2 선형 도선을 감싸는 자기력선을 가지는 제2 코어 영역으로 구분되고,플라즈마는 상기 코어 영역 또는 상기 코어 영역 및 상기 X- 포인트 근처의 상기 가장자리 영역에 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 장치
|
| 6 |
6
제1 항에 있어서, 상기 코어 필라멘트는:상기 선형 도선을 감싸도록 배치된 절연 튜브;도전성 재질로 형성되고 상기 절연 튜브를 감싸도록 배치되고 서로 이격되어 배치된 제1 및 제2 필라멘트 고정부;상기 제1 및 제2 필라멘트 고정부 사이에 병렬 연결되고 가열되어 전자를 방출하는 적어도 하나의 필라멘트; 상기 제1 필라멘트 고정부에 연결된 제1 리드 와이어; 및상기 제2 필라멘트 고정부에 연결된 제2 리드 와이어; 를 포함하고,상기 제1 필라멘트 고정부는 상기 필라멘트의 일단을 고정하고,상기 제2 필라멘트 고정부는 상기 필라멘트의 타단을 고정하고, 제1 직류 전원은 상기 제1 리드 와이어와 상기 제2 리드 와이어 사이에 연결되어 상기 필라멘트를 가열하는 전류를 제공하고,바이어스 직류 전원은 상기 제1 리드 와이어와 접지 사이에 연결되어 상기 필라멘트에 바이어스 전압을 인가하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 장치
|
| 7 |
7
제6 항에 있어서, 상기 코어 필라멘트는:상기 절연 튜브의 양단에 각각 배치된 한 쌍의 클램프를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 장치
|
| 8 |
8
제1 항에 있어서,상기 선형 도선은 절연체로 코팅되거나 피복된 것을 특징으로 하는 플라즈마 장치
|
| 9 |
9
제2 항에 있어서,상기 직류 전원은 제1 직류 전원 및 제2 직류 전원을 포함하고,상기 코어 필라멘트는 제1 코어 필라멘트 및 제2 코어 필라멘트를 포함하고,상기 제1 선형 도선은 상기 제1 직류 전원에 의하여 상기 제1 전류를 공급받고,상기 제2 선형 도선은 상기 제2 직류 전원에 의하여 상기 제2 전류를 공급받고,상기 제1 코어 필라멘트는 상기 제1 선형 도선을 감싸도록 배치되고,상기 제2 코어 필라멘트는 상기 제2 선형 도선을 감싸도록 배치되고,상기 제1 전류와 상기 제2 전류는 동일한 방향인 것을 특징으로 하는 플라즈마 장치
|
| 10 |
10
제2 항에 있어서,상기 코어 필라멘트는 제1 코어 필라멘트 및 제2 코어 필라멘트를 포함하고,상기 제1 선형 도선 및 상기 제2 선형 도선은 직렬 연결되고,상기 제1 코어 필라멘트는 상기 제1 선형 도선을 감싸도록 배치되고,상기 제2 코어 필라멘트는 상기 제2 선형 도선을 감싸도록 배치되고,상기 제1 전류와 상기 제2 전류는 서로 반대 방향인 것을 특징으로 하는 플라즈마 장치
|
| 11 |
11
제1 항에 있어서,상기 선형 도선은 복수 개이고 서로 나란히 연장되고,서로 이웃한 선형 도선들은 직렬 연결되고, 이웃한 선형 도선들에 흐르는 전류는 서로 반대 방향이고,복수의 선형 도선들 각각에 코어 필라멘트들이 배치되고,상기 코어 필라멘트들은 대응하는 선형 도선에 전자를 방출하여 표류하도록 상기 선형 도선의 양단 중 어느 하나에 배치되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 장치
|
| 12 |
12
제1 항에 있어서,상기 진공 챔버는:반원통의 상부원통;상기 상부 원통의 하부면에서 연장되는 외측으로 연장되는 직육면체 형상의 메인 챔버;상기 상부원통을 마주보도록 상기 메인 챔버의 하측에 결합하는 반원통의 하부 원통을 포함하고,상기 제1 선형 도선은 상기 상부 원통에 배치되고,상기 제2 선형 도선은 상기 하부 원통에 배치되고,기판은 상기 메인 챔버에 배치되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 장치
|
| 13 |
13
제1 항에 있어서,상기 진공 챔버는:상부 챔버; 및 상기 상부 챔버의 하부면에 외측으로 연장되는 메인 챔버; 를 포함하고,상기 선형 도선은 상기 상부 챔버에 배치되고,기판은 상기 메인 챔버에 배치되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 장치
|
| 14 |
14
제1 항에 있어서,상기 진공 챔버는:상부 챔버; 및 상기 상부 챔버의 하부면에 외측으로 연장되는 메인 챔버; 를 포함하고,상기 선형 도선은 상기 상부 챔버에 배치되고,기판은 상기 메인 챔버에 배치되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 장치
|
| 15 |
15
제1 항에 있어서,상기 진공 챔버 내부에 배치되는 가스 분사부를 더 포함하고,상기 가스 분사부는:상기 선형 도선을 감싸도록 배치되고 하부면이 개방되고 상부면에 형성된 복수의 가스 분사 노즐을 구비한 메인 가스 분사부; 및상기 메인 가스 분사부 상에 배치되고 외부로부터 가스를 공급받아 확산시키는 가스 버퍼부; 를 포함하고,상기 코어 필라멘트는 상기 메인 가스 분사부 내부에서 상기 선형 도선을 감싸도록 배치되고,기판은 상기 메인 가스 분사부 하부에 배치되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 장치
|
| 16 |
16
제1 항에 있어서,상기 진공 챔버는:상부 챔버;상기 상부 챔버의 하부면에서 외측으로 연장되는 직육면체 형상의 메인 챔버; 및상기 상부챔버를 마주보도록 상기 메인 챔버의 하측에 결합하는 하부 챔버를 포함하고,상기 제1 선형 도선은 상기 상부 챔버에 배치되고,상기 제2 선형 도선은 상기 하부 챔버에 배치되고,가속 그리드는 상기 제1 선형 도선의 하부에 배치되어 상기 전자를 가속하여 그 하부에 전자-빔 여기 플라즈마(electron beam excited plasma)를 형성하고,기판은 상기 메인 챔버에 배치되어 상기 전자-빔 여기 플라즈마에 의하여 처리되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 장치
|
