| 1 |
1
모재;상기 모재에 코팅된 질화층; 및상기 질화층 위에 코팅된 산화층;을 포함하는 코팅된 절삭 공구
|
| 2 |
2
제1항에 있어서,상기 질화층과 산화층의 두께 비는 1:0
|
| 3 |
3
제1항에 있어서,상기 산화층은,구조적 산화층; 및기능적 산화층;을 포함하고, 상기 기능적 산화층은 1 이상의 층으로 구성되고,상기 구조적 산화층과 기능적 산화층의 두께 비는 1:0
|
| 4 |
4
제1항에 있어서,상기 질화층 또는 상기 산화층은 화학적 기상 증착(Chemical Vapor Deposition, CVD) 또는 물리적 기상 증착(Physical Vapor Deposition)으로 증착되는 것을 특징으로 하는 코팅된 절삭 공구
|
| 5 |
5
제4항에 있어서,상기 화학적 기상 증착은 원자층 증착법(Atomic layer deposition)을 포함하고, 상기 물리적 기상 증착은 아크 이온 플레이팅(Arc ion plating), 마그네트론 스퍼터링(Magnetron sputtering) 또는 코 스퍼터링(Co-sputtering)을 포함하는 것을 특징으로 하는 코팅된 절삭 공구
|
| 6 |
6
모재; 및상기 모재에 코팅된 산화층;을 포함하고, 상기 산화층은,구조적 산화층; 및기능적 산화층;을 포함하고, 상기 기능적 산화층은 1 이상의 층으로 구성되고,상기 구조적 산화층과 기능적 산화층의 두께 비는 1:0
|
| 7 |
7
모재 상에 질화층을 형성하는 단계;상기 질화층 위에 산화층을 형성하는 단계; 및상기 500~700℃의 열을 가하는 단계;를 포함하는 절삭공구 코팅 방법
|
