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나노다공성 리튬-금속 산화물 입자를 열처리하여 제조한 결정성 리튬-금속 산화물 입자로서,상기 결정성 리튬-금속 산화물 입자는 하기 식으로 표시되는 X선 회절법에 의해 산출한 결정화도가 70% 내지 99%인 것을 특징으로 하는, 결정성 리튬-금속 산화물 입자
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제1항에 있어서, 상기 입자는 X선 회절법에 의해 산출한 패턴에서, 18
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제1항에 있어서, 상기 입자는 X선 회절법에 의해 산출한 패턴에서, 상기 16
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제1항에 있어서, 상기 입자는 X선 회절법에 의해 산출한 패턴에서, 20
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제1항에 있어서, 상기 리튬-금속 산화물이 리튬 티타네이트(lithium titanate, LTO), 리튬 바나듐 산화물(lithium vanadium oxide, LVO), 리튬 바나듐 포스페이트(lithium-vanadium phosphate, LVP) 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된 1종인 것인 결정성 리튬-금속 산화물 입자
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제1항에 있어서,상기 리튬-금속 산화물 입자의 BET 비표면적이 10 m2/g 내지 100 m2/g인, 결정성 리튬-금속 산화물 입자
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제1항에 있어서,상기 리튬-금속 산화물 입자의 총 기공부피가 0
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제1항에 있어서,상기 리튬-금속 산화물 입자가 평균 기공크기 0 초과 3 nm 이하인 것인 결정성 리튬-금속 산화물 입자
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제1항에 있어서,상기 입자의 크기는 10 내지 900 nm인 것인, 결정성 리튬-금속 산화물 입자
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나노다공성 리튬-금속 산화물 입자를 준비하는 단계; 및상기 나노다공성 리튬-금속 산화물 입자를 열처리하는 단계를 포함하는 결정성 리튬-금속 산화물 입자의 제조방법
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제10항에 있어서,상기 열처리가 400℃ 내지 1100℃의 온도에서 수행되는 것인 결정성 리튬-금속 산화물 입자의 제조방법
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제10항에 있어서,상기 열처리가 진공 상태에서 수행되는 것인 결정성 리튬-금속 산화물 입자의 제조방법
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제10항에 있어서,상기 열처리가 산소 존재 하에서 수행되는 것인 결정성 리튬-금속 산화물 입자의 제조방법
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제10항에 있어서,상기 열처리가 0
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제10항에 있어서,상기 나노다공성 리튬-금속 산화물 입자를 준비하는 단계는,계면활성제를 용매 내에서 나노다공성 리튬-금속 산화물 전구체와 혼합하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는, 결정성 리튬-금속 산화물 입자의 제조방법
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제15항에 있어서,상기 계면활성제는 이온성 계면활성제, 양쪽이온성 계면활성제, 비이온성 계면활성제, 또는 바이오 계면활성제 또는 이들의 임의의 조합을 포함하는 것을 특징으로 하는, 결정성 리튬-금속 산화물 입자의 제조방법
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제15항에 있어서,상기 계면활성제는 비이온성 계면활성제이며,상기 비이온성 계면활성제는, PLURONIC？ L44, PLURONIC？ L61, PLURONIC？ L62, PLURONIC？ L64, PLURONIC？ F68, PLURONIC？ F87, PLURONIC？ L108, PLURONIC？ F127, PLURONIC？ P123 또는 이들의 임의의 조합을 포함하는 것을 특징으로 하는, 결정성 리튬-금속 산화물 입자의 제조방법
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제15항에 있어서,상기 열처리하는 단계 이전에, 상기 계면활성제를 제거하는 것을 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 결정성 리튬-금속 산화물 입자의 제조방법
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제10항에 있어서,상기 나노다공성 리튬-금속 산화물 입자를 준비하는 단계는,나노다공성 리튬-금속 산화물 전구체에 마이크로파를 인가하여 나노다공성 리튬-금속 산화물을 제조하는 것을 특징으로 하는, 결정성 리튬-금속 산화물 입자의 제조방법
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제1항 내지 제9항 중 어느 한 항의 결정성 리튬-금속 산화물 입자를 포함하는 전자소자용 전극
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제1항 내지 제9항 중 어느 한 항의 결정성 리튬-금속 산화물 입자를 포함하는 촉매
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