1 |
1
코어부, 쉘부 및 리간드를 포함하는 양자점으로서,상기 리간드는 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 것인, 양자점
|
2 |
2
제1항에 있어서,상기 화학식 1에서 Y는 표면 작용기로서 아민기를 포함하는 것을 특징으로 하는, 양자점
|
3 |
3
제1항에 있어서,상기 화학식 1에서, Y는 아민 화합물; 및 니트릴 화합물 및 아크릴레이트 화합물로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 화합물의 반응에 의해 형성된 것인, 양자점
|
4 |
4
제3항에 있어서, 상기 아민 화합물은 하기 화학식 2로 표시되는 화합물로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상인, 양자점
|
5 |
5
제1항에 있어서,상기 코어부 및 쉘부는 각각 독립적으로 Si, Ge, SiC, CdS, CdSe, CdTe, ZnS, ZnSe, ZnTe, PbS, PbSe, PbTe, AlP, AlAs, AlSb, InN
|
6 |
6
코어부, 쉘부 및 한자리 리간드를 포함하는 양자점을 준비하는 단계; 및상기 한자리 리간드를 하기 화학식 1로 표시되는 적어도 하나의 화합물로 치환하는 단계를 포함하는, 양자점 제조방법
|
7 |
7
제6항에 있어서,상기 화학식 1에서, Y는 표면 작용기로서 아민기를 포함하는 것을 특징으로 하는, 양자점 제조방법
|
8 |
8
제6항에 있어서,상기 화학식 1에서, Y는 아민 화합물; 및 니트릴 화합물 및 아크릴레이트 화합물로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 화합물의 반응에 의해 형성된 것인, 양자점 제조방법
|
9 |
9
제8항에 있어서, 상기 아민 화합물은 하기 화학식 2로 표시되는 화합물로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상인, 양자점 제조방법
|
10 |
10
제6항에 있어서,상기 코어부 및 쉘부는 각각 독립적으로 Si, Ge, SiC, CdS, CdSe, CdTe, ZnS, ZnSe, ZnTe, PbS, PbSe, PbTe, AlP, AlAs, AlSb, InN
|
11 |
11
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항의 양자점을 포함하는 디스플레이 소자
|