| 1 |
1
기판 상에 나노입자 용액을 도포하여 나노입자 용액층을 형성하는 단계; 및 다중 파장(multi-wavelength)을 갖는 레이저 빔을 광원으로 하는 베셀 빔(bessel beam)을 상기 나노입자 용액층에 조사하여 나노입자의 소결을 유도함으로써 미세 패턴을 형성하는 단계로서, 상기 베셀 빔이 각 파장에 따라 상이한 위치에 초점이 형성되고, 상기 초점들이 연결되거나 서로 인접하여 하나의 긴 초점을 형성하는 단계를 포함하는, 기판 상에 미세 패턴을 형성하는 방법
|
| 2 |
2
제 1 항에 있어서,상기 미세 패턴을 형성하는 단계 이후,잔류한 나노입자 용액을 제거하는 단계를 더 포함하는, 기판 상에 미세 패턴을 형성하는 방법
|
| 3 |
3
제 1 항에 있어서, 상기 다중 파장을 갖는 레이저 빔이 굴절되는 각도를 조절함으로써, 상기 초점들이 연결되거나 서로 인접하여 하나의 긴 초점을 형성하도록 하는 것을 특징으로 하는, 기판 상에 미세 패턴을 형성하는 방법
|
| 4 |
4
제 1 항에 있어서,상기 다중 파장을 갖는 레이저 빔을 파장에 따라 분리한 후 원하는 파장의 광만을 중첩시켜 광원으로 사용하는 것을 특징으로 하는, 기판 상에 미세 패턴을 형성하는 방법
|
| 5 |
5
제 1 항에 있어서,상기 다중 파장을 갖는 레이저 빔이 둘 이상의 단일 파장 레이저 또는 다중 파장 레이저를 중첩시켜 형성된 것을 특징으로 하는, 기판 상에 미세 패턴을 형성하는 방법
|
| 6 |
6
제 1 항에 있어서,상기 하나의 긴 초점이 2 내지 100,000의 종횡비를 갖는 것을 특징으로 하는, 기판 상에 미세 패턴을 형성하는 방법
|
| 7 |
7
제 1 항에 있어서, 상기 다중 파장을 갖는 레이저 빔의 출력이 0
|
| 8 |
8
제 1 항에 있어서,상기 다중 파장을 갖는 레이저 빔의 방출광의 파장대역이 100 내지 20,000 nm인 것을 특징으로 하는, 기판 상에 미세 패턴을 형성하는 방법
|
| 9 |
9
제 1 항에 있어서,상기 다중 파장을 갖는 레이저 빔이 아르곤(Ar) 이온 레이저, 크립톤(Kr) 이온 레이저, 아르곤-크립톤(Ar-Kr) 레이저, 헬륨-카드뮴(He-Cd) 레이저 및 구리 증기 레이저로 구성된 군으로부터 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는, 기판 상에 미세 패턴을 형성하는 방법
|
| 10 |
10
제 1 항에 있어서,상기 기판이 실리콘 웨이퍼, 쿼츠, 유리, 강화유리, SiO2, 알루미늄(Al), 철(Fe), 금(Au), 은(Ag), 구리(Cu), 티타늄(Ti), 아연(Zn), 알루미늄 산화물, 철 산화물, 금 산화물, 은 산화물, 구리 산화물, 티타늄 산화물, 아연 산화물, 폴리이미드(PI), 폴리에틸렌(PE), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리우레탄(PU), 폴리카보네이트(PC), 대리석, 화강암, 세라믹, 점토, 시멘트 및 목재로 구성된 군으로부터 선택된 1종 이상으로 이루어진 것을 특징으로 하는, 기판 상에 미세 패턴을 형성하는 방법
|
| 11 |
11
제 1 항에 있어서,상기 기판 표면의 평균 거칠기(average roughness, Ra)가 10nm 내지 1mm이고, 제곱평균제곱근 거칠기(root-mean-square roughness, Rrms)가 10nm 내지 1mm인 것을 특징으로 하는, 기판 상에 미세 패턴을 형성하는 방법
|
| 12 |
12
제 1 항에 있어서,상기 나노입자가 1 내지 1,000nm의 평균 입경을 갖는 것을 특징으로 하는, 기판 상에 미세 패턴을 형성하는 방법
|
| 13 |
13
제 1 항에 있어서,상기 나노입자가 구리(Cu), 알루미늄(Al), 철(Fe) 백금(Pt), 팔라듐(Pd), 크롬(Cr), 니켈(Ni), 금(Au), 은(Ag), 코발트(Co), 티타늄(Ti), 아연(Zn) 및 실리카로 구성된 군으로부터 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는, 기판 상에 미세 패턴을 형성하는 방법
|
| 14 |
14
제 1 항에 있어서,상기 나노입자 용액이 10nm 내지 10mm의 두께로 코팅되는 것을 특징으로 하는, 기판 상에 미세 패턴을 형성하는 방법
|
| 15 |
15
기판 상에 나노입자 용액을 도포하여 나노입자 용액층을 형성하는 단계; 및 다중 파장(multi-wavelength)을 갖는 레이저 빔을 광원으로 하는 베셀 빔(bessel beam)을 상기 나노입자 용액층에 조사하여 용매의 증발에 의해 기공을 형성시키면서 나노입자를 소결시켜 다공성 구조를 갖는 전극 구조체를 형성하는 단계로서, 상기 베셀 빔이 각 파장에 따라 상이한 위치에 초점이 형성되고, 상기 초점들이 연결되거나 서로 인접하여 하나의 긴 초점을 형성하는 단계를 포함하는, 기판 상에 다공성 전극 구조체를 형성하는 방법
|
| 16 |
16
제 15 항에 있어서, 상기 레이저의 이동 속도가 1 내지 3,000mm/s인 것을 특징으로 하는, 기판 상에 다공성 전극 구조체를 형성하는 방법
|
| 17 |
17
디스플레이의 엣지(edge)에 미세 패턴을 형성하는 방법으로서,디스플레이의 엣지에 나노입자 용액을 도포하여 나노입자 용액층을 형성하는 단계; 및 다중 파장(multi-wavelength)을 갖는 레이저 빔을 광원으로 하는 베셀 빔(bessel beam)을 상기 나노입자 용액층에 조사하여 나노입자의 소결을 유도함으로써 미세 패턴을 형성하는 단계로서, 상기 베셀 빔이 각 파장에 따라 상이한 위치에 초점이 형성되고, 상기 초점들이 연결되거나 서로 인접하여 하나의 긴 초점을 형성하는 단계를 포함하는, 디스플레이의 엣지에 미세 패턴을 형성하는 방법
|
| 18 |
18
미세 전극의 리페어 방법으로서, 결함이 있는 전극이 형성된 기판 상에 나노입자 용액을 도포하여 나노입자 용액층을 형성하는 단계; 및 다중 파장(multi-wavelength)을 갖는 레이저 빔을 광원으로 하는 베셀 빔(bessel beam)을 상기 전극의 결함 영역의 나노입자 용액층에 조사하여 나노입자의 소결을 유도함으로써 리페어 전극을 형성하는 단계로서, 상기 베셀 빔이 각 파장에 따라 상이한 위치에 초점이 형성되고, 상기 초점들이 연결되거나 서로 인접하여 하나의 긴 초점을 형성하는 단계를 포함하는, 미세 전극의 리페어 방법
|
| 19 |
19
다중 파장을 갖는 레이저 빔을 굴절시켜 상이한 파장을 갖는 다수의 광으로 분리하는 단계; 및 상기 분리된 광을 베셀 빔으로 변환시켜 다수의 초점을 갖는 베셀 빔을 형성하는 단계를 포함하되, 상기 굴절의 각도를 조절하여 상기 다수의 초점이 연결되거나 서로 인접하여 하나의 긴 초점을 형성도록 하는 것을 특징으로 하는, 고종횡비의 초점을 갖는 베셀 빔의 형성 방법
|
| 20 |
20
제 19 항에 있어서, 상기 레이저 빔의 굴절이 엑시콘 렌즈에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는, 고종횡비의 초점을 갖는 베셀빔의 형성 방법
|
