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평판형의 고체 전해질, 상기 고체 전해질의 상, 하면에 각각 배치되는 평판형의 캐소드와 애노드를 상부캡과 하부캡에 의하여 밀봉한 복수개의 유닛 셀을 적층한 평판형의 적어도 하나 이상의 유닛 스택, 및상기 유닛 셀과 상기 유닛 셀의 사이에 배치되고, 상기 유닛 셀의 밀봉부에 면압을 일정하게 인가하기 위한 면압 인가부를 포함하는 평판형 이차전지 스택
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제1항에 있어서,상기 유닛 셀의 밀봉부는, 상기 고체 전해질과 상기 상부캡 및 상기 하부캡 사이에 각각 배치되는 캐소드 밀봉부 및 애노드 밀봉부를 포함하는 평판형 이차전지 스택
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제2항에 있어서,상기 면압 인가부는 상기 캐소드 밀봉부와 상기 애노드 밀봉부에 면압을 일정하게 인가하는 평판형 이차전지 스택
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제3항에 있어서,상기 면압 인가부는 상기 유닛 셀과 이웃하는 유닛 셀 사이에 삽입 결합되는 코일 스프링 또는 웨이브 스프링으로 이루어지는 평판형 이차전지 스택
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제4항에 있어서,상기 코일 스프링 또는 상기 웨이브 스프링은 상기 유닛 셀과 동축 상에 배치되는 평판형 이차전지 스택
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제5항에 있어서,상기 코일 스프링 또는 상기 웨이브 스프링은 유닛 셀의 상기 상부캡 또는 상기 하부캡과, 이웃하는 유닛 셀의 상기 하부캡 또는 상기 상부캡의 사이에 배치되는 평판형 이차전지 스택
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제6항에 있어서,상기 상부캡은, 상기 캐소드의 상면에 배치되고 원통형태로 이루어지는 상부캡 본체와, 상기 캐소드 밀봉부의 상면에 배치되고 상기 코일 스프링이 탄성 지지되기 위한 상부 플랜지부를 포함하는 평판형 이차전지 스택
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제7항에 있어서,상기 상부 플랜지부는 상기 상부캡 본체의 외주면에 하부로 단차지면서 외측으로 연장되어 박판 형태로 이루어지는 평판형 이차전지 스택
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제8항에 있어서,상기 하부캡은, 상기 애노드의 하면에 배치되고 원통형태로 이루어지는 하부캡 본체와, 상기 애노드 밀봉부의 하면에 배치되고 상기 코일 스프링이 탄성 지지되기 위한 하부 플랜지부를 포함하는 평판형 이차전지 스택
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10
제9항에 있어서,상기 하부 플랜지부는 상기 하부캡 본체의 외주면에 상부로 단차지면서 외측으로 연장되어 박판 형태로 이루어지는 평판형 이차전지 스택
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11
제10항에 있어서,상기 코일 스프링과 상기 웨이브 스프링은 상기 상부캡 본체와 상기 하부캡 본체의 외경보다 큰 직경을 가지는 평판형 이차전지 스택
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제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서,상기 유닛 스택은 상기 유닛 셀을 복수개 수직으로 직렬로 적층한 것인 평판형 이차전지 스택
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