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일면에 패턴이 형성되어 레지스트(500)가 도포되는 스탬프(110);일면 및 타면 중 적어도 하나에 비평면부(121)가 형성되는 비평면기판(120);상기 비평면부(121)에 형성된 굴곡에 따른 자외선의 굴절을 보상하는 형상으로 형성되는 적어도 하나의 보정렌즈(130);를 포함하며,상기 비평면부(121)에 의한 자외선 굴절이 보상되도록 평행광으로 조사되는 자외선이 상기 보정렌즈(130)를 통과하면서 상기 보정렌즈(130)의 형상에 의하여 미리 굴절됨으로써 상기 레지스트(500)에 균일한 광강도를 가지는 평행광으로 도달하도록 형성되는 것을 특징으로 하는 비평면기판용 나노임프린트 노광장치
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제 1항에 있어서, 상기 비평면기판용 나노임프린트 노광장치(100)는,상기 비평면기판(120) 중 일면에 상기 비평면부(121)가 형성되고 타면에 평면부(122)가 형성되며, 상기 레지스트(500)가 상기 평면부(122)에 부착되도록,상기 비평면기판(120)의 상기 비평면부(121)가 상기 보정렌즈(130)에 대면하고, 상기 평면부(122)가 상기 스탬프(110)의 상기 레지스트(500)가 도포된 면에 대면하도록 배치되어,상기 레지스트(500)가 상기 평면부(122)에 접촉 및 밀착된 상태에서, 자외선이 상기 보정렌즈(130) 및 상기 비평면기판(120)을 순차적으로 통과하여 상기 레지스트(500)를 경화시키도록 형성되는 것을 특징으로 하는 비평면기판용 나노임프린트 노광장치
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제 2항에 있어서, 상기 비평면기판용 나노임프린트 노광장치(100)는,상기 비평면기판(120)이 투명재질로 형성되는 것을 특징으로 하는 비평면기판용 나노임프린트 노광장치
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제 2항에 있어서, 상기 비평면기판용 나노임프린트 노광장치(100)는,자외선을 조사하는 자외선조사부(140);상기 자외선조사부(140), 상기 보정렌즈(130), 상기 비평면기판(120), 상기 스탬프(110)를 순차적으로 고정 배치시키는 프레임(150);을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 비평면기판용 나노임프린트 노광장치
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제 4항에 있어서, 상기 비평면기판용 나노임프린트 노광장치(100)는,상기 비평면기판(120) 및 상기 스탬프(110)가 이격 배치되되,상기 스탬프(110)가 유연재질로 형성되며, 상기 비평면기판(120), 상기 레지스트(500), 상기 스탬프(110)의 적층체를 기준으로 상기 프레임(150) 상에서 상기 스탬프(110) 바깥쪽에 가압통로(155)가 형성되어,상기 가압통로(155)를 통한 가압에 의해 상기 스탬프(110)가 가압됨에 따라 상기 레지스트(500)가 상기 비평면기판(120)의 상기 평면부(122)에 접촉 및 밀착되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 비평면기판용 나노임프린트 노광장치
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제 1항에 있어서, 상기 비평면기판용 나노임프린트 노광장치(100)는,상기 비평면기판(120) 중 적어도 일면에 상기 비평면부(121)가 형성되고, 상기 레지스트(500)가 상기 비평면부(112)에 부착되도록,상기 스탬프(110)의 상기 레지스트(500)가 도포된 면 반대쪽이 상기 보정렌즈(130)에 대면하고, 상기 스탬프(110)의 상기 레지스트(500)가 도포된 면이 상기 비평면부(121)에 대면하도록 배치되어,상기 레지스트(500)가 상기 비평면부(121)에 접촉 및 밀착된 상태에서, 자외선이 상기 보정렌즈(130) 및 상기 스탬프(110)를 순차적으로 통과하여 상기 레지스트(500)를 경화시키도록 형성되는 것을 특징으로 하는 비평면기판용 나노임프린트 노광장치
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제 6항에 있어서, 상기 비평면기판용 나노임프린트 노광장치(100)는,상기 스탬프(110)가 투명 및 유연재질로 형성되는 것을 특징으로 하는 비평면기판용 나노임프린트 노광장치
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제 6항에 있어서, 상기 비평면기판용 나노임프린트 노광장치(100)는,자외선을 조사하는 자외선조사부(140);상기 자외선조사부(140), 상기 보정렌즈(130), 상기 스탬프(110), 상기 비평면기판(120)을 순차적으로 고정 배치시키는 프레임(150);을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 비평면기판용 나노임프린트 노광장치
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제 8항에 있어서, 상기 비평면기판용 나노임프린트 노광장치(100)는,상기 스탬프(110) 및 상기 비평면기판(120)이 이격 배치되되,상기 스탬프(110)가 유연재질로 형성되며, 상기 스탬프(110), 상기 레지스트(500), 상기 비평면기판(120)의 적층체를 기준으로 상기 프레임(150) 상에서 상기 스탬프(110) 바깥쪽에 가압통로(155)가 형성되어,상기 가압통로(155)를 통한 가압에 의해 상기 스탬프(110)가 가압됨에 따라 상기 레지스트(500)가 상기 비평면기판(120)의 상기 비평면부(121)에 접촉 및 밀착되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 비평면기판용 나노임프린트 노광장치
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제 9항에 있어서, 상기 비평면기판용 나노임프린트 노광장치(100)는,상기 가압통로(155)가 상기 보정렌즈(130) 바깥쪽에 형성되며,상기 보정렌즈(130) 상에 통공(135)이 형성되는 것을 특징으로 하는 비평면기판용 나노임프린트 노광장치
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제 10항에 있어서, 상기 비평면기판용 나노임프린트 노광장치(100)는,상기 자외선조사부(140) 및 상기 보정렌즈(130) 사이에 구비되는 투명판(160);을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 비평면기판용 나노임프린트 노광장치
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제 2항에 의한 비평면기판용 나노임프린트 노광장치(100)를 이용한 비평면기판용 나노임프린트 노광방법에 있어서,상기 스탬프(110)의 패턴이 형성된 면에 상기 레지스트(500)가 도포되는 도포단계;상기 비평면기판(120)의 상기 비평면부(121)가 상기 보정렌즈(130)에 대면하고, 상기 평면부(122)가 상기 스탬프(110)의 상기 레지스트(500)가 도포된 면에 대면하도록 배치되는 배치단계;상기 레지스트(500)가 상기 평면부(122)에 접촉 및 밀착된 상태에서, 자외선이 상기 보정렌즈(130) 및 상기 비평면기판(120)을 순차적으로 통과하여 상기 레지스트(500)를 경화시키는 경화단계;상기 레지스트(500)가 상기 비평면기판(120)의 상기 평면부(122)에 부착되고 상기 스탬프(110)가 제거되는 완료단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 비평면기판용 나노임프린트 노광방법
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제 12항에 있어서, 상기 경화단계 시,상기 스탬프(110)가 유연재질로 형성되며, 상기 비평면기판(120), 상기 레지스트(500), 상기 스탬프(110)의 적층체를 기준으로 상기 스탬프(110) 바깥쪽으로부터의 가압에 의해 상기 스탬프(110)가 가압됨에 따라,상기 레지스트(500)가 상기 비평면기판(120)의 상기 평면부(122)에 접촉 및 밀착되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 비평면기판용 나노임프린트 노광방법
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제 6항에 의한 비평면기판용 나노임프린트 노광장치(100)를 이용한 비평면기판용 나노임프린트 노광방법에 있어서,상기 스탬프(110)의 패턴이 형성된 면에 상기 레지스트(500)가 도포되는 도포단계;상기 스탬프(110)의 상기 레지스트(500)가 도포된 면 반대쪽이 상기 보정렌즈(130)에 대면하고, 상기 스탬프(110)의 상기 레지스트(500)가 도포된 면이 상기 비평면부(121)에 대면하도록 배치되는 배치단계;상기 레지스트(500)가 상기 비평면부(121)에 접촉 및 밀착된 상태에서, 자외선이 상기 보정렌즈(130) 및 상기 스탬프(110)를 순차적으로 통과하여 상기 레지스트(500)를 경화시키는 경화단계;상기 레지스트(500)가 상기 비평면기판(120)의 상기 비평면부(121)에 부착되고 상기 스탬프(110)가 제거되는 완료단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 비평면기판용 나노임프린트 노광방법
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제 14항에 있어서, 상기 경화단계 시,상기 스탬프(110)가 유연재질로 형성되며, 상기 스탬프(110), 상기 레지스트(500), 상기 비평면기판(120)의 적층체를 기준으로 상기 스탬프(110) 바깥쪽으로부터의 가압에 의해 상기 스탬프(110)가 가압됨에 따라,상기 레지스트(500)가 상기 비평면기판(120)의 상기 비평면부(121)에 접촉 및 밀착되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 비평면기판용 나노임프린트 노광방법
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