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고온부;상기 고온부 상에 위치하는 열전 소자; 및상기 열전 소자 상에 위치하며, 상기 고온부로부터 상기 열전 소자를 거쳐 전달된 열에 의해 수막(water film)이 증발되는 증발부를 포함하며,상기 증발부는,상기 수막이 바닥에 형성되며, 상기 열에 의해 상기 수막이 증발되는 증발 폰드; 및상기 증발 폰드로 상기 수막을 형성하는 유체를 공급하며, 상기 수막을 상기 증발 폰드의 바닥으로부터 설정된 높이 이하로 유지시키는 유체 공급부를 포함하는 열전 발전 장치
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제1항에서,상기 증발 폰드의 상측은 오픈(open)된 열전 발전 장치
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제2항에서,상기 유체 공급부는 베르누이 방정식을 이용하여 상기 수막을 상기 증발 폰드의 바닥으로부터 설정된 높이 이하로 유지시키는 열전 발전 장치
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제3항에서,상기 유체 공급부는,내부에 제1 높이를 가지는 상기 유체를 저장하며, 상기 증발 폰드의 바닥으로부터 제2 높이를 가지고 이격된 밀폐 구조를 가지는 저장조; 및상기 저장조로부터 상기 증발 폰드의 바닥으로 연장되며, 상기 유체가 배출되는 단부가 상기 증발 폰드의 바닥과 이웃하는 마이크로 튜브를 포함하며,상기 마이크로 튜브는 상기 단부와 이격되어 상기 증발 폰드의 바닥으로부터 상기 설정된 높이를 가지는 에어 홀(air hole)을 포함하는 열전 발전 장치
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제4항에서,상기 마이크로 튜브는,상기 저장조와 연결된 줄기 튜브; 및상기 줄기 튜브로부터 상기 증발 폰드의 테두리로 분기된 4개의 가지 튜브들을 더 포함하며,상기 에어 홀은 상기 4개의 가지 튜브들 각각에 형성된 열전 발전 장치
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제1항에서,상기 수막의 상기 증발 폰드의 바닥으로부터 상기 설정된 높이는 1mm인 열전 발전 장치
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