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(a) 실리콘 기판의 상면에 절연층을 증착하는 단계, (b) 상기 (a) 단계에 의해 증착된 절연층 상에 네거티브 포토레지스트를 코팅하는 단계, (c) 상기 (b) 단계에 의해 코팅된 네거티브 포토레지스트에 자외선을 노광하는 단계, (d) 상기 (c) 단계에서 노광된 네거티브 포토레지스트 상에 추가적으로 네거티브 포토레지스트를 코팅하는 단계, (e) 상기 (d) 단계에서 코팅된 네거티브 포토레지스트에 자외선을 노광하는 단계, (f) 상기 (c)와 (e) 단계에서 노광된 네거티브 포토레지스트를 현상하는 처리를 수행하여 복수의 3차원 마이크로 구조를 포함하는 계층 구조의 포토레지스트 폴리머 구조체를 형성하는 단계, (g) 산소 플라즈마 폴리머 식각 장비를 이용하여 패터닝된 상기 폴리머 구조체에 다공성 구조를 형성하는 단계,(h) 다공성 구조가 형성된 상기 폴리머 구조체에 열분해 공정을 가하여 다공성 탄소 전극으로 변환하는 단계,(i) 금속 박막 증착장비를 이용하여 상기 다공성 탄소 전극에 금 나노 박막을 증착하는 단계, 그리고(j) 금 나노 박막이 증착된 상기 다공성 탄소전극에 열처리 공정을 가하여 금 나노 입자를 형성하는 단계를 포함하는 무효소 혈당센서 제조방법
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제1항에 있어서,(k) 상기 변환된 다공성 탄소 전극에 절연층을 증착하는 단계, (l) 상기 (k) 단계에서 형성된 절연층 상에 포지티브 포토레지스트를 코팅하는 단계, (m) 상기 (l) 단계에서 코팅된 포토레지스트에 자외선 노광을 하는 단계, (n) 상기 (m) 단계에서 노광된 포토레지스트를 현상하는 단계, (o) 상기 (n) 단계에서 노출된 절연층을 식각하여 제거하는 단계, 그리고(p) 포지티브 포토레지스트를 제거하는 단계를 포함하는 무효소 혈당센서 제조방법
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제1항에 있어서,상기 (i)단계는, (i-1) 상기 (h)단계에 의해 다공성 구조가 형성된 상기 다공성 탄소 전극에 네거티브 포토레지스트를 코팅하는 단계, (i-2) 상기 (i-1) 단계에서 코팅된 네거티브 포토레지스트에 자외선 노광하는 단계, (i-3) 상기 (i-2) 단계에서 노광된 포토레지스트를 현상하는 단계, (i-4) 금 박막을 증착하는 단계, (i-5) 네거티브 포토레지스트를 제거하는 단계를 더 포함하는 무효소 혈당센서 제조방법
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제1항에 있어서,상기 (i)단계에서, E-beam evaporator 또는 Sputter 중에서 어느 하나를 이용하여 상기 다공성 탄소 전극에 금속 박막을 증착하는 무효소 혈당센서 제조방법
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제1항에 있어서,상기 (j)단계에서, 상기 금 나노 박막을 10-2(torr) 이하의 진공상태에서 가열하여 상기 금 나노 입자를 생성하는 무효소 혈당센서 제조방법
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제2항에 있어서,상기 (k)단계에서, 상기 다공성 탄소 전극에 폴리머, SiO2 및 Al2O3 중에서 어느 하나에 의하여 절연층 패터닝을 처리하는 무효소 혈당센서 제조방법
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(a) 실리콘 기판의 상면에 절연층을 증착하는 단계, (b) 상기 (a) 단계에 의해 증착된 절연층 상에 네거티브 포토레지스트를 코팅하는 단계, (c) 상기 (b) 단계에 의해 코팅된 네거티브 포토레지스트에 자외선을 노광하는 단계, (d) 상기 (c) 단계에서 노광된 네거티브 포토레지스트 상에 추가적으로 네거티브 포토레지스트를 코팅하는 단계, (e) 상기 (d) 단계에서 코팅된 네거티브 포토레지스트에 자외선을 노광하는 단계, (f) 상기 (c)와 (e) 단계에서 노광된 네거티브 포토레지스트를 현상하는 처리를 수행하여 복수의 3차원 마이크로 구조를 포함하는 계층 구조의 포토레지스트 폴리머 구조체를 형성하는 단계, (g) 상기 (f)단계에 의해 형성된 상기 폴리머 구조체에 산소 플라즈마 식각 장비를 이용하여 다공성 구조를 형성하는 단계, (h) 상기 (g)단계에 의해 다공성 구조가 형성된 상기 폴리머 구조체에 금 박막을 증착하는 단계, 그리고(i) 금 박막이 증착된 다공성 폴리머 구조체를 열분해하여 금 성분이 표면에 포함된 다공성 3D 탄소 구조체로 변환하는 단계를 포함하는 무효소 혈당센서 제조방법
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제7항에 있어서,(j) 상기 변환된 다공성 탄소 전극에 절연층을 증착하는 단계, (k) 상기 (j) 단계에서 형성된 절연층 상에 포지티브 포토레지스트를 코팅하는 단계, (l) 상기 (k) 단계에서 코팅된 포토레지스트에 자외선 노광을 하는 단계, (m) 상기 (l) 단계에서 노광된 포토레지스트를 현상하는 단계, (n) 상기 (m) 단계에서 노출된 절연층을 식각하여 제거하는 단계, (o) 포지티브 포토레지스트를 제거하는 단계, 그리고 (p) 패터닝된 다공성 탄소 전극에 덴드라이트 형태의 금 나노 파티클을 도포하는 단계를 더 포함하는 무효소 혈당센서 제조방법
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제7항에 있어서,상기 (h)단계는,(h-1) 상기 (g)단계에 의해 다공성 구조가 형성된 상기 폴리머 구조체에 네거티브 포토레지스트를 코팅하는 단계, (h-2) 상기 (h-1) 단계에서 코팅된 네거티브 포토레지스트에 자외선 노광하는 단계, (h-3) 상기 (h-2) 단계에서 노광된 포토레지스트를 현상하는 단계, (h-4) 금 박막을 증착하는 단계, (h-5) 네거티브 포토레지스트를 제거하는 단계를 더 포함하는 무효소 혈당센서 제조방법
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제8항에 있어서,상기 (k)단계에서, 상기 절연층 패터닝은 폴리머, SiO2 및 Al2O3 중에서 어느 하나에 의하여 패터닝을 처리하는 무효소 혈당센서 제조방법
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제8항에 있어서,상기 (p)단계에서, 파동 전착 방식을 이용하여 상기 금 나노 파티클을 도포하는 무효소 혈당센서 제조방법
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제7항에 있어서,상기 (g)단계에서, 상기 폴리머 구조체는 상기 산소 플라즈마 폴리머 식각 공정 처리 시간이 기준시간 이상일 경우에 다공성 구조로 변환되며, 상기 기준시간은 200초인 무효소 혈당센서 제조방법
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