| 1 |
1
a) 기재 상에 에폭시계 프라이머층을 형성하는 단계, b) 상기 프라이머층 상에 우레탄계 경화 조성물을 도포하고 부분경화하여 우레탄계 탑코트층을 형성하는 단계, c) 상기 탑코트층 상에 실리카 나노 입자 및 분산매를 포함하는 실리카 분산액을 분사하고 상기 탑코트층을 후경화하여 탑코트층 상에 함입된 실리카 나노 입자를 고정 부착하여 표면 조도를 가지는 입자층을 형성하는 단계 및 d) 상기 입자층 상에 실란커플링제 조성물을 도포하여 소수성 표면층을 형성하는 단계를 포함하는 초발수성 도막 형성 방법
|
| 2 |
2
제1항에 있어서, 상기 c) 단계에서, 상기 입자층은 상기 탑코트층 상에 함입된 실리카 나노 입자를 포함하는 초발수성 도막 형성 방법
|
| 3 |
3
제2항에 있어서, 상기 c) 단계에서, 상기 입자층은 상기 탑코트층 상에 함입된 실리카 나노 입자와 함입되지 않은 실리카 나노입자를 포함하여 표면 거칠기가 형성되는 것인 초발수성 도막 형성 방법
|
| 4 |
4
제3항에 있어서, 상기 c) 단계에서, 입자층의 평균 표면 거칠기는 200 내지 3,000 nm인 초발수성 도막 형성 방법
|
| 5 |
5
제3항에 있어서, 상기 b) 단계에서 조성물의 점도 조절을 통해, 상기 탑코트층의 표면 상의 실리카 나노 입자의 노출 정도를 조절하여 상기 소수성 표면층의 표면 거칠기가 제어되는 초발수성 도막 형성 방법
|
| 6 |
6
제1항에 있어서, 상기 c) 단계에서, 실리카 나노 입자의 분사는 상기 탑코트층이 완전히 경화되어 고상을 형성하기 전에 수행되는 초발수성 도막 형성 방법
|
| 7 |
7
제1항에 있어서, 상기 c) 단계에서, 실리카 분산액은 실리카 나노 입자를 1 내지 20 중량%로 포함하는 초발수성 도막 형성 방법
|
| 8 |
8
제1항 내지 제7항 중 어느 한 항의 초발수성 도막 형성 방법으로 제조되는 초발수성 도막 적층체
|
| 9 |
9
에폭시계 프라이머층; 상기 프라이머층 상에 적층되는 우레탄계 탑코트층; 상기 탑코트층 상에 적층되며, 상기 탑코트층 상에 함입된 실리카 나노 입자를 포함하는 입자층; 및 상기 입자층 상에 적층되며, 실란커플링제로 형성되는 소수성 표면층;을 포함하는 초발수성 도막 적층체
|
| 10 |
10
제9항에 있어서, 상기 탑코트층은 상기 탑코트층 상에 함입되지 않은 실리카 나노 입자를 더 포함하며, 상기 탑코트층 상에 함입된 실리카 나노 입자와 함입되지 않은 실리카 나노입자에 의해 상기 소수성 표면층의 표면 거칠기가 형성되는 초발수성 도막 적층체
|
| 11 |
11
제10항에 있어서, 상기 소수성 표면층의 평균 표면 거칠기는 200 내지 3,000 nm인 초발수성 도막 적층체
|
| 12 |
12
제11항에 있어서, 상기 소수성 표면층은 수접촉각이 100도 이상인 초발수성 도막 적층체
|
| 13 |
13
제9항에 있어서, 상기 실리카 나노 입자의 평균 크기는 200 내지 2,000 nm인 초발수성 도막 적층체
|
| 14 |
14
제9항에 있어서, 상기 프라이머층의 평균두께는 5 내지 50 ㎛이며, 상기 탑코트층의 평균두께는 10 내지 100 ㎛이며, 상기 입자층의 평균두께는 100 내지 1,000 nm이며, 상기 소수성 표면층의 평균두께는 5 내지 100 nm인 초발수성 도막 적층체
|
| 15 |
15
제14항에 있어서, 전체 두께가 15 내지 200 ㎛인 초발수성 도막 적층체
|
