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나노다공성 리튬-금속 산화물 입자로서,상기 입자는 기공크기의 분포 곡선의 분포율 30% 내지 70%의 범위에서, W50 ± 1
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제1항에 있어서, 상기 리튬-금속 산화물이 리튬 티타네이트(lithium titanate, LTO), 리튬 바나듐 산화물(lithium vanadium oxide, LVO), 리튬 바나듐 포스페이트(lithium-vanadium phosphate, LVP), 리튬 코발트 산화물, 리튬 니켈 산화물, 리튬 망가니즈 산화물, 리튬 니켈-코발트-망가니즈 복합 산화물 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된 1종인 것인 나노다공성 리튬-금속 산화물 입자
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제1항에 있어서,상기 입자는 입자크기 분포 곡선의 분포율 20% 내지 70%의 범위에서, (0
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제3항에 있어서, 상기 입자는 D50이 1
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제1항에 있어서, 상기 입자는 구형인, 나노다공성 리튬-금속 산화물 입자
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제1항에 있어서, 상기 나노다공성 리튬-금속 산화물 입자의 BET 비표면적이 50 m2/g 내지 350 m2/g인, 나노다공성 리튬-금속 산화물 입자
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제1항에 있어서, 상기 리튬-금속 산화물 입자가 평균 기공크기 0 초과 6 nm 이하인 것인 나노다공성 리튬-금속 산화물 입자
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제1항에 있어서, 상기 나노다공성 리튬-금속 산화물 입자의 총 기공부피가 0
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제1항에 있어서, 상기 리튬-금속 산화물 입자가 마이크로 기공부피 0
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제1항에 있어서, 상기 입자는 마이크로파를 인가하여 형성된 것인, 나노다공성 리튬-금속 산화물 입자
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리튬 전구체 및 금속 전구체를 용매 내에서 혼합하여 전구체 혼합물을 제조하는 단계;상기 전구체 혼합물에 마이크로파를 인가하여 리튬-금속 산화물을 제조하는 단계; 및상기 제조된 리튬-금속 산화물을 여과하여 분말 형태의 리튬-금속 산화물을 수득하는 단계;를 포함하는 나노다공성 리튬-금속 산화물 입자의 제조방법
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제11항에 있어서, 상기 리튬 전구체가 1가 리튬 양이온을 포함하는 것인 나노다공성 리튬-금속 산화물 입자의 제조방법
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제11항에 있어서, 상기 금속 전구체가 티타늄 전구체 또는 바나듐 전구체인 것인 나노다공성 리튬-금속 산화물 입자의 제조방법
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제11항에 있어서, 상기 용매가 글리콜 용매인 것인 나노다공성 리튬-금속 산화물 입자의 제조방법
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제11항에 있어서, 상기 혼합이 상기 리튬 전구체 및 상기 금속 전구체를 1:5 ~ 5:1의 몰비로 혼합하는 것인 나노다공성 리튬-금속 산화물 입자의 제조방법
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제11항에 있어서, 상기 마이크로파가 100℃ 내지 350℃의 온도에서 인가되는 것인 나노다공성 리튬-금속 산화물 입자의 제조방법
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17
제11항에 있어서, 상기 마이크로파가 0
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제1항 내지 제10항 중 어느 한 항의 나노다공성 리튬-금속 산화물 입자를 포함하는 전자소자용 전극
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제1항 내지 제10항 중 어느 한 항의 나노다공성 리튬-금속 산화물 입자를 포함하는 흡착제
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제1항 내지 제10항 중 어느 한 항의 나노다공성 리튬-금속 산화물 입자를 포함하는 촉매
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